脉冲电沉积Ni-SiC复合镀工艺的研究

采用脉冲电镀在45#钢表面制备含有SiC微粒的镍基复合镀层,研究了镀液中SiC的质量浓度、脉冲平均电流密度、pH值对Ni-SiC复合镀层的影响规律.结果表明:电镀工艺条件的改变影响复合镀层中SiC的共沉积量和镀层的硬度,当镀液中SiC质量浓度为20 g/L,平均电流密度为40 A/dm2时,镀层中SiC体积分数为14.3%,硬度约为镍镀层的1.7倍.     

专利实例

电镀耐蚀性镀层两则2 0 0 4 2 0 1 　　电镀 Ni- Fe- W防护性镀层提出了一种不需加热电解液的电镀 Ni- Fe- W防护性镀层的方法。镀液组成及工艺条件如下 :硫酸镍 2 5～ 35 g/L;氯化镍 3～ 5 g/L ;硫酸铁 3～ 1 0g/L;钨酸钠 8～ 5 0 g/L;柠檬酸钠 2 0～ 1 5 0 g/L;硼酸 5～ 8g/L;硫酸镁 2 0～ 2 5 g/L;p H 6.0～ 7.0 ;电沉积的电流密度为 0 .3～ 1 .0 A/dm2。该方法可获得以下组成的合金镀层 (以质量分数表示 ) :Fe 7%～ 1 2 % ;W 1 5 %～ 65 % ;其余为 Ni。镀层的耐蚀性高 ,设备的使用寿命长。(俄罗斯专利 ) RU2 1 1 632 8- C1 ( 1…     

酸性液电镀Zn-Ni合金的操作条件对镀层中Ni含量的影响

研究了酸性电镀光亮Zn-Ni合金中ρ(Ni2 )/ρ(Zn2 )的比值、阴极电流密度、镀液温度、pH对镀层中镍的质量分数的影响。通过扫描电子显微镜(SEM)研究了镍镀层的微观形貌。结果表明,镀层含镍量随着电流密度的增大、温度升高而增大;随着镀液中pH的升高、含镍量的增大而下降。获得了最佳工艺参数:27～100g/LNiSO4.6H2O,25g/LZnCl2,100g/LNaCl,50g/LNH4Cl,25～30g/LNa3C6H5O7.2H2O,10g/LH3BO3,5mL/LL-5A添加剂,30～40mL/LL-5B添加剂,Jk=1.25～6A/dm2,θ=20～40°C,pH=4.5～6.0。     

高效高速镀硬铬工艺及应用

1.工艺特点1 )阴极电流效率高达 5 0 %～ 65 % ,沉积速度很快 ,当 JK=70 A/dm2 时 ,可达 1 80～ 2 2 0μm/h。2 )镀层硬度高 ( 90 0～ 1 2 0 0 HV) ,呈均匀密集的网状裂纹 ,耐磨性能好。3)镀液分散能力好 ,镀层厚度均匀 ,不易产生粗糙疱瘤现象 ,铬层外观青亮平滑。4)镀层与基体结合力强 ,前处理与传统工艺相似 ,操作比传统工艺容易。5 )镀液中三价铬含量允许范围宽 ,通常不需要停产电解处理三价铬。6)镀液不含氟化物 ,不含稀土元素 ,工件无低电区的腐蚀。7)可节约用电 4～ 5倍 ,提高工效 4～ 8倍 ,节省劳力 ,缩短加工周期 ,电镀综合成本大…     

专利实例

电镀锡及其合金两则　2 0 0 1 5 0 1 Sn- Bi合金镀层制造方法发明了一种 Sn- Bi合金镀层的制造方法。该方法包括以下几个步骤 ,首先在基体上电镀一层金属Bi,然后在 Bi镀层上电镀一层金属 Sn,Sn镀层的厚度为 Bi镀层厚度的 1 .5倍。最后进行两种镀层的重熔。用这种方法所获得的 Sn- Bi合金镀层具有优良的质量和很好的焊接性能。所使用的电镀液中不含螯合剂。该镀层可用于接头 ,引线头与导线、线路板等。(日本专利 ) JP1 1 2 79789- A( 1 999- 1 0 - 1 2 )2 0 0 1 5 0 2 电镀锡或锡 -铅合金镀液发明了一种新的电镀锡或锡 -铅合金镀液。镀…     

Ni-Al2O3复合镀层的微观形貌与其耐磨耐蚀性能

测试了Ni基超细Al2O3粉复合镀层的耐磨性,测定了该镀层的孔隙率和耐蚀性,用电子显微镜观察复合镀层的微观形貌。结果表明,随镀液温度升高,复合镀层晶粒细化;随电流密度的增加,复合镀层晶粒变粗。当超细氧化铝粉体全部被镍包覆且复合镀层的晶粒细致时,耐磨性最好。当复合镀层的结晶较细致或氧化铝粉的含量较高时,其孔隙率较低。在较高的镀液温度(65℃)和较高的电流密度(3.5~4 A/dm2)时,镀层的耐盐雾性能较好。     

热处理对镍–磷–金刚石复合镀层组织及摩擦学性能的影响

采用两步复合镀法在45钢上制备了镍-磷-金刚石复合镀层,即:先采用基础镀液(由NiSO_4·6H_2O 25 g/L、Na H_2PO_2·H_2O25 g/L、CH_3COONa·3H_2O 15 g/L和Na_3C_6H_5O_7·2H_2O 10 g/L组成,pH 4～5,温度80～85℃)化学镀镍-磷合金30 min,再在基础镀液中加入0.4 g/L金刚石微粒(平均粒径10μm),在机械间歇搅拌(搅拌10 s后停10 s)下复合镀10 min。然后在不同温度(150～450℃)下热处理1 h,研究热处理温度对复合镀层显微硬度、组织结构和摩擦学性能的影响。经350℃热处理的镍-磷-金刚石复合镀层的显微硬度为1 100 HV,摩擦学性能与进口摩擦垫片相当。     

全光亮化学镀镍磷合金新工艺

研制开发了一种新型的全光亮化学镀镍磷合金工艺,光亮剂对磷的沉积起到积极的促进作用,能够提高镀层中的磷含量。光亮剂的添加使镀液出光速度快、镀层光亮均匀,可以获得全光亮的镍磷合金镀层。扫描电镜和X 射线衍射分析结果表明,高磷合金镀层为非晶态结构。测试表明,镍-磷合金镀层的硬度介于290～490HV之间,且随光亮剂加入量的增加而降低。镀层磨损率在0 00396～0 00498mg/(cm2·h)之间。镀液中光亮剂含量为2mL/L时,所得镀层在10%的HCl介质中腐蚀率最低为0 0002mg/cm2·h。     

快速镀硬铬技术

介绍了快速镀硬铬技术.经实验可得,阴极电流效率达22%～26%,阴极电流密度在60 A/dm2以上,镀层硬度达1 000～1 100 HV,裂纹数200～400 条/cm2,镀层平滑、细致、光亮,且厚度均匀,镀液中不含氟化物.讨论了镀液组成、RM-82添加剂及操作条件对镀层及镀液性能的影响.     

磁带电镀镍钴磷合金工艺

表文研究了磁带电镀镍钴磷合金工艺,并成功地使用了氮化物镀液,镀液组成和操作条件如下:氯化钴90～100g/L,氯化镍90～100g/L,氯化铵80～100g/L,次亚磷酸钠8～10g/L,减应力剂1.15～0.1g/L,温度(℃)50±1,pH3.3～3.8,D_K0.8～1.2A/dMn~2,时问40min,阳极镍钴合金(Ni:Co=2:8),镀液循环过滤。所得镀层成分,镍约15～17％,钴≥80％,磷3～5％。该电镀工艺经反复试验、研究,镀层质量和磁性能均达到磁栅数显系统的实际使用要求,并且在自行设计的磁带连续电镀自动线上,镀出了商品长磁带,已满足科研和磁栅数显系统生产的需要。