聚四氟乙烯薄膜等离子体表面改性的研究

利用等离子体表面处理和化学接枝的方法对聚四氟乙烯（ＰＴＦＥ）薄膜表面进行了化学改性。利用ＸＰＳ研究了改性后的ＰＴＦＥ薄膜的表面结构和价键状态，并通过接触角的测定研究了表面改性对薄膜亲水性的影响。研究结果发现ＰＴＦＥ薄膜经等离子体处理后，薄膜表面的Ｃ－Ｆ键发生了断裂，形成了Ｃ－Ｃ键、Ｃ－Ｈ键及Ｃ－Ｏ键；等离子体处理后的薄膜再经丙烯酸化学处理，强亲水性的丙烯酸基被接枝到ＰＴＦＥ表面，使得ＰＴＦＥ薄膜获     

聚四氟乙烯低温等离子体表面改性与粘接性能

利用自行研制的真空低温等离子体设备对聚四氟乙烯(Teflon)薄膜材料进行表面处理,并对等离子体处理后Teflon之间粘接性能作了研究,找到了一些实用的工艺;采用静态接触角、SEM和XPS对等离子体处理前后Teflon的表面接触角、时效性、微观结构及表面成分的改变进行了分析。实验结果显示,其表面接触角随处理时间的变化存在一个最佳值,随着处理时间的进一步增加,其亲水性又开始变差。     

XPS研究氨等离子体处理的聚丙烯膜表面结构

用氨等离子体技术处理聚丙烯膜表面，并用Ｘ射线光电子能谱测定了膜表面的元素组成，相对含量和表面功能团的类型。这些表面带氨基的聚丙烯材料为固定酶技术提供了新型载体。     

电子回旋共振等离子体用于聚四氟乙烯材料表面改性

在电子回旋共振（ECR）等离子体装置中，使用Ar气，N2气，H2气和普通空气放电，对聚四氟乙烯（PTFE）材料进行表面处理以提高其表面粘结性能，详细研究了在不同的放电气压，微波功率，处理时间，气体种类的情况下，样品表面的接触角的变化，同时也讨论了样品导电性能和外观等的变化，使用红外吸收谱对样品结构处理前后的变化进行了测量，对等离子体处理的机理进行初步的讨论，使用Langmuir探针测量了Ar气和N2气等离子体中的离子密度，用能量分析器测量了离子的能量，发现在对样品的处理中，ECR等离子体的离子密度是影响表面性能的主要因素，离子能量的作用不明显。     

电子回旋共振等离子体用于聚四氟乙烯材料表面改性

在电子回旋共振 (ECR)等离子体装置中 ,使用Ar气 ,N2 气 ,H2 气和普通空气放电 ,对聚四氟乙烯 (PTFE)材料进行表面处理以提高其表面粘结性能。详细研究了在不同的放电气压 ,微波功率 ,处理时间 ,气体种类的情况下 ,样品表面的接触角的变化。同时也讨论了样品导电性能和外观等的变化。使用红外吸收谱对样品结构处理前后的变化进行了测量 ,对等离子体处理的机理进行了初步的讨论。使用Langmuir探针测量了Ar气和N2 气等离子体中的离子密度 ,用能量分析器测量了离子的能量。发现在对样品的处理中 ,ECR等离子体的离子密度是影响表面性能的主要因素 ,离子能量的作用不明显     

空气中大气压下低温等离子体对聚四氟乙烯进行表面改性的研究

建立了空气中产生大气压下辉光放电 (APGD)和介质阻挡放电 (DBD)的装置 ,通过放电的电气特性和发光特性测量 ,界定了APGD和DBD的放电特点。研究了空气中APGD和DBD对聚四氟乙烯 (PTFE)表面进行改性的效果 ,用扫描电子显微镜 (SEM)观察、接触角测量和X射线光电子能谱分析 (XPS)等手段 ,研究APGD和DBD处理后PTFE的表面特性 ,并解释了两种放电形式处理效果不同的原因。结果表明 :APGD的处理效果要优于DBD ,即APGD可以对PTFE表面进行均匀处理 ,在其表面引入更多的O元素 ,使其接触角下降到更低值。     

空气中大气压下低温等离子体对聚四氟乙烯进行表面改性的研究

建立了空气中产生大气压下辉光放电(APGD)和介质阻挡放电(DBD)的装置，通过放电的电气特性和发光特性测量，界定了APGD和DBD的放电特点。研究了空气中APGD和DBD对聚四氟乙烯(PTFE)表面进行改性的效果，用扫描电子显微镜(SEM)观察、接触角测量和X射线光电子能谱分析(XPS)等手段，研究APGD和DBD处理后PTFE的表面特性，并解释了两种放电形式处理效果不同的原因。结果表明：APGD的处理效果要优于DBD，即APGD可以对PTFE表面进行均匀处理，在其表面引入更多的O元素，使其接触角下降到更低值。     

空气等离子体处理芳砜纶纤维表面改性的研究

在空气环境下用等离子体对芳砜纶(PSA)纤维进行表面改性,研究纤维改性前后断裂强度、摩擦性能和润湿性能的变化。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线光电子能谱仪(XPS)分析纤维表面的形貌和化学元素变化。结果表明:芳砜纶纤维经等离子体改性后,纤维摩擦性能和润湿性能明显提高;纤维的断裂强度无明显变化;纤维表面碳元素含量明显下降,同比下降11.15%,氧和氮元素含量明显增加,同比分别上升49.14%和15.95%,纤维表面极性基团增加。综合考虑实验的最佳工艺参数为40Pa、100 W、2min。     

CF4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究

利用CF4射频容性耦合等离子体对硅橡胶进行表面双疏改性,用XPS技术分析了处理后硅橡胶表面成分变化,并利用接触角测量研究了表面疏水疏油改性效果.结果表明,CF4射频容性耦合等离子体通过等离子体表面氟化和剥离或刻蚀的相互竞争作用在硅橡胶表面引入大量硅氟基团和少量碳氟基团,两者协同作用使硅橡胶的疏水疏油性能得到大幅提高.     

高分子薄膜等离子体表面改性的研究

本文采用不同的等离子体改性Ｐｉ、ＰＥＴ、ＰＰ薄膜，发现经处理的薄膜的表面电阻（Ｒｓ）降低了２￣４个数量级，材料的介电损耗（ｔｇｏ）和介电常数（ε）也发生了变化。表面薄膜刻蚀深度随放电时间的延长而增加。红外分析证明在薄膜表明结构中引入了极性基团。     

单双极性辉光等离子体处理有机高分子材料

为提高有机高分子材料的表面活性, 分别采用单极性脉冲、双极性脉冲两种等离子体放电模式对三种不同有机高分子材料表面进行活化处理, 通过红外光谱和接触角测量, 探究两种不同放电模式对不同材料等离子体活化浸润性的影响, 同时考察活化后不同材料浸润性随时间的变化趋势。研究结果表明, 两种不同放电模式下活化所得表面的浸润性都得到显著提高, 双极性脉冲放电模式活化效果优于单极性脉冲放电模式;由红外光谱分析可知, 环氧树脂材料经等离子体活化后出现了分子间氢键O-H、醚键C-O-C;氰酸酯经等离子体活化后出现了氢键C-H、羧基-COOH;聚四氟乙烯经等离子体活化后出现了C-C、C-F、C-F₂、C-F₃、C-O等极性键;随保存时间的增加, 接触角均呈增大趋势, 表面亲水性能下降。     

聚合物低温等离子体表面双疏改性的研究现状

疏水疏油的聚合物材料广泛地应用于国防、工农业生产和日常生活,含氟低温等离子体对聚合物表面双疏改性的研究得到关注。文中总结了以降低聚合物表面能和改变表面粗糙度两方面来提高表面双疏性能的基本原理及相应的实验研究状况,阐明了含氟低温等离子体处理技术能在降低表面能的基础上改变聚合物表面粗糙度,是提高聚合物材料表面双疏性能的有效途径。最后,结合等离子体科学与技术的国内外发展情况,提出表面双疏理论需要进一步发展和完善的方面,展望我国在服装面料等离子体表面双疏改性的自主产业化及其它应用领域的发展前景。     

丙烯胺等离子体技术对聚碳酸酯聚氨酯的表面改性

利用丙烯胺等离子体表面修饰对聚碳酸酯聚氨酯材料进行改性研究,讨论了改性条件对材料表面亲水性和表面形态的影响,水接触角、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)测试结果表明,预处理气压、处理功率、放电时间对聚氨酯材料表面改性影响较大.经丙烯胺等离子体修饰后,材料表面的亲水性得到改善;表面形态由高度平整、光滑变为粗糙...     

低温等离子体对材料表面改性的研究现状

低温等离子体作为一种新型分子活化手段,存在着大量的、种类繁多的活性粒子,易于和材料表面发生反应,适用于材料表面的改性处理.综述了适用于材料表面改性的低温等离子体主要放电方式,每种放电方式产生低温等离子体的原理,应用范围;归纳了以低温等离子体对材料表面实施改性后对材料表面微观结构和性能的影响,包括材料的表面化学元素、润湿...     

T10钢的脉冲爆炸-等离子体表面改性

为了提高T10钢的耐磨性和表面硬度,通过脉冲爆炸-等离子体(PDP)对T10钢进行表面改性,使用光学显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)分析PDP处理前后T10钢的组织形貌,使用X射线衍射仪分析PDP处理后的试样的结构变化,使用显微维氏硬度计检测试样PDP处理前后的显微硬度,使用磨损试验机检测PDP处理前后的耐磨性能,使用电化学工作站检测试样PDP处理前后的耐腐蚀性能。结果表明:PDP处理T10钢后,在材料表层形成了外层为柱状区、内层为组织细化区双层结构的改性层,厚度约为70.71μm,显微硬度约为PDP处理前的2倍,磨损质量损失较基体减少,磨痕宽度明显减小; PDP处理前后T10钢自腐蚀电位无明显变化; PDP处理过程中试样快速加热、快速冷却且空气中N₂参与,使改性层有残余奥氏体出现,并生成新相Fe₃N,从而提高了T10钢的硬度和耐磨性; PDP前后试样耐蚀性变化不大。     

钽表面的甲烷等离子渗碳改性技术研究

为了增强钽表面的高温抗氧化、抗腐蚀性能, 使用基于空心阴极效应的离子渗碳法, 以氩气和甲烷作为渗碳气体对钽片表面进行渗碳实验, 利用X射线衍射、扫描电镜、俄歇电子能谱分别对改性层进行成分、形貌及元素化学状态等分析。实验结果表明, 在渗碳温度1300℃, 渗碳时间20 min的条件下可以得到由Ta C与Ta2C两相组成、厚度约为6μm的渗碳层, 其中表层Ta C厚度约为3.5μm, 过渡层中碳含量呈梯度分布。渗碳后样品改性层表面变得致密并消除了基体的孔洞缺陷。碳与钽的俄歇峰位变化说明渗碳过程中碳元素进入了样品表面并与钽结合, 渗碳过程中表层组分逐渐由金属钽向Ta C转变。     

RF-Ar等离子体对聚乙烯薄膜的表面改性

采用射频辉光放电氩等离子体,在工作压力为20 Pa、功率为30W的条件下对低密度聚乙烯薄膜进行了不同时间的表面处理。借助静态接触角、X射线光电子能谱仪、原子力显微镜、差示扫描量热仪对薄膜改性前后的性能进行了表征及分析。研究结果表明:氩等离子体短时间(20 s)处理便可以有效改善薄膜表面的亲水性,处理时间大于20 s后接触角的变化并不明显;处理后的薄膜表面引入了大量的含氧及少量的含氮官能团;薄膜表面所形成的交联层阻挡了极性基团的翻转,有效延长了接触角的时效性;薄膜的表面形貌和结晶度发生了变化。