先驱体法制备连续碳化硅纤维工业化生产的现状与展望

为了满足高性能复合材料的需求,国产连续碳化硅纤维工业化势在必行.综述了国内外先驱体法工业化制备连续碳化硅纤维的现状与产品特性,其中,国产超耐高温连续含铝碳化硅纤维关键技术已经突破,其稳定使用温度为1 600～1 800℃;氧质量分数为5%～6%的低氧含量纤维也通过两步烧成工艺制得了性能稳定的连续碳化硅纤维,其强度为2.2～2.7 GPa;并指出了连续碳化硅纤维的发展趋势.     

减摩碳化硅陶瓷基复合材料研究与制备

从提高材料摩擦和磨损性能的角度,综述了几种减摩碳化硅陶瓷基复合材料研究与制备技术,通过对石墨复合碳化硅、孔隙复合碳化硅、第二相粒子复合碳化硅陶瓷以及复合碳化硅涂层结构陶瓷的研究与制备技术的对比论述,总结了不同减摩碳化硅陶瓷基复合材料的磨损性能及其磨损机制,提出了减摩碳化硅陶瓷基复合材料研究今后的发展方向。     

霍尔离子源辅助制备碳化硅改性薄膜的初步研究

应用电子枪蒸发硅,霍尔离子源电离甲烷,并辅助沉积的方法在反应烧结碳化硅（Reaction Bonded Silicon Carbide: RB SiC）基底上沉积了碳化硅（SiC:H）改性薄膜。XRD测试表明制备的碳化硅改性薄膜为α相。通过控制沉积速率,制备了硬度从9.781 GPa-13.087 GPa,弹性模量89.344 GPa-123.413 GPa的碳化硅改性薄膜。比较同样条件下都镀制银膜的抛光良好微晶玻璃和经过精细抛光的改性反应烧结碳化硅,两者有相近的反射率。附着力实验表明制备的薄膜和基底有良好的结合。在温度冲击实验下,制备的薄膜无龟裂和脱落。     

复杂结构碳化硅陶瓷制备工艺的研究进展

碳化硅陶瓷具有高强度、高热导率、良好化学稳定性等特点,广泛应用于航空航天、石油化工、集成电路等领域,但碳化硅陶瓷的硬度高、脆性大,在加工过程中易产生缺陷,从而制约了复杂结构碳化硅陶瓷的应用.介绍了复杂结构碳化硅陶瓷的制备工艺,并分析了目前常用的冷等静压成型结合无压烧结制备技术、凝胶注模成型结合反应烧结制备技术、注浆成型...     

碳化硅陶瓷材料及其制备

简要介绍了碳化硅陶瓷材料的制备方法及其性能，对其缺点进行了评述，并对碳化硅陶瓷材料的研究发展提出了一些看法。     

碳化硅轻型反射镜技术

给出了常用的轻质材料,对比分析了碳化硅的材料特性。介绍了碳化硅反射镜制造中的几个关键技术,包括RB碳化硅反射镜毛坯制造,SiC涂层技术和SiC反射镜的加工技术。     

反应烧结碳化硅表面改性的初步研究

应用电子束蒸发硅,霍尔离子源电离甲烷,并辅助沉积的方法在反应烧结碳化硅(RB SiC)基底上沉积了碳化硅(SiC:H)改性薄膜.X射线衍射(XRD)测试表明制备的碳化硅改性薄膜为α相.通过控制沉积速率,制备了硬度为9.781～13.087GPa,弹性模量为89.344～123.413GPa的碳化硅改件薄膜.比较同样条件下镀制银膜的抛光良好微晶玻璃和经过精细抛光的改性 RB SiC,结果表明两者反射率相近;附着力实验表明,制备的薄膜和基底结合良好;在温度冲击实验下,制备的薄膜无龟裂和脱落.     

日本机械密封用碳化硅的开发及应用

本文介绍了日本机械密封用碳化硅(SiC)的制造工艺、性能及其应用。比较了碳化硅和硬质合全(WC)的滑动特性,表明碳化硅是一种高性能的密封材料。     

碳化硅颗粒增强铝基复合材料

在无外加压力或真空的大气条件下制备碳化硅颗粒增强铝基复合材料,该工艺以Ｋ２ＴｉＦ６为助渗剂,使其与碳化硅颗粒均匀混合,在浸渗用的铸模中制成混合全,由液奢望 铝或其合金自动浸渗制备碳化硅颗粒增强的铝基复合材料ＳｉＣｐ／Ａｌ。分析了影响工艺过程的若干因素,指出用该工艺制备复合材料的可能性,并对浸渗机理进行了探讨 。     

碳化硅颗粒增强铝基复合材料的制备及应用的研究

综述了碳化硅颗粒增强铝基复合材料（SiCp/Al基复合材料）的研究进展,重点阐述了国内外现阶段碳化硅颗粒增强铝基复合材料的常用制备方法,并结合其应用现状进一步分析了各种常用制备方法的优缺点和未来的研究方向,在此基础上展望了其未来的发展和应用前景。     

同步辐射光束线中柔性铰链的研究

详细推导了直圆柔性铰链所受力矩和角偏移量及受力和线性位移之间的对应关系等运动方程;对直圆柔性铰链材料的选取、直圆柔性铰链参数的设计进行了分析;介绍了在同步辐射单色器中以直圆柔性铰链为基础投角、滚角、摆角调节结构。     

同步辐射与XUV光学

同步辐射的研究已大大促进了同步辐射光学领域中各个方面的发展,这些方面包括光学系统的设计理论、材料科学、光学仪器以及光学元件的测试和制造技术等。描述同步辐射和其光束线的概念,并介绍同步辐射光学相关的课题。     

X-ray fluorescence with synchrotron radiation

The use of synchrotron radiation for X-ray fluorescence has several advantages over the use of other conventional X-ray sources. The principles of synchrotron radiation and methods for applying synchrotron radiation to the X-ray fluorescence measurements of trace elements are discussed. The Brookhaven National Laboratory X-ray microprobe, facilities dedicated to X-ray fluorescence, and related analytical techniques are discussed. Some examples of trace element analyses in biological materials with synchrotron radiation are presented.     

窄光谱带宽X射线刻蚀多层膜光栅

结合X射线荧光分析和同步辐射单色器对窄光谱带宽多层膜的需求,开展了窄光谱带宽刻蚀多层膜光栅的理论和实验研究.用平均密度法从理论上阐明将多层膜刻蚀成不同刻蚀比的多层膜光栅后,光谱分辨率将得到提高.用磁控溅射方法制备了W/C多层膜,并用常规的光刻工艺对其进行刻蚀,得到了刻蚀后的多层膜光栅.掠入射X射线衍射测量表明,刻蚀后多层膜的衍射峰位置向小角方向移动,多层膜光栅没有改变剩余多层膜的结构,而且带宽减小,光谱分辨率得到提高,说明实验采用的工艺方法和工艺路线可以满足制作窄光谱带宽刻蚀多层膜光栅的要求,为今后进一步研究实用化元件打下了基础.     

Time-resolved soft x-ray absorption setup using multi-bunch operation modes at synchrotrons

Here, we report on a novel experimental apparatus for performing time-resolved soft x-ray absorption spectroscopy in the sub-ns time scale using non-hybrid multi-bunch mode synchrotron radiation. The present setup is based on a variable repetition rate Ti:sapphire laser (pump pulse) synchronized with the ~500 MHz x-ray synchrotron radiation bunches and on a detection system that discriminates and singles out the significant x-ray photon pulses by means of a custom made photon counting unit. The whole setup has been validated by measuring the time evolution of the L(3) absorption edge during the melting and the solidification of a Ge single crystal irradiated by an intense ultrafast laser pulse. These results pave the way for performing synchrotron time-resolved experiments in the sub-ns time domain with variable repetition rate exploiting the full flux of the synchrotron radiation.     

Synchrotron radiation applied to the microscopical examination of solid state and biological materials in the X-ray region

The paper describes the properties of synchrotron radiation and makes some comparison with other X-ray sources. The use of synchrotron radiation for various types of X-ray imaging is discussed with reference to specific examples drawn from work carried out recently at the SERC Daresbury Laboratory.     

同步辐射硬X射线光子通量的绝对测量

在北京同步辐射光源上使用自由空气电离室绝对测量了同步辐射硬X射线光子通量。通过自由空气电离室复现空气比释动能率量值,根据在电离辐射量及其单位中定义的空气比释动能与注量及通量的关系,定量得到了光子通量。由于在测量期间,光子通量随时间变化,而测量需要一定的时间,因此,研究了配套的在线通量监测系统,监测带来的不确定度为0.03%。通过测量空气衰减修正因子及复合损失修正因子,结合在线通量监测,在能量为15keV的同步辐射X射线上用自由空气电离室复现了空气比释动能率。在实际实验条件下复现的空气比释动能率为0.239Gy/s,从而得到同步辐射X射线的光子通量为5.28×10~9 photons/s,相对标准不确定度为0.68%。     

X射线辐射测量

在过去的几年里,人们使用同步辐射技术在X射线波段实现了基于辐射源和基于探测器的辐射测量,电子储存环被用作主辐射源标准,而低温辐射计(ESR)被用作主探测器标准。因为低温辐射计需要强的单色辐射,所以,这种方式也必须使用同步辐射。文中对能量色散探测器和硅光电二极管的探测效率和响应度做了校准,其相对不确定度约1%,所得结果与模型计算值做了比较。     

Combining scanning tunneling microscopy and synchrotron radiation for high-resolution imaging and spectroscopy with chemical, electronic, and magnetic contrast

The combination of high-brilliance synchrotron radiation with scanning tunneling microscopy opens the path to high-resolution imaging with chemical, electronic, and magnetic contrast. Here, the design and experimental results of an in-situ synchrotron enhanced x-ray scanning tunneling microscope (SXSTM) system are presented. The system is designed to allow monochromatic synchrotron radiation to enter the chamber, illuminating the sample with x-ray radiation, while an insulator-coated tip (metallic tip apex open for tunneling, electron collection) is scanned over the surface. A unique feature of the SXSTM is the STM mount assembly, designed with a two free-flex pivot, providing an angular degree of freedom for the alignment of the tip and sample with respect to the incoming x-ray beam. The system designed successfully demonstrates the ability to resolve atomic-scale corrugations. In addition, experiments with synchrotron x-ray radiation validate the SXSTM system as an accurate analysis technique for the study of local magnetic and chemical properties on sample surfaces. The SXSTM system's capabilities have the potential to broaden and deepen the general understanding of surface phenomena by adding elemental contrast to the high-resolution of STM.     

光学元件清洗过程中同步辐射活化氧的研究

在同步辐射应用中,光学元件被污染是一个常见问题,而光学元件的污染会造成光通量的极大损失。为了有效地清洗光学元件,研究了清洗过程中的光化学反应,进行了氧气在同步辐射光作用下分解的实验。通过对实验中产生的气体成份分析,进行光化学反应研究。首先,测量通氧气时的气体成份;然后,测量通氧气和同步辐射光照时的气体成份。通过两者比较,分析氧气分解的情况。实验结果表明,氧分子在同步辐射光作用下发生分解,产生质量数为16的氧原子、氧离子和质量数为48的臭氧,它们的成份分别占1%和0.005%~0.01%。