喹啉锌有机电致发光薄膜器件的时间特性分析

用喹啉锌（Ｚｎｑ２）作发光材料,制备出Ｇｌａｓｓ／ＩＴＯ／Ｚｎｑ２／Ａ１ 结构的有机电致发光薄膜器件,分析并测量了它的伏安时间特性,电光时间特性,并与ＬＥＤ器件的电致发光时间特性进行了比较。实验表明有机薄膜发光的电光时间效应与ＬＥＤ器件相比有其特殊性。     

喹啉梓有机电致发光薄膜器件的时间特性分析

用喹啉锌作发光材料,制备出Ｇｌａｓｓ／ＩＴＯ／Ｚｎｑ２／Ａ１结构的有机电致发光薄膜器件,分析并测量了它的伏安时间特性,电光时间特性,并与ＬＥＤ器件的电致发光时间特性进行了比较。实验表明有机薄膜发光的电光时间效应与ＬＥＤ器件相比有其特殊性。     

用干涉极值法监控有机电致发光薄膜厚度的研究

根据Ａｂｅｌｅｓ 法测量了喔星锌的折射率,为１．６９７;代替石英晶体振荡法,利用干涉极值法监控,通过真空蒸发镀制了光学厚度（ｎｄ）为５４０ｎｍ 的喔星锌有机电致发光薄膜,说明在真空蒸发下干涉极值法监控有机电致发光薄膜的膜厚是有效的。     

有机电致发光薄膜器件的研究

有机电致发光薄膜具有制备方便,驱动电压低,发光亮度高,可以与聚合物基底匹配等优点,成为目前世界显示技术的一大研究热点。论述了有机发光薄膜器件的结构、工作机理及其薄膜电致,光致发光的特性,论述了薄膜发光器件的电学特性与光学特性及其器件在脉冲电压波形驱动下的电光特性,提出了应用于显示技术的有机电致发光薄膜器件的电学于光学特性的优化方法。     

关于有机薄膜电致发光机理的定性分析

观测了有机电致发光薄膜器件的电流变化和相对应的发光变化特性 ,并作了定性分析 ,提出了类 PN结正向导通发光的有机薄膜电致发光机理的模型     

有机电致发光薄膜器件的研究

有机电致发光薄膜具有制备方便,驱动电压低,发光亮度高,可以和合物基底匹配等优点,成为目前世界显示技术的一大研究热点。论述了有机发光薄膜器件的结构、工作机理及其膜电致发光薄膜电致,光致发光的特性,论述了薄膜发光器件的电学科技司与光学特性及其器件在脉冲电压波形驱动下的电光特性,提出了应用于显示技术的有机电致光薄膜器件的电不于光学特性的优化方法。     

非平衡磁控溅射氟化类金刚石(DLC)薄膜的结构和性能

使用非平衡磁控溅射方法,以Ｃ２Ｈ２为反应气,Ｃ２Ｆ２为氟化气沉积了含氟和不含氟的类金刚石（ＤＬＣ）薄膜。用Ｘ射线光电子谱仪（ＸＰＳ）及Ｒａｍａｎ光谱仪分析薄膜的成分及结构。试验了薄膜的力学性能并讨论了组织结构对性能的影响。结果表明,含氟ＤＬＣ仍具有典型的ＤＬＣ的Ｒａｍａｎ光谱特性。氟降低薄膜中的Ｉ（Ｄ）／Ｉ（Ｇ）比率,使薄膜中的ＳＰ＾３键相对含量下降。随着氟含量的增加,ＤＬＣ的硬度下降,摩擦系数减     

全固态电致变色薄膜器件的研制

论述了全固态电致变色薄膜器件的结构和变色机理，讨论了制备工艺参数对ＷＯ３薄膜和Ｖ２Ｏ５薄膜特性的影响。提出了一种新的电致变色薄膜的锂化方法。通过电子枪蒸镀锂单质，提高了锂的离化率，从而提高了锂化效果。对ｍＬｉＦ：ｎＡｌＦ３离子导体的离子导电特性和导电机理作了进一步的研究。研制了透射式和反射式全固态电致变色薄膜器件，获得的变色调制度分别为５０％－５％和７０％－２０％，响应时间为１０ｓ－２０ｓ，寿命为     

Atlas系列巨型桥式三坐标测量机

Ａｔｌａｓ系列巨型桥式三坐标测量机美国Ｇｉｄｄｉｎｇｒ＆ＬｅｗｉｓＭｅａｓｕｒｅｍｅｎｔＳｙｓｔｅｍ公司推出的Ａｔｌａｓ系列巨型桥式三坐标测量机是该公司新开发产品。该机的测量速度快、精度高，测量空间为２．５ｍ×１２ｍ×２ｍ，横梁移动速度为３０．５ｍ／...     

化学汽相沉积法制SnO2掺杂薄膜及其气敏特性的机理研究

】文中探讨用汽相沉积法制备ＳｎＯ２掺杂薄膜的不同工艺。研究ＳｎＯ２掺杂薄膜的光谱透过率气敏特性,测试掺５％Ａｇ的ＳｎＯ２薄膜在不同比例乙醇气体气敏作用下表面电阻气敏特性曲线。结果表明,汽相沉积法制备ＳｎＯ２掺杂薄膜工艺重复性好,灵敏度高,可用于制造新型的“气敏—光透过性”型气敏传感器。     

薄膜/基体结构的纳米压痕实验及其有限元分析

利用纳米压痕实验测定了氮化钛薄膜/高速钢基体中薄膜的弹性模量和硬度,并得到了纳米压痕过程的载荷—位移曲线;根据实验所得材料参数建立了纳米压痕实验的DEFORM计算模型,利用该有限元模型分析了不同薄膜厚度的膜/基结合处的切应力分布,研究了膜/基分离的可能性大小及分离位置与薄膜厚度的关系。     

丝织构对薄膜X射线残余应力分析的影响

具有择尤取向的薄膜材料因弹性呈现各向异性,在利用X射线衍射法测定薄膜残余应力时,常发生d-sin^2ψ测试曲线的非线性振荡,无法得到准确的应力值。本文利用Voigt、Reuss和Kroner模型计算了TiN薄膜的弹性常数随ψ角的分布在低ψ角区发生的弯曲。与实测PVDTiN薄膜的应力测试曲线的弯曲情况相似,说明丝织构的确可能造成薄膜应力测试d-sin^2ψ曲线的低ψ角弯曲。     

进电端放电法对单晶硅电火花加工接触电阻的影响研究

为改善高电阻率硅的电火花线切割可加工性,提出了一种在半导体电镀金属薄膜表面放电的方法（简称进电端放电法）。首先在硅(电阻率为2.1Ω·cm)表面电镀一层铜膜,然后利用铜刷作电极,在铜膜表面进行放电,利用放电形成的高温在硅表面形成重掺杂层,以降低接触势垒。分析了表面重掺杂层的形成机理,制备了硅试件并得到了伏安曲线,结果表明,试件的进电端接触电阻明显减小。最后采用进电端放电法对电阻率为2.1Ω·cm、直径为100mm的硅锭进行电火花线切割试验,加工效率可由12mm2/min提高至30mm2/min。     

Focusing x-ray spectrograph for laser fusion experiments

X-ray spectra from laser fusion targets are normally measured with flat crystal (nonfocusing) spectrographs. We describe here the characteristics of a focusing spectrograph which is capable of recording wide band spectra with significantly higher sensitivity. Measuring spectra in the (10-11) A range from glass microballoons imploded by a two-beam Nd:Glass laser system we find intensity per unit area on film about 100 times higher with a curved mica than with a flat mica spectrograph.     

纯金膜表面等离子增强的旋光效应

为了研究棱镜的磁光特性对系统光学响应的影响,测试了单个BK7棱镜在全内反射条件下的旋光角度谱以及BK7棱镜与金膜组合构成Kretschmann结构的旋光角度谱,并根据传统光学理论分析了光谱的成因.理论分析结果表明:在单个BK7棱镜构成的全内反射结构中,棱镜底部对p波和s波产生的反射系数差异是导致系统进入全内反射临界角之前产生较强旋光效应的主要原因;在BK7棱镜与金膜组合构成的Kretschmann结构中,棱镜的磁光特性使得光波到达金膜表面之前产生了较小的s光分量,金膜表面等离子共振激发削弱了p光振幅,两种因素结合产生了一种新的表面等离子共振增强磁光效应的物理机制.实验结果表明:Kretschmann模式下,26 nm厚金膜的表面旋光角最大为1.7°,克服了传统磁光克尔效应响应较弱的缺点.     

Spectroscopy of the cross section of inelastic scattering of electrons in SiO2/Si(100) layered systems

Spectra of the cross section of inelastic scattering of electrons (product of the mean free path of inelastic scattering and its differential cross section) are obtained for SiO₂/Si(100) layered structures from experimental spectra of energy losses of reflected electrons with different energies of primary electrons. Computer simulations of the spectra of the cross section of inelastic scattering of reflected electrons for these layered structures are performed with the use of the dielectric function of the film and substrate materials. It is found that the SiO₂ layer thickness determined through comparisons of experimental and model spectra agrees with results of ellipsometric measurements.     

Explanation and correction of false step heights in amplitude modulation atomic force microscopy measurements on alkane films

We use a prototypical alkane film (n-C(32)H(66) or C32) adsorbed on a SiO(2) surface to compare step heights measured by amplitude modulation atomic force microscopy (AM-AFM) with those measured in the contact mode. The C32 film exhibits layers in which the molecules are oriented with their long axis parallel to the SiO(2) surface followed by partial layers of perpendicular molecules. We show that step heights measured in the AM and contact modes agree in all cases except where the step is between a surface formed by a layer of parallel molecules and one of perpendicular molecules. In this case, the AM mode gives a false step height that is as much as 20% lower than that measured in the contact mode and inferred from synchrotron X-ray specular reflectivity measurements. We propose that the weaker van der Waals forces between the AFM tip and a perpendicular layer compared to a parallel layer causes this discrepancy. We show how to correct the false step height by using the approximately linear relationship observed between phase angle (cantilever oscillation relative to the drive signal) and cantilever height measured in an approach curve.     

Note: epitaxial ruby thin film based photonic sensor for temperature measurement

Deposition of optical quality C-axis oriented epitaxial thin film of ruby via pulsed laser deposition technique on sapphire substrate is reported. The film is characterized by Raman spectra and photoluminescence spectra. The peak positions of R-line and the corresponding linewidth are observed to be temperature dependent. The sensitivity of R(1)-line position, υ, with the temperature, (dυ/dT), in the range of 138-368 K shows linear behavior confirming its applicability as temperature sensor.     

单色光干涉面接触润滑膜厚在线测量

提出了滑块-玻璃盘形成的面接触润滑油膜厚度光干涉在线测量方法。以单色激光为光源,根据油膜厚度变化引起平行干涉条纹平移的物理特征,基于光流和动态时间规整技术构造复合算法,测量干涉图像相邻帧空间域上一维光强曲线的位移,从而得到相邻帧之间的油膜厚度差。从零速度开始记录每一帧干涉图像对应的膜厚变化,实时计算出当前帧对应的膜厚,实现了膜厚的在线测量。当前算法的测量结果与离线膜厚测量结果进行了对比,验证了该系统的测量准确性。进行了阶跃载荷、匀加速及匀减速工况下的膜厚测量,揭示了膜厚变化规律。