胶带粘面潜手印显现研究

胶带这种材料在当今犯罪案件中使用比例很高,在抢劫、绑架等暴力刑事犯罪案件现场中,往往可以提取到粘面遗留有案犯新鲜或陈旧手印的胶带。本文立足于探索研究新的不同种类湿粉对不同种类胶带粘面汗潜手印、不同物质手印等进行显现研究。通过实验显现效果的比较,得出显现胶带粘面汗潜手印较好的棕色湿粉、黄色湿粉、绿色湿粉和红色湿粉,对手印显现的进一步研究有重要的意义。     

真空镀膜法与传统汗潜手印显现方法联合应用研究

真空镀膜法是一种适用范围广,显现效果好的手印显现新方法,为进一步将该技术方法与传统方法有机结合,提高现场手印显出率,研究该方法与传统方法的联合应用及相互补足效果.方法:通过实验研究将真空镀膜法与传统方法联合应用对常见的渗透性客体、非渗透性客体及半渗透性客体表面汗潜手印进行显现,并比较显现效果.结果:真空镀膜法与粉末法、...     

真空金属镀膜显现手印操作技巧研究

进一步推广真空金属镀膜显现新技术。方法:采用实验的方法, 从真空金属镀膜法显现手印的最佳喷镀位置、喷镀材料的最佳用量、最佳喷镀时间及真空金属镀膜法适用的客体及手印物质范围入手, 研究真空金属镀膜显现手印技术的最佳操作技巧。结果:确定了不同喷镀位置手印喷镀效果、喷镀材料的最佳用量及不同客体的最佳喷镀时间及显现效果。结论:真空金属镀膜的最佳操作技巧可为真空金属镀膜显现手印技术进一步推广提供帮助。     

胶体金的制备及其在手印显现中的应用

采用柠檬酸钠-鞣酸还原法制备出胶体金,并用紫外可见分光光谱对胶体金粒径及形态进行了评价,结合Zeta电位分析了胶体金的稳定性,利用多重金属沉积法对玻璃表面新鲜的汗潜、油潜手印进行了显现.结果表明,合成的胶体金粒径为10～35m,且胶体金颗粒形态均一,稳定性强.多重金属沉积法具有选择性吸附强、背景污染小等特点,其显现效果与粉末法相当,甚至优于粉末法.     

油红O粉末配方对不同油脂手印的显现研究

本文作者是对油红O粉末在各种油手印显现效果进行研究,油红O被认为是目前最优良的脂肪染色染料,在脂肪中能高度溶解并使脂肪颗粒染色。本文在论述油脂手印显现原理以及手印显现技术存在问题的基础上,讨论了油红O粉末在把不同油脂手印显现的应用与发展现状。     

2.02放火、毁灭证据案现场手印的影像显现

经过火烧，烟熏的手印，其物质成分的性质发生变化，用紫外反射，光致荧光，粉末刷显等方法显现效果不佳，可以利用手印及客体的光学反射特性，配光照相显现手印。     

基于纳米荧光碳点可视化显现潜在手印的研究进展

案发现场的手印是一种重要的痕迹物证,对其进行显现或增强是提高手印可视化的主要方法。开发灵敏度高、稳定性好、抗干扰能力强和生物相容性良好的手印显现粉末是刑事科学技术人员的研究热点。近年来,一些应用于手印显现的新材料和新方法相继出现,弥补了传统显现方法的不足。其中以量子点、纳米荧光碳点、稀土转换发光纳米材料为主的发光材料在手印可视化显现中展现巨大的潜力。针对荧光材料发光特性,本文综述了纳米荧光碳点在手印可视化显现中的应用进展,阐述了纳米荧光碳点的合成和理化特性,评估了初态碳点粉末、复合型碳点粉末以及纳米碳点悬浮液应用于手印显现的效果,具体包括基于单一型碳点、掺杂型碳点、负载型碳点、核壳型碳点的粉末法手印显现以及基于小微粒纳米碳点悬浮液和基于特殊效应的纳米碳点悬浮液的手印显现方法,提出了碳点材料可能的发光机理,并就当前存在的问题提出了未来纳米荧光碳点应用于手印显现的发展方向。     

磁控溅射法沉积低辐射膜

本文讨论的低辐射薄膜是由金属氧化物／金属／金属氧化物所组成的薄膜系统，具有这种镀层的双层隔离玻璃窗，其ｋ值达到约１．８Ｗ／ｍ２·Ｋ，特别是银膜，在可见光范围内λ＝５５０ｎｍ透过率为７８％（单层玻璃），在λ＝８μｍ下所测得最大反射率不小于９５％，其相应的发射系数小于０．１。     

在高速电镀锌钢板表面磁控溅射铝镁合金

采用双靶直流磁控溅射工艺,在高速电镀锌基片上制备了铝镁合金镀层.用SEM,EDS和XRD方法分析了镀层的形貌和组分,借助电化学试验和中性盐雾(NSS)试验研究了靶功率和衬底温度对镀层耐蚀性的影响.结果表明:随着衬底温度升高,镀层趋于致密,但球状颗粒增多,自腐蚀电流密度略有增加;铝靶的功率为900W,镁靶的功率为200W,衬底温度为150℃时镀层的耐蚀性最优,自腐蚀电流密度约为4μAcm-2,耐中性盐雾时间为120 h,经分析,镀层组分主要为Al12Mg17.     

纳米硅薄膜及磁控溅射法沉积

纳米硅薄膜具有卓越的光学和电学特性,其在光电器件方面潜在的应用越来越引起人们的兴趣.讨论了用磁控溅射法制备纳米硅薄膜的微观机理及沉积参数对薄膜结构和性能的影响.其中,氢气分压、基片温度、溅射功率是磁控溅射法沉积纳米硅的关键参数,适当的温度、较高的氢气分压和较低的溅射功率有利于纳米硅的生成.     

直流反应磁控溅射制备氧化铅薄膜

通过直流反应磁控溅射的方法制备了氧化铅薄膜，并通过XRD和紫外-可见光（UV-Vis）吸收谱对薄膜的晶体结构和光学性能进行了表征。我们发现，直流反应磁控溅射金属铅靶可以形成三种氧化铅薄膜，即非晶态PbO，正交晶系的β-PbO，以及四方晶系的Pb3O4。X射线衍射结果表明，衬底温度和氧气流量对薄膜的生长有很大的影响。当衬底温度小于300℃时，薄膜呈非晶状态，当衬底温度超过300℃时，薄膜开始结晶。另外，氧气流量的改变引起薄膜晶体结构的明显变化。当氧气流量较小时，薄膜为立方相结构的PbO；随着氧气流量的增加，薄膜的晶体结构发生改变，生成四方相结构的Pb3O4的薄膜。UV-Vis吸收谱测试结果表明，不同条件下制备的氧化铅薄膜的UV-Vis吸收谱明显不同。     

非平衡磁控溅射类金刚石薄膜的特性

非平衡磁控溅射(UBMS)结合了普通磁控溅射(MS)和离子束辅助沉积的优势,易于实现离子镀,近年来得到了广泛的应用.采用该技术制备的类金刚石薄膜(DLC)具有许多独特的性质.本文研究了非平衡磁控溅射技术制备DLC薄膜的光学、机械,电学和化学性能.研究表明,非平衡磁控溅射制备的DLC膜具有较宽的光谱透明区,且表面光滑、摩擦系数小、耐磨损、抗化学腐蚀,同时具有较高的电阻率和良好的稳定性.     

工艺参数对磁控溅射TiN膜成分影响的研究

在不同的工艺参数条件下 ,采用磁控溅射技术制备了大量的TiN膜样品。通过对实验结果的仔细分析 ,得出了膜层颜色与氩气分压无关 ,而与溅射功率和氮气分压的比值有关的结论 ,并得到了微观结构分析的证实。对磁控溅射法制备TiN膜技术具有一定的参考价值     

反应磁控溅射法制备氧化铟锡钽薄膜

利用掺锡氧化铟(ITO)靶和Ta2O5靶双靶共溅法制备了氧化铟锡钽(ITTO)薄膜,研究了在不同衬底温度和退火温度下ITTO薄膜的微结构和光电性能。ITTO薄膜具有更好的晶化程度和较低的表面粗糙度,不同的处理过程导致了晶面择优取向的转变。室温下制备的ITTO薄膜展示了较好的光电性能,提高衬底温度和合理的退火处理可以显著地提高薄膜的光电特性。载流子浓度对于近红外反射、近紫外吸收和光学禁带宽度具有重要的影响。ITTO薄膜具有较宽的光学禁带宽度。在优化制备条件下,可以获得方阻10～20Ω/□、可见光透过率大于85%以及光学禁带宽度大于4.0eV的ITTO薄膜。     

溅射气压对直流磁控溅射ZnO:Al薄膜的影响(英文)

采用直流磁控溅射法在玻璃基片上沉积ZnO:Al(AZO)薄膜,溅射气压为0.2～2.2 Pa.通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、四探针和紫外–可见分光光度计对AZO薄膜的相结构、微观形貌和电光学性质进行了表征.结果表明:薄膜的沉积速率随着溅射气压的增大而减小,变化曲线符合Keller-Simmons模型;薄膜均为六角纤锌矿结构,但择优取向随着溅射气压发生改变;溅射气压对薄膜的表面形貌有显著影响;当溅射气压为1.4 Pa时,薄膜有最低的电阻率(8.4×104 Ω·cm),高的透过率和最高的品质因子Q.     

中频磁控溅射技术制备Co-Ni合金薄膜

由于电镀硬铬对环境有一定的污染,因而选择合适的制备方式和合适的替代硬铬的材料具有一定的实际意义。本文选用Co-Ni作为硬铬的替代材料,并采用中频磁控溅射的方式在铜基底上制备Co-Ni合金薄膜,重点研究了溅射功率与Co-Ni合金薄膜的沉积速率、成分的关系,结果表明沉积速率随溅射功率的增加而增加;溅射功率在0.8~1.1 kW之间时,薄膜成分与靶材成分基本一致;并把1.1 kW时制备的Co-Ni合金薄膜的电极化腐蚀性能与电镀Cr薄膜、离子镀Cr薄膜相比较,结果表明Co-Ni合金的腐蚀电位可达到-0.245 V,具有较强的耐腐蚀性。     

射频反应磁控溅射制备低辐射薄膜

采用射频反应磁控溅射法制备了低辐射薄膜.对低辐射膜的薄膜结构的设计和测试结果表明：较合适的膜层结构是空气/二氧化钛/钛/银/二氧化钛/玻璃基片的多层结构.用扫描电镜分析了保护层钛层的作用,研究表明：银膜很容易氧化失效,失去反射红外紫外光作用,在表面镀覆钛保护层可以很好地保护银,避免银氧化,从而提高使用寿命.用分光光度计测试样品的透射率,当保护层钛层厚度为1 nm时,相应的膜系在可见光区（380 nm～780 nm）,最高透射率可达82.4%,平均透射率是75%;在近红外区（780 nm～2500 nm）的平均透射率为16.2%,可以满足建筑物幕墙玻璃等低辐射膜的要求.     

直流磁控溅射法制备掺钛氧化锌透明导电薄膜

采用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出高质量的掺钛氧化锌(ZnO:Ti)透明导电薄膜,研究了溅射功率对ZnO:Ti薄膜结构、形貌和光电性能的影响,结果表明,溅射功率对ZnO:Ti薄膜的结构和电阻率有显著影响.XRD表明,ZnO:Ti薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向.当溅射功率为130W时,实验制备的ZnO:Ti薄膜的电阻率具有最小值9.67×10~(-5)Ω·cm.实验制备的ZnO:Ti薄膜具有良好的附着性能,可见光区平均透过率超过91%.ZnO:Ti薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极.