空间紫外遥感仪器漫反射板真空紫外辐照特性研究

漫反射板漫反射率值的变化将直接影响空间紫外遥感仪器在轨辐射定标结果及探测结果。基于空间紫外辐照环境,构建了漫反射板真空紫外辐照特性研究装置,利用该装置对空间紫外遥感仪器AL+MgF2漫反射板的真空紫外辐照特性进行了研究。实验结果表明,真空紫外辐照加速了漫反射板漫反射率值的衰减;漫反射板在160-300nm整个波段出现衰减现象;衰减程度随辐照时间的增加不断增大;各波长处的衰减呈线性规律变化,衰减速率随波长的不同而不同。对可能引起衰减的原因进行了初步分析。     

空间紫外遥感仪器漫反射板的真空紫外辐照特性

由于漫反射板漫反射率值的变化将直接影响空间紫外遥感仪器在轨辐射定标结果,因此,对各种影响因素进行了研究.基于空间紫外辐照环境构建了漫反射板真空紫外辐照特性研究装置,利用该装置对宅间紫外遥感仪器Al MgF2漫反射板的真空紫外辐照特性进行了研究.实验结果表明,真空紫外辐照加速了漫反射板漫反射率值的衰减,漫反射板在160～300 nm整个波段出现衰减现象;衰减程度随辐照时间的增加不断增大;各波长处的衰减呈线性规律变化,衰减速率随波长的不同而不同.文中对可能引起衰减的原因进行了初步分析.     

紫外辐照对绝对辐射计锥腔吸收率的影响

为了研究紫外辐照对星载太阳辐射监测仪的绝对辐射计锥腔吸收率的影响,进行了实验室模拟测量实验。用相当于太阳紫外辐照总量的汞灯照射绝对辐射计的锥腔,定期用可同时测量镜、漫反射率的全半球反射比吸收率测量装置测量其吸收率,监测其随时间变化情况。实验结果表明:太阳辐射监测仪在风云三号卫星上例行工作一年接收的紫外辐射量,使其吸收率下降0.002%,最大下降0.003%,该结果同国外星上测量结果基本一致。本实验反映出紫外辐照对绝对辐射计锥腔的吸收率是有影响的,可为将来的星载太阳辐射监测仪优化、实验、测量和校正提供必要的参考。     

紫外-真空紫外波段的Al+MgF_2膜

Al+Mg F2 膜是真空紫外波段常用的一种反射膜。根据薄膜光学的电磁场理论计算了正入射条件下 Al+Mg F2 膜在真空紫外波段的反射率随氟化镁膜厚度的变化规律。研究了 Al+Mg F2 膜的制备工艺 ,利用 Seya-Namioka紫外 -真空紫外反射率计测得 Al+Mg F2 膜的反射率在 1 50 nm～ 34 0 nm的波段上高于 80 %。Al+Mg F2 膜制备一年后 ,其真空紫外波段的反射率未有明显变化     

基于激光辐照的铜薄膜疲劳损伤修复最佳参数研究

首先对无损伤铜薄膜试件进行疲劳试验,测得S—N曲线。然后预制疲劳损伤程度为40%的铜薄膜试件,利用准分子激光器对其进行损伤修复。通过对比激光辐照处理前后试件的剩余寿命,可以得到如下结论,对于损伤程度为40%的25μm铜薄膜试件,最佳修复能量度约为5×103J/m2,最佳脉冲个数约为30;能量密度对于修复效果的影响程度强于脉冲个数的影响程度;运用激光辐照进行损伤修复是切实可行的。     

高速钢表面真空电弧沉积ZrN薄膜的组织与性能研究

通过试验研究了在高速钢表面真空电弧沉积ZrN薄膜的组织与性能 ,分析了真空度和偏压条件对ZrN薄膜显微结构及性能的影响     

紫外-真空紫外波段的Al+MgF2膜

Al+MgF₂膜是真空紫外波段常用的一种反射膜。根据薄膜光学的电磁场理论计算了正入射条件下Al+MgF₂膜在真空紫外波段的反射率随氟化镁膜厚度的变化规律。研究了Al+MgF₂膜的制备工艺,利用Seya-Namioka紫外-真空紫外反射率计测得Al+MgF₂膜的反射率在150nm～340nm的波段上高于80%。Al+MgF₂膜制备一年后,其真空紫外波段的反射率未有明显变化。     

真空热处理对硫化锌薄膜光学与微结构特性的影响

针对电子束蒸发离子辅助沉积的硫化锌薄膜,研究了550℃以下真空热处理对其光学与微结构特性的影响。薄膜光学和微结构特性的测试分析表明:制备后薄膜为类立方结构的ZnS,在337.5nm波长处出现临界特性转折点,随着热处理温度的增加,转折波长两侧的消光系数变化规律相反,折射率和物理厚度呈现下降趋势,薄膜的禁带宽度逐渐增加;在红外波段的薄膜折射率与热处理温度的变化并不显著,在350℃下热处理时消光系数出现转折,主要是由晶粒变小的趋势所致;通过晶相分析,硫化锌薄膜经历了类立方结构到六方结构的转换,与禁带宽度的变化趋势基本一致。分析结果表明,光学特性变化的根本原因是薄膜的微结构特性变化。     

同步辐射与光学薄膜

介绍同步辐射光源及光学薄膜在其中的应用。     

样品室真空度对磁控溅射Ti膜结构的影响

本文利用场发射扫描电子显微镜和能谱仪研究不同样品室真空度条件下磁控溅射Ti沉积膜膜层的氧含量和微观结构。结果发现,当样品室真空度较低时,膜层的氧含量很高,膜层为钛的氧化物;随着真空度的提高,膜层的氧含量降低,Ti的晶粒出现;进一步提高真空度,Ti晶粒更为明显,膜层的截面呈柱状晶结构。     

Research and development of VUV optical coatings for micro mirror applications

1Introduction Duringthelastthreedecades,thedevelop mentofpowerfulUVlightsourcessuchasexci merlasers,frequencymultipliedsolidstatela sersorstoragefreeelectronlasershavegathered increasingresearcheffortsinthefieldsofUV photoninteractionwithmatteraswellasrising industrialapplicationssuchasintegratedcircuit manufacturing,microandnano materialpro cessingormedicine.Adominantdrivingforce downtotheshortestwavelengthsinthevacuum ultraviolet(VUV)spectralregionisthesemi conductormanufacturingwiththeopt…     

PECVD制备光学氮化硅薄膜均匀性分析研究

采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术制备的光学薄膜,其均匀性受到多种工艺参数的影响,在这些参数中,一类是沉积过程的工艺参数;另一类则是设备结构参数,设备结构参数决定着反应腔室内气流分布、以及电场分布等。通过改变沉积过程的工艺参数和一组正交试验,分析各个工艺参数对均匀性的影响,从而改善氮化硅薄膜均匀性。     

后处理对HfO_2薄膜光学特性及抗激光损伤阈值的影响

利用电子束蒸发技术制备了氧化铪薄膜,并分别用氧气氛下退火和激光预处理两种后处理方法对样品进行了处理。介绍了两种后处理工艺和相关的设备,测试分析了样品的透过率、吸收和抗激光损伤阈值。对比了两种后处理方法对降低吸收和提高激光损伤阈值的效果,讨论了它们的作用原理。实验结果表明,激光预处理能有效降低样品的吸收值,提高样品的抗激光损伤阈值。采用一步法(50%初始损伤阈值)预处理后,三倍频氧化铪薄膜的损伤阈值从13J/cm~2提升到15J/cm~2;采用两步法(依次50%、80%初始损伤阈值)预处理后,三倍频氧化铪薄膜的损伤阈值从13J/cm~2提升到17.5J/cm~2,损伤几率曲线整体向高通量区域平移。     

锑掺杂纳米SnO2透明导电薄膜的制备与性能研究

采用溶胶-凝胶法在Si片、已镀SiO2的钠钙硅玻璃和普通钠钙硅玻璃上镀Sb掺杂摩尔分数为8%的SnO2薄膜(ATO),在450℃热处理温度下对薄膜结构,电学、光学性能进行表征。结果表明:薄膜以四方金红石结构存在,结晶完全;方阻值随镀膜层数的增加而明显降低,12层时薄膜最低方阻值为129Ω/□,可见光平均透过率在75%以上。随着波长的增大,红外波段的反射率逐渐增大,从15%增加到55%左右。     

Al、Sn掺杂对于ZnO薄膜微结构及光学特性的影响

采用真空电子束蒸发金属薄膜及后续热氧化技术在石英衬底上分别制备出了ZnO、Al∶ZnO以及Sn∶ZnO薄膜。通过X射线衍射仪(XRD),紫外-可见分光光度计和原子力显微镜(AFM)等分析仪器对比研究了Al、Sn掺杂对ZnO薄膜结晶质量、光学性质及表面形貌的影响。测试结果表明,Al、Sn掺杂可以使薄膜结晶质量得到提高,薄膜应力部分释放,薄膜表面的粗糙度也相应增加,掺杂对薄膜光学带隙的影响在一定程度取决于金属薄膜的氧化程度,氧化充分可以使光学带隙变宽,反之则变窄。