多弧刀具离子镀膜工艺及设备

电弧蒸发为离子镇技术提供了一个多功能的蒸发源，它非常适用于氮化钛刀具超硬膜。从膜层性能、生产效率、加工范围等综合技术经济指标看，多弧离子镀更具有吸引力．本文论述了电弧蒸发源和多弧离子镀的特点，介绍了国内首次研制的ＤＨＤ—８００多弧刀具镀膜设备及其系列产品，工艺试验表明一次装炉φ６ｍｍ钻头 ８００支， ＴｉＮ膜厚２ｕｍ，硬度２０００Ｈｖ，寿命提高 １１．２倍．     

HCD法工具离子镀设备的研究

ＴｉＮ镀膜刀具的质量主要取决于涂层的耐磨性、附着强度、均匀而合理的涂层厚度。为了制备高质量的涂层刀具，除了刀具本身的质量和前处理外，镀膜设备的性能以及工艺参数是个关键。本文是根据我们多年来在ＨＣＤ设备和工艺方面的试验研究经验，论述了工业生产型ＨＣＤ设备的技术性能、结构特点、工艺参数、以及ＴｉＮ镀膜刀具的切削性能等。     

可组合的双镀膜室多弧离子镀膜设备

本文根据目前国内多弧离子镀设备的生产和应用情况提出了一种新的观点。对可组合的双镀膜室多弧离子镀膜设备进行了初步的探讨     

箱式光学多层镀膜机简介

一、前言 箱式镀膜机是国际上七十年代初期出现的新型镀膜设备,它不仅在结构形式上有重大的突破,排除了升降式钟罩对膜厚控制仪的影响,而且使配用大抽速的真空系统成为可能,因而设备的真空性能也有了很大的提高。国外采用微处理机的镀膜设备均已商品化,它能自动完成复杂的光学镀膜的全过程,保证了工艺参数的重复性,从而提高了镀膜零件的成品率。 八十年代初期,我国几家主要的真空设备厂也先后开始试制箱式镀膜机,北京仪器厂试制的DMF—700型箱式光学多层镀膜机于1982年12月组织了鉴定,为国内首先通过鉴定的箱式镀膜设备,现将该设备的特点…     

径流分子泵在多弧离子镀膜设备的最新应用

通过对新开发问世的径流分子泵进行介绍,其独特抽气特性,为多弧离子镀的工艺优化提供了理论依据。传统多弧离子镀的抽气工艺和镀膜工艺,是在扩散泵和涡轮分子泵抽气能力的制约下总结出来的。径流泵机组的问世,为多弧离子镀膜提供了更加宽广的镀膜工艺选择空间。这样就有必要对抽气工艺和镀膜工艺进行重组和优化,进一步提升多弧离子镀膜设备的性能和经济效益。     

VPD－400型煤油汽相干燥工艺及设备通过部级鉴定

ＶＰＤ－４００型煤油汽相干燥工艺及设备通过部级鉴定由沈阳真空技术研究所承担的机械工业部技术发展基金项目——煤油汽相干燥工艺及设备，于１９９６年３月２６日在沈阳真空技术研究所通过机械工业部工业技术发展基金委员会组织的专家鉴定，与会专家一致认为：此设备实...     

多弧真空离子镀铬设备通过省级鉴定

由浙江省玉环县金源比特科技发展有限公司开发研制的多弧真空离子镀铬设备于 2 0 0 4年 1月 4日通过浙江省科技厅组织的产品鉴定。鉴定委员会由浙江工业大学、北京师范大学、国家真空设备质检中心等真空设备行业、环保、电镀行业的七名专家组成。该设备采用多弧、多靶源、逆变式直流弧电源及双极脉冲偏压设计 ,细化颗粒电路和辅助阳极输出 ,利用等离子体技术将阴极材料蒸发出来的阴极粒子沉积在工件表面完成镀铬或 PVD的多种膜层。工艺过程采用逻辑程序自动控制。该设备镀制的工件膜层质量好 ,耐腐蚀和硬度指标均达到相关标准规定。特别是…     

彩虹薄膜等三项科研项目研制成功

最近,机械工业部沈阳真空技术研究所承担的部管科研项目—彩虹薄膜工艺,刀具镀膜和耐腐蚀泵三项科技成果通过了部级鉴定。 彩虹薄膜工艺是一项难度较大、技术较高的开发性课题。经过三年的艰苦努力,解决了主要技术关键,在试验室条件下制出150 × 150毫米的彩虹薄膜样品,其光栅条纹数为每毫米600条,深度为0.3～0.6μ(美国可板公司为每毫米560条,深度为0.lμ)。观察彩虹薄膜样品,彩虹效果优异。圆光栅制造技术是国内首创,衍射效果已达到美国八十年代水平。 DKYLZ一1000型刀具镀膜机是在一九八四年刀具镀膜工艺鉴定的基础上为满足生产需要而…     

ZB601型智能爆速仪通过鉴定

ZB601型智能爆速仪于1992年4月9日通过了技术鉴定。鉴定委员会认为:该仪器是国内第一台符合《工业炸药爆速测定方法》标准的多段智能化爆速仪,处于国内领先水平,具有实用性和推广应用价     

深圳豪威真空光电子股份有限公司 新一代ITO镀膜生产线通过鉴定验收

20 0 1年 3月 3 0日至 4月 1日在深圳举行了豪威真空光电子股份有限公司新一代 ITO镀膜生产线“SV - 1 6 80 B”型 ITO透明导电玻璃镀膜生产线鉴定验收会。我国著名真空设备专家、上海真空泵厂总工程师、中国真空学会常务理事姜燮昌教授级高工任鉴定验收委员会主任 ,委员会成员有 :牛憨笨 (院士、教授、博导 ,深圳大学光电子学研究所所长 )、李贵和 (教授 ,中国科技大学合肥同步辐射加速器实验室、安徽省真空学会理事长 )、查良镇 (教授、博导 ,清华大学电子工程系、中国真空学会常务理事 )和 Marcel Baril(教授 ,加拿大 Laval大学物理…     

高速钢刀具多弧离子镀TiN涂层研究

本文结合了刀具　ＴｉＮ涂层多弧离子镀设备（美国多弧设备公司－Ｍｕｌｔｉ－Ａｒｃａｃｕｕｍ　Ｓｙｓｔｅｍ　Ｉｎｃ．生产ＭＡＶ－３２型多弧离子镀设备）实际生产需要，在工艺允许范围内改变氮气压力、工件负偏压、靶源电流和基片温度，利用电子探针、Ｘ－射线衍射仪、透射电镜和扫描电镜等分析仪器，对ＴｉＮ涂层进行了成分、相结构及显微组织分析研究，得出了比较切合实际的评价。     

多弧离子镀高温合金防护层成分离析的研究

多弧离子镀高温合金防护层成分离析的研究沈阳工业高等专科学校（１１００４４）丁育胜，张钧，田红花１试验材料及方法在多弧离子镀膜设备上，对ＧＨ２２０高温合金试片，用成分为Ｎｉ－４９、Ｃｏ－２０．５、Ｃｒ－１７．９、Ａｌ－１１．９、Ｓｉ－０．５的靶材来制备...     

福建省安装公司ERP系统实施项目通过验收和鉴定

被列为国家“十五”科技攻关计划项目、建设部信息技术示范项目和福建省科技重点项目的“福建省工业设备安装有限公司ERP系统实施项目”,2005年2月26日在福州通过了建设部科技司组织的专家委员会的验收,同时通过了福建省科技厅组织的专家委员会的鉴定。验收委员会认为:“该项目     

不同弧源电流TiN薄膜的表面形貌及其摩擦学性能研究

本文使用AIP-01型国产多弧离子镀膜设备,采用不同的弧源电流在不锈钢衬底及Si片上制备了TiN薄膜,对其硬度、表面形貌以及摩擦系数等进行了测试,从电弧沉积的物理机制角度详细分析了弧源电流对TiN薄膜表面熔滴的影响,结果表明:随着弧源电流的增大,薄膜沉积速率增大、硬度提高,但薄膜表面熔滴(MP)数量增多、尺寸变大,表面粗糙,摩擦系数增大,因此控制最佳弧源电流来获得最好的薄膜性能是离子镀TiN薄膜的关键问题之一.     

JZH-900型钛金镀膜机研制成功

锦州真空设备厂研制的JZH-900型钛金镀膜机,及其磁控溅射氮化钛陶瓷仿金镀膜工艺,于1984年12月18日至19日通过了技术鉴定。 JZH—900型钛金镀膜机是国内第一台活性反应同轴磁控溅射氮化钛生产型设备,首次应用在陶瓷表面仿金涂层的批量生产获得成功,填补了国内空白。 该设备适用于镀制瓷质的雕塑品、艺术品、酒具、茶具等表面仿金装饰膜层,同时具有普通磁控溅射镀膜设备的所有功能。 该设备各项技术指标均已达到或优于设计指标,其性能稳定、操作方便、装容量大、工作周期短。 磁控溅射氨化钛陶瓷仿金镀膜工艺比较成熟,在国内首次成功地解…     

多层复合真空离子镀膜技术的新发展

本文回顾了多弧——磁控溅射多功能离子镀膜设备的结构和功能，并且对该设备在氮化钛掺金离子镀（IPG）方面的典型应用，做了较为详细的膜层性能分析。同时，本文了对近年来一种新型的多功能离子镀设备——复合式离子镀膜设备的结构及特点做了介绍，给出了该类型设备的典型应用场合，并且向读者介绍了使用该设备镀制的金属/金属陶瓷多层膜的优异性能。     

第五届全国工业等离子体会议暨第五届高离化磁控多弧技术研讨会及第二届PVD企校合作高层论坛在哈尔滨工业大学成功召开

正由中国力学学会等离子体技术专业委员会、哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室、中国农业机械化科学研究院以及北京大学深圳研究生院共同主办的第五届全国工业等离子体会议暨第五届高离化磁控多弧技术研讨会及第二届PVD企校合作高层论坛于2017年12月22-24日在哈尔滨成功举办。哈尔滨工业大学田修波教授担任会议主席,中国农机院汪瑞军教授和北京大学深圳研究生院吴忠振研究员担任共同主席。     

多弧离子镀膜机阴极弧源的改进及其工艺的实验研究

本文叙述了对多弧离子镀膜机阴极弧源所做的实验研究，提出了如何降低靶极工作电流、提高靶材利用率、减小蒸发粒子的颗粒度以及提高成膜质量的方法。详细介绍了在我所研制的ＨＬＺ－７５０型八个弧源的多弧离子镀膜机上所做的 ＴｉＮ超硬涂层及装饰涂层的工艺研究及实测结果。     

多弧沉积技术综述

自从八十年代初多弧镀设备成功地在刀具、模具上镀氮化钛镀层以来,多弧镀受到广泛的关注。国内刀具行业纷纷引进设备,许多研究所和设备制造厂也相继研制,“多弧”热的浪潮一度掀起。如何客观地评价这一技术呢?如何合理地利用它的长处呢?本文想在目前所了解的资料的基础上作一综述。 一、多弧镀的概述 1.什么是多弧镀 多弧镀是一种利用真空电弧放电的沉积技术。但它不是空芯阴极放电的那种热电子电弧,而是一种非热电子电弧。它的电弧形式是在冷阴极表面上形成一个或多个阴极电弧斑点。过些斑点具有高的电流密度,从而使阴极材料汽化,形成金属…     

真空阴极电弧离子源磁场分析与设计

真空阴极电弧离子源是多弧离子镀膜设备的核心部件,直接影响镀膜系统的整体性能。真空阴极电弧离子源在工作时,大液滴发射是阻碍电弧离子镀技术广泛深入应用的瓶颈问题。合理设计并利用磁场可以很好地控制弧斑运动,大幅度地减少液滴、减小液滴尺寸、提高膜层质量和使用寿命。对真空阴极电弧离子源的附加磁场进行了理论分析和仿真计算,为附加磁场的优化设计提供了重要的指导依据。