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三端电压控制型负阻器件(1)郭维廉(天津大学电子工程系300072)负阻器件从1952年埃伯斯(J.J.Ebers)[1]提出和1956年摩尔(J.L.MOMi)等[2]研制出晶闸管和1958年江崎[3]发现隧道二极管到现在已经近四十年了。在这一段时... 相似文献
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三端电压控制型负阻器件(4) 总被引:1,自引:0,他引:1
三端电压控制型负阻器件(4)郭维廉(天津大学电子工程系300072)第四章“∧”双极晶体管[13,14]“∧”双极晶体管(LambdaBipolarTransistor),简称LBT。是以一n沟增强型MOS管作为反馈器件与一npn型纵向双极管(主器件... 相似文献
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三端电压控制型负阻器件(7)郭维廉(天津大学电子工程系300072)第八章电压控制负阻MOS器件[2’j电压控制负阻MOS器件(Voltage-ControlledNegati、ResistanceMOSDevice)也称作“A”微分负阻MOSFET... 相似文献
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双管S型负阻器件的研究 总被引:4,自引:0,他引:4
模拟电路实验证明用两个同极性的晶体管以多种电路接法都能获得具有S型负阻特性的两端器件。在此实验基础上研制得到一种双向两端S型负阻器件(TBNRD器件)。本文还对该器件产生负阻的原因进行了理论分析。 相似文献
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提出并研制成一种新型硅三端负阻器件。该器件由一n沟耗尽型MOS管、一横向pnp双极晶体管和一个电阻集成而得。它具有“双负阻”特性和正阻区阻值易于控制等特点。由理论计算出的器件I_c—V_(CB)特性和负阻参数与实验结果符合良好。 相似文献
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提出了一种新型结构的硅光电负阻器件———光电双耦合区晶体管(photoelectricdualcoupledareatransistor,PDUCAT) ,它是由一个P+ N结光电二极管和位于两侧的两个纵向NPN管构成的.由于两个NPN管到光电二极管的距离不同,使得它们对光生空穴电流的争抢能力随外加电压的变化产生差异,同时两个NPN管电流放大系数相差较大,最终导致器件负阻现象的出现.文中对PDUCAT进行了工艺模拟和器件模拟,围绕着负阻的形成机理和影响器件性能的主要参数进行了讨论,初步建立了器件模型. 相似文献
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提出了一种新型结构的硅光电负阻器件--光电双耦合区晶体管(photoelectric dual coupled area transistor,PDUCAT),它是由一个P+N结光电二极管和位于两侧的两个纵向NPN管构成的.由于两个NPN管到光电二极管的距离不同,使得它们对光生空穴电流的争抢能力随外加电压的变化产生差异,同时两个NPN管电流放大系数相差较大,最终导致器件负阻现象的出现.文中对PDUCAT进行了工艺模拟和器件模拟,围绕着负阻的形成机理和影响器件性能的主要参数进行了讨论,初步建立了器件模型. 相似文献
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三端电压控制型负阻器件(3)郭维廉(天津大学电子工程系300072)第三章双基区晶体管[8]双基区晶体管(Dual-BaseTransistor),简称DUBAT。一般情况下它是以一横向pup双极管作为反馈器件,将其集电极与另一纵向npn双极管(作为... 相似文献
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三端电压控制型负阻器件(2)郭维廉(天津大学电子工程系300072)第二章表面控制负阻晶体管(NEGIT)[5]表面控制负阻晶体管(Surface-ControlledNesativeImpedandeTransistor),简称NEGIT是在栅控晶... 相似文献
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介绍了一种利用集成互补结型场效应管的简单复合而构成的负阻器件,并且对该负阻器件的温度特性进行了分析,为设计具有温度稳定性的负阻器件提供了有益的参考。 相似文献
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双向负阻器件的数值模拟 总被引:2,自引:0,他引:2
本文通过对双向负阻器件进行数值模拟,分析了其产生负阻的内部图象,模拟结果表明,高阻集电区厚度的减小或衬底杂质浓度的增加使负阻曲线的摆幅增大,而基区掺杂浓度的提高将使负阻曲线的峰值减小。 相似文献