磁控溅射镀膜技术在铝合金制品装饰镀中的应用

磁控溅射镀膜技术广泛应用于高档产品零/部件表面的装饰镀中。采用磁控溅射镀膜技术在铝合金基材上镀制Ti/TiN/TiCN复合薄膜,研究了氮气流量、乙炔流量及沉积时间等工艺参数对制备TiCN薄膜颜色的影响,探讨了提高复合薄膜的显微硬度、结合强度并进而改善铝合金表面装饰性和防护性的途径。研究结果表明,通过控制氮气流量、乙炔流量及沉积时间可使TiCN薄膜呈现特定颜色,如仿金色;当复合薄膜膜厚达到1.5μm时,涂层铅笔硬度达到6 H,薄膜附着力达到1级,满足电子行业的测试标准。     

SiO2薄膜斜角蒸镀工艺研究

利用斜角蒸镀工艺镀制SiO2薄膜是获得低折射率薄膜的一个有效方法。通过电子束蒸发镀膜方式,利用自制的斜角蒸镀装置,研究了SiO2材料在斜角蒸镀工艺中薄膜倾斜角度与沉积角度的关系,薄膜沉积厚度与设定厚度的关系,薄膜折射率与沉积角度的关系。实验表明利用斜角蒸镀工艺镀制低折射率薄膜是可行的。实验得到了折射率为1.10的SiO2薄膜,并得到了重要的SiO2的折射率与沉积角度关系曲线。     

复杂腔体件表面磁控溅射镀膜关键技术的研究

多轮廓型腔结构件具有复杂的内腔,采用化学镀膜方法在对工件内腔镀膜过程中存在膜基结合力差、薄膜厚度不均匀致密、内腔死角无法镀膜以及环境污染等诸多问题。磁控溅射镀膜技术作为一种新型镀膜工艺,其镀膜均匀致密且绿色无污染,能良好地应用于多轮廓型腔结构件中。论述了不同磁控溅射镀膜方法的特点,以及磁控溅射镀膜在复杂型腔结构件中的关键技术。     

技术转让信息

DLD系列多弧离子镀膜设备 该镀膜机包括DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料(包括高速钢、工具钢及硬质合金等)的刀具。刀具经镀膜后,使     

电弧离子镀膜研制成功

<正> 电弧离子镀膜(也称多弧镀、离子键合)是一种新的镀膜方法。最近几年,始见国外报道并开始用于商业。在各种不同类型机加工刀具、耐磨件及模具表面,涂复氮化钛等硬质涂层,效果显著。我们对不同结构电弧源进行了试验改进和性能测试,该源结构简单,工作稳定。对不同材料,在不同的气、电参数下进行了电弧离子镀膜工艺实验,取得了较好结果。根据我们的工作体会,电弧离子镀膜与目前使用的离子镀膜相比较,具有如下优点:被镀材料电离率高,视不同材料。其电离率可达到50—100％。因此,被镀件可以在200℃以下温度形成附着力极好的致密膜     

多轮廓型腔结构件磁控溅射类金刚石碳膜附着机理研究

多轮廓型腔结构件具有复杂的内腔,普通镀膜方法对工件内腔镀膜过程中存在膜基结合力差、靶材利用率低、薄膜厚度不均匀致密、内腔死角无法镀膜等诸多问题。针对这些问题,研究采用多靶头旋转式柱状磁控溅射靶,在镀膜机的不同位置安装多靶多材,使靶能够自由旋转来实现复杂内腔壁定向镀膜和膜层均匀性的需要;同时采用梯度复合膜结构来改善单一膜层所存在的膜基结合力差、易于从基体上剥离等问题,通过选择合适的基片温度等磁控溅射工艺参数来提高膜与基片界面之间的附着强度,从而实现在多轮廓型腔结构件的复杂内腔壁镀厚度均匀、致密连续的功能性DLC复合薄膜。     

“把磨难和困难当成无价之宝”——无锡尚德太阳能电力有限公司董事长兼CEO施正荣

无锡尚德太阳能电力有限公司由施正荣博士于2001年1月建立,是一家集研发、生产、销售为一体的外商独资高新技术光伏企业,主要从事晶体硅太阳电池、组件、光伏系统工程、光伏应用产品的研究、制造、销售和售后服务。经过短短几年跨越式、超常规的大发展,尚德公司的产品技术和质量水平已完全达到国际光伏行业先进水平,是中国首家通过T6V、IEC、CE和UL等国际权威认证的光伏企业。     

脉冲多弧离子源的研制

脉冲多弧离子源主要用来镀制类金刚石薄膜及金属、合金膜、研究了脉冲多弧离子源的引弧方法、放电的稳定性、离子源结构对镀膜均匀性的影响。在此基础上,研制了脉冲多弧离子源,利用该源镀制了类金刚石薄膜及镍铬铁合金渐变膜。经测试,膜层性能良好。     

脉冲多弧离子源的研制

脉冲多弧离子源主要用来镀制类金刚石薄膜及金属、合金膜,研究了脉冲多弧离子源的引弧方法、放电的稳定性、离子源结构对镀膜均匀性的影响。在此基础上,研制了脉冲多弧离子源,利用该源镀制了类金刚石薄膜及镍铬铁合金渐变膜。经测试,膜层性能良好。     

技术转让信息

DLD 系列多弧离子镀膜设备该镀膜机包括 DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料     

刷镀技术的应用(四)——零件的刷镀工艺

在常用的金属材料上刷镀,最基本的工艺过程主要包括:机加工被镀表面—电净—活化—镀底层—镀尺寸层—镀工作层等几个工序。其中前三道工序称为表面预处理阶段,达对任何要刷镀的零件,几乎都是必须进行的。后面工序称为正式别镀阶段,对刷镀的零件,不一定都要进行,根据零件的材质,被镀表面的技术要求及损伤特点、镀层的厚度来确定。因此,要镀好一个零件,首先要定好表面预处理工艺,再进行镀层设计,确定镀层结构与镀层厚度,然后才能根据基体材料的性质和设计要求正确合理地制定出整个刷镀过程的工艺流程及各道工序中所用的参数。     

一种光学薄膜生产的新工艺—等离子体辅助蒸镀

离子辅助蒸镀可以改善薄膜的性能已为大家所熟知,并适用于多种镀膜材料的多层薄膜,但是由于这种工艺的总离子流较低以及商品离子流的束斑面积较小,故其幅照的基片范围是极其有限的,采用先进的等离子体源（ＡＰＳ）,就克服了上述缺陷,其总的离子流可达到５Ａ,均匀辐照基片的范围达到的１ｍ＾２,这种等离子体源通常安装在箱式镀膜机上,ＡＰＳ除了用于等离子体辅助蒸镀外,还可用于化学气相淀积工艺,例如等离子体聚合。本文对用ＡＰＳ进行等离子体辅助蒸镀工艺的原理作了叙述,同时介绍了用这种工艺镀制介质多层膜,如截止滤光片和减反射膜,其波长不发生漂移,对有机基底材料为尤其明显,加固层、减反射膜和憎水层可以三者一起加到了有机基底表面,改善了这种基底性能,而且已进行了规模生产。     

阴极电弧源镀制TiO2薄膜的研究

在真空条件下利用阴极电弧源在不同基底材料上镀制TiO2薄膜.对影响镀膜过程和膜层质量的氧气工作压强、偏压和电流等因素进行研究.经X射线结构分析结果显示TiO2薄膜主要以锐钛矿结构为主及少量的金红石结构.对TiO2薄膜的化学性质、力学性质进行了初步检测.     

808nm含铝半导体激光器的腔面镀膜

研究了高功率808nm量子阱脊型波导结构含铝半导体激光器在空气中解理时不同镀膜方法对输出激光功率的影响,讨论了半导体激光器的灾变性光学镜面损伤机理及其腔面钝化薄膜的选择特性。对半导体激光器管芯前后腔面不镀膜,前后腔面镀上反射膜和前后腔面先镀上钝化薄膜再镀腔面反射膜方法进行了对比,测试了半导体激光器的输出功率。结果表明,先镀上钝化薄膜的器件比只镀上腔面反射膜的器件输出的激光功率高36%。只镀腔面反射膜的半导体激光器器件在电流为5A时就失效了,而镀钝化膜的器件在电流为6A时仍未失效,说明镀钝化薄膜的器件能有效地防止灾变性光学损伤和灾变性光学镜面损伤。在半导体激光器芯片腔面镀上钝化薄膜是提高大功率半导体激光器输出功率的有效方法。     

光纤端面半反膜晶控镀制实践

叙述了一个利用石英晶体膜厚控制系统在光纤端面镀制半反射膜的工艺探索过程,包括膜系设计、工艺参数的修正。简要介绍了光控与晶控的特点,以实例证明了特殊情况下低温镀膜的可行性。     

光纤端面半反膜晶控镀制实践

叙述了一个利用石英晶体膜厚控制系统在光同镀制半反射膜的工艺探索过程,包括膜系设计、工艺参数的修正。简要介绍了光控与晶控的特点,以实例证明了特殊情况下低温镀膜的可行性。     

光学干涉滤光片的石英晶体膜厚自动监控技术

介绍了用石英晶体膜厚控制仪全自动生产光学干涉滤光片的系统结构、镀膜参数和主要结果。讨论了通过改进离子辅助镀膜工艺提高T iO2薄膜折射率稳定性对于应用石英晶体膜厚监控技术的重要性。     

新产品新技术

据民主德国《精密仪器技术》1986年10月号报道,英国CVC科学产品公司最近采用了一种新镀膜工艺来镀制光学元件。该公司采用这种新工艺可在金属或非金属基底上镀制一层具有金刚石一样硬的碳素薄膜。这种在真空中喷镀的膜层不仅极硬,而且在红外区还可透光,它特别适用于改善那些曝露于侵蚀性工作条件下(例如,在含砂的空气中、水下以及有金属喷溅危险的工作条件下)的光学系     

纳秒激光薄膜损伤机理和应用研究

根据我国强激光装置建设和工程任务对强激光薄膜元件的需求,基于对薄膜损伤机制的认识,同济大学提出了“全流程定量化”控制缺陷制备激光薄膜的思路。同济大学利用结构、性质可控人工小球制作定量化人工缺陷,系统研究了基板加工、超声清洗、电场模拟与调控、镀膜材料与工艺选择、镀后后处理、激光预处理、传递与保存等因素对薄膜元件激光损伤特性和损伤规律的影响。从损伤形貌和损伤规律上证实了节瘤缺陷电场增强理论模型的正确性,促进了研究人员对节瘤缺陷损伤机制的认知深度,提出了提升薄膜损伤性能的新途径,创建了新材料,实现了可兼顾环境稳定性、光谱特性和损伤特性的多功能强激光薄膜制备,有力支撑了我国强激光装置建设和激光技术的进一步提升。     

消应力消偏振胶合棱镜二向色膜的设计与制备

根据薄膜的偏振效应,运用Essential Macleod光学薄膜设计软件,完成DVD棱镜中消偏振二向色膜的设计,并采用光控法精确控制膜层厚度,制备出了满足客户要求的消偏振分光棱镜。残余应力大的薄膜容易产生脱膜现象,使得薄膜失去所需功能。为了消除薄膜应力,从膜料之间应力匹配关系及制备工艺2个方面,提出了控制薄膜应力的设计思想,并对其影响进行了讨论,利用镀膜前后光圈变化来反映膜层应力的大小。制备过程中,通过设计制作可调工装来改变镀膜有效孔径,通过调节标准块来满足非常严格的镀膜有效孔径要求。本文给出了该棱镜的消偏振膜系的设计和试验结果。