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哈尔滨工业大学秦曾煌教授主编的《电工学——电子技术》下册(第四版)于1990年出版,该书是根据“电子技术(电工学Ⅱ)”课程的教学基本要求并在1987年获全国优秀教材奖的《电工学(中册)》(1981年修订本)的基础上修编的.下面谈谈我们对这本教材的一些看法. 相似文献
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在本刊每年一度的 年终读者大调查中， １９９９ 年的反馈表有一张特别 吸引我们的眼球，那就 是童诗白教授寄来的。 童先生对本刊慰勉有加， 并专门提出建议，要求 我们“进一步发挥作为 联系电子产品的生产者、 销售者和电子设备的设 计者、使用者之间的纽 带和桥梁作用。”我们当 时即萌生了访问的念头，以便当面请教，也打听到了电话、住址，但一怕打扰童先生，二因各种原因拖了下来。 天缘机巧，与童先生有往来且对编书作出了贡献的本刊编委高光天先生，日前谈及由童先生主编的《模拟电子技术基础》第三版正式出版，相约前往祝贺，一举… 相似文献
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李昕 《电气电子教学学报》1986,(2)
在使用清华大学电子学教研室编写的《模拟电子技术基础》一书讲授反馈放大器极一零点校正时,我们遇到了困难,教材309页中画出引入极一零点校正元件的电路及等效电路如图1所示。据图:在满足R_1(?)R,C(?)C_1得其中于是将此RC网络引入书中例题,则原放大电路的频率特性变成 相似文献
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电子技术基础是高等学校电气信息类专业重要的基础课,电子技术的发展对该课程及教材提出了更高的要求.本文从电子技术发展的角度,论述了康华光主编的《电子技术基础》第五版的修订背景,具体阐述了该教材模拟部分和数字部分在修订过程中新增、压缩和删减的内容以及内容的编排问题,以便读者更好地阅读和理解. 相似文献
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李昕 《电气电子教学学报》1986,(3)
在使用《模拟电子技术基础》讲授反馈放大器极一零点校正时,我们遇到了困难,“教材”在309页画出引入极一零点校正元件的电路及等效电路如图1所示,据图,在满足 相似文献
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本文介绍了国外原版教材第三版的主要特点及进行改编的背景、原则与思路,为国外教材的选择引 进和适当改编做了一定的尝试,对国内的课程建设及教材改革也是一种启发.希望通过本文与广大使用此教材的读者进行交流和探讨.使以后的工作能做得更好. 相似文献
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《电路理论基础》教材第三版的修订工作正在进行。本文介绍了本次修订的策略,与第二版相比的主要变化,旨在与读者和同行教师进行广泛交流,进一步完善修订工作。 相似文献
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出版:机械工业出版社内容简介《光子学设计基础》一书内容丰富,不仅有详尽的光子学理论基础,而且论述了许多实际的光子学应用技术。该书的显著特点是:第一,光子学既是一门纯科学,也 相似文献
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李廷禄 《电气电子教学学报》1985,(4)
《模拟电子技术基础》是电类专业的一门重要技术基础课,它所研究的对象是从半导体器件到由半导体器件组成的各种基本放大电路。近年来,由于线性集成电路的出现,《电子技术》这门课的内容就更接近于电子系及装置的设计和应用。其内容更丰富,应用更广泛了。电子技术的特点是其发展速度特别快,这样就不仅要求学生掌握本课的基本知识、基本概念和基本分析方法,同时还要及时掌握当代先进技术。如果要求在目前有限的授课时间内实现这一目的,那将是相当困难,几乎是不可能的。这就给我们提出了一个新的课题,即怎 相似文献
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新编教材《模拟电子技术基础》的编写特色 总被引：1，自引：1，他引：0
章浩平 《电气电子教学学报》2003,25(2):71-72
简要介绍了西安交通大学杨拴科教授主编的“十五”国家级规划教材《模拟电子技术基础》的编写指导思想、主要内容和主要特色。 相似文献
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周连贵 《电气电子教学学报》1985,(2)
中国的大学教育,历来都很重视知识的传授,而对能力的培养则不那么重视。多年来,虽然不少教师努力探索,也采取了若干措施,以提高学生理论联系实际的能力,但措施较少,效果并不那么显著。因此到目前为止,外国学者对中国大学生的评价是“一向缺少首创精神”。 相似文献
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EDFA的主要应用特性包括增益特性、输入输出特性、饱和特性、增益带宽特性和噪声特性等,它们与输入光功率大小、铒光纤长度及参数、泵浦功率大小及泵浦波长、信号波长等都有密切关系,本文将分别介绍之。 相似文献
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王一鸣 《电气电子教学学报》2004,26(5):119-121
讨论了秦曾煌教授主编的《电工学》第五版教材中的一道习题的解法;指出了教材中的答案及尹宝岩老师主编的电工学辅导教材中对该题的解答的错误;说明了产生错误的根源是：认为混联电路中的并联部分发生谐振时,电路的入端阻抗最大、总电流最小。 相似文献
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本文指出《电路》(五版)教材中存在一些不合理之处,其内容涉及到相量图、电路方程矩阵形式、二端口电路三个方面.文中对存在的问题进行了深入分析,给出了具体意见.论文内容对进一步提高《电路》(五版)教材质量有积极作用. 相似文献
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卞志昕 《电子工业专用设备》2006,35(6):3-5,11
对2005年公布的《国际半导体就十时微蓝图》中光刻部分进行了介绍与分析,并与之前的版本进行比较,列出了光刻技术面临的挑战和潜在技术方案。最后指出,浸入式光刻、纳米压印、极紫外光刻和ML2将是未来几年重点研究对象。 相似文献
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田梦实 《信息技术与标准化》2000,(3)
冲裁模的应用量大面广,它约占冲模总数的５０%～６０%,而冲裁间隙是冲裁模设计与制造中最重要的技术参数,它直接关系冲件的断面质量、尺寸精度、模具寿命和力能消耗。实际生产表明,冲裁间隙的合理选用对冲压生产的技术和经济效果有很大的影响。长期以来,我国没有一个统一的冲裁间隙标准,国家有关部委曾制定了各自行业的冲裁间隙标准,各种冷冲压文献资料也介绍了一些冲裁间隙数值。冷冲压行业及模具企业都希望全国有一个统一的冲裁间隙标准,国家质量技术监督局于１９９７年３月４日批准发布了ＧＢ／Ｔ１６７４３-１９９７《冲裁间隙》标准（… 相似文献
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