共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
2.
3.
离子束溅射沉积干涉光学薄膜技术 总被引:7,自引:2,他引:5
离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量光学薄膜的一种非常重要的方法,它具有其它制膜技术所无法比拟的优点。但是,国内外对这方面的的研究和介绍甚少,且鲜见报到,本文着重介绍了离子束溅射技术的发展、原理和特征以及应用前景。 相似文献
4.
制备光学薄膜的离子源技术概述 总被引:2,自引:2,他引:2
尤大伟 《真空科学与技术学报》2009,29(1)
随着工业技术的发展及市场的需求,低能宽束离子源已广泛应用于微细加工的离子束刻蚀技术、材料改性的离子束注入混合技术和光学薄膜制备的离子束辅助镀膜技术.本文在多年该技术的实践与发展基础上,总结了制备光学薄膜的各种常用辅助镀膜离子源,其中包括考夫曼离子源、霍耳离子源、射频离子源、无栅离子源、阳极层离子源(均由我们实验室制造)的工作原理,设计要点,分析了使用时可能出现的问题及解决办法,最后从各种离子源的工作机制、工作特点、性价比、优缺点上予以比较.相信会有益于从事薄膜的工作者. 相似文献
5.
6.
7.
8.
以SmCl3·6H2O和Na2S2O3·5H2O为原料,采用电沉积法在单晶硅(100)和玻璃基板制备了SmS光学薄膜.采用XRD、AFM和紫外可见光分光光度计对薄膜进行了表征.研究了[Sm3 ]/[S2O32-]、溶液的pH值对于薄膜的物相的影响.结果表明:在[Sm3 ]/[S2O32-]=1:2,控制溶液pH值为4.50以及沉积1h的条件下,可制备出70nm厚单一晶相且表面比较平整的SmS薄膜,薄膜具有(331)方向的取向性.紫外光谱测试表明所制备的SmS薄膜具有290~300nm的紫外吸收特性,薄膜的禁带宽度约为3.6eV. 相似文献
9.
原子层沉积技术及其在光学薄膜中的应用 总被引:5,自引:0,他引:5
回顾了原子层沉积(ALD)技术的发展背景,通过分析ALD的基本工艺,并与传统薄膜制备工艺进行了对比研究.介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势.着重列举ALD在减反膜、紫外截止膜、折射率可调的薄膜、抗激光损伤薄膜及复杂结构光子晶体等方面的应用.同时指出了目前ALD工艺在光学薄膜应用中存在的主要问题,并对ALD未来的发展进行了展望. 相似文献
10.
11.
从工程的角度分析了传统斜率法判断极值点的固有局限性,然后建立监控信号的数学模型,在此基础上,运用现代数字信号处理技术和数学方法,设计了一种新的光学薄膜厚度实时监控算法. 相似文献
12.
13.
14.
超窄带滤光片制作技术 总被引:2,自引:5,他引:2
详细地介绍了超窄带滤光片的制作技术.讨论了在基底材料选择、膜系设计以及膜厚监控等方面要求的特殊性,并给出了一些滤光片设计和监控的要求.它在空间遥感尤其是在闪电探测方面具有重要的作用. 相似文献
15.
本文通过对国内聚酯薄膜(BOPET)行业现状的分析,提出了开发高端聚酯薄膜产品的行业产品结构调整方向。从重要性、市场需求和技术等角度,重点叙述了光学薄膜开发,并论证了这是我国聚酯薄膜行业产品结构调整的最佳选择。 相似文献
16.
光学材料和光学薄膜的光热表征(英文) 总被引:1,自引:0,他引:1
光热技术用来测量样品的光学和热特性。简要介绍了光热技术及其在光学薄膜测量和钛蓝宝石激光晶体表征中的应用。光热技术可以提供纯光学光谱学所无法提供的、类似光-热能量转换效率之类的信息。光热技术已被用作质量测试和改善现代光学制造的有用工具。 相似文献
17.
18.
从薄膜光学理论出发,阐述了利用光学反射比实时测量特种器件中光学薄膜厚度的原理,介绍了测试仪器,分析了测试结果。在已知基底的折射率、光学薄膜的折射率、消光系数及入射光波长的情况下,可计算出光学薄膜的反射比随厚度变化的理论曲线,实验曲线与理论曲线相比较,可实时获得薄膜的厚度信息,这对控制薄膜工艺很有益处。 相似文献
19.
实时光学薄膜膜厚监控系统研究 总被引:5,自引:2,他引:5
在光电极值法基础上采用一定的信号采集方法、数据处理和极值点判断算法,通过硬件电路和高级程序语言设计了膜厚监控系统.实验表明,该系统能够对光学薄膜镀制过程进行实时在线跟踪,以及对膜层厚度的准确控制. 相似文献
20.
LCD用光学薄膜市场最新发展动态 总被引:1,自引:0,他引:1
本文综述了薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)面板及其生产所用材料和零组件(尤其是光学薄膜)的国内外生产和市场的最新发展动态。液晶面板的上游原材料成本大约占液晶面板的70—80%,制作液晶面板需要采用各种光学薄膜,如偏光片、彩色滤色片、扩散膜、反射膜、微透镜膜片、棱镜膜、增亮膜等。本文对这些薄膜和生产偏光片的基材TAC膜、PVA膜等的发展动态分别进行叙述和分析。 相似文献