C1机组锅炉的化学清洗

本文叙述了660MW中间再热机组强制循环汽包炉的炉本体采用盐酸清洗、采用磷酸和多聚磷酸盐进行漂洗钝化的清洗工艺方法。其特点在于:为减缓金属腐蚀,必需严格控制清洗工艺配方。通过缓蚀剂对比小型试验探索出:在酸洗配方和水冲洗过程中,添加适量的异抗坏血酸钠还原剂可以抑制三价铁离子对金属的腐蚀,并可避免因水冲洗时间过长而产生二次锈蚀。该工艺实际应用后效果良好,金属腐蚀速率及腐蚀总量均显著小于《火力发电厂锅炉化学清洗导则》(DL/T794—2001)所规定的标准。该工艺还探索出:在酸洗和酸洗后的冲洗水中添加异抗坏血酸钠后,能够有效抑制三价铁离子的腐蚀危害,并减少二次锈蚀的产生。     

新型余热锅炉控制系统

社会经济发展的重要支柱也是能源发展的重要归宿——电力行业,它的发展代表着一个国家经济是否发达以及发达的水平.而对于我国来说,电力行业发展主要存在着两大挑战:一是最大程度的提高燃煤电厂的综合能源利用效率,以达到进一步降低煤耗,以此来降低污染;二是逐渐降低燃煤发电比例,提高天然气等清洁能源发电比例,以此来降低环境污染.     

余热锅炉：关注钢铁余热发电推广

《工业节能“十二五”规划》指出,在钢铁行业基本普及转炉余热发电装珞和烧结机余热发电装络;在新型干法水泥生产线全部配套建设纯低温余热发电系统,重点推广玻璃熔窑余热发电技术、煤矸石烧结砖生产线余热发电技术。大中型钢铁企业余热余压利用率达到50％以上、利用副产二次能源的自发电比例达到全部用电量的50％以上。“十二五”期间,余热余压发电项目计划一共投资600亿元。     

锅炉盐酸清洗工艺探讨

本文介绍了锅炉酸洗的安全要求、清洗回路的设置、清洗前的准备工作、清洗流程及药剂配制、清洗过程监督检测控制、废液排放处理、安全措施、清洗质量验收等清洗工艺措施，保证了清洗质量。     

化学清洗时机的确定

为了解决工厂常遇到的对设备进行化学清洗时机难以确定的问题，从设备安全、正常生产和节能的角度考虑，提出包括新装设备的清洗，定期清洗，根据结垢量决定清洗时机，根据运行参数决定清洗时机，从经济上考虑等确定清洗时机的方法及其依据，推导出有关的计算公式。据此，工厂可从化学清洗获得更大效益。     

硅片的化学清洗技术

硅片经过切片、倒角、双面研磨、抛光等不同的工序加工后,其表面已受到严重的沾污,硅片清洗目的就在于清除晶片表面所有的微粒、金属离子及有机物等沾污。     

中央空调制冷机的化学清洗

阐述了中央空调制冷机结垢的类型及其产生的原因和危害,分析了中央空调制冷机的冷媒水系统、冷却水系统的化学清洗技术和操作方法。     

锅炉清洗工作技术方案的制定

本文对锅炉清洗的准备、清洗和钝化等全过程所涉及内容进行一些经验总结，并提出具体技术要求。     

浅析铜冶炼余热锅炉系统的控制策略

与其他工业锅炉相比,铜冶炼余热锅炉自动给水系统的控制难度更高.因此,文案结合实际案例,在借鉴工业锅炉的基础上,开发更具特色的铜冶炼余热锅炉自动给水控制系统,并重点介绍DCS在其中的应用,以期提高高温余热的利用率和实现节能减排的目的,以供同行借鉴.     

锅炉化学清洗技术的发展(二)--综述及相关问题分析

本文扼要阐述了作者48年来从事锅炉化学清洗研究与实践的业绩与心得.文章首先介绍了煮炉与酸洗的工艺和发展延伸,之后分析了锅炉失效的原因及化学清洗对防止腐蚀所起的重要作用,最后探讨了化学清洗的工艺、介质和时机等要素.     

锅炉化学清洗技术的发展(三)--综述及相关问题分析

本文扼要阐述了作者48年来从事锅炉化学清洗研究与实践的业绩与心得。文章首先介绍了煮炉与酸洗的工艺和发展延伸,之后分析了锅炉失效的原因及化学清洗对防止腐蚀所起的重要作用,最后探讨了化学清洗的工艺、介质和时机等要素。     

锅炉化学清洗技术的发展(二)——综述及相关问题分析

本文就COG-STN等精细线路高档LCD液晶屏狭缝液晶、电极引脚及玻璃表面的清洗,从非ODS清洗剂、清洗工艺和清洗设备三个方面进行了研究,结果表明使用半水基非ODS清洗剂Fisher2000-1和UEA-8090八槽式水基超声波清洗机清洗能满足产品品质的要求。     

氨合成塔热交换器化学清洗的研究与实践

前言 　　合成氨生产中的合成塔内件换热器是生产工艺的十分重要的设备,由于该设备结构和工艺条件的特殊性,换热器的管间工艺污垢沉积.不仅使其换热效率大大下降,而且结垢严重时往往造成被迫停车检修.有的甚至导致设备报废.……     

锅炉化学清洗技术的发展(一)--综述及相关问题分析

本文扼要阐述了作者48年来从事锅炉化学清洗研究与实践的业绩与心得。文章首先介绍了煮炉与酸洗的工艺和发展延伸,之后分析了锅炉失效的原因及化学清洗对防止腐蚀所起的重要作用,最后探讨了化学清洗的工艺、介质和时机等要素。     

金刚石膜电化学对LCD上残留有机物清洗的研究

随着微电子技术的发展,对清洗技术的要求也越来越严格。LCD由于低功耗、高画质和轻巧等优势,已作为平板显示领域的主导技术。采用金刚石膜电化学的强氧化物质对液晶盒上的残留有机物进行清洗,通过实验得出较好的清洗的氧化浓度和清洗时间,通过显微镜观察,电化学清洗能够有效去除有机物污染,对比了一般清洗与电化学清洗效果,得出了更适合清洗残留有机物的方法。     

化学清洗后的钝化处理

介绍化工设备在化学清洗后进行钝化处理的必要性以及相关的钝化处理技术的原理、钝化剂性能、处理工艺。并指出使用环保型的钝化剂是今后钝化工艺的发展方向。