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本文用测量电离的Ar气电导率的方法,在几个大气压和电子平均能量约2.8电子伏的条件下,研究了当5.0×10~(-18)≤E/N≤1.76×10~(-17)伏·厘米~2时电子和Ar_2~ 分子离子的离解复合过程。结果表明,有效复合速率常数的变化从3.79×10~(-7)厘米~3/秒到1.23×10(-7)厘米~3/秒,由此计算,得到了二体离解复合速率常数α_2=(5±2)×10(-8)厘米~3/秒,三体复合反应速率常数K_p=(2.44±1.40)×10~(-27)厘米~6/秒。三体过程的贡献比二体过程约高一个数量级。 相似文献
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研究了n-型Cd_xHg_(1-x)Te晶体(x=0.195~0.22,85K时平衡载流子浓度n_0=3×10~(14)~6×10~(15)厘米~(-3))中的带间俄歇复合。列出在杂质导电区实现最佳寿命τ的条件。计算了τ与组分和掺杂程度的关系。就光电灵敏度下降的样品,讨论了材料中可能产生的显微不均匀性和局部中心的复合过程。 相似文献
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本文介绍硅和硅-锗混合晶体的球形雪崩二极管的探测特性。二极管是在自持雪崩放电区内工作的。所以通过计算自持雪崩而测定光子通量。硅雪崩二极管的光谱响应范围为0.5~1.2微米;异质结雪崩二极管的光谱响应为0.5~1.5微米。当速率计的时间常数为10秒时,在室温下、波长λ=0.75微米时,噪声等效功率NEP=4×10~(-18)瓦,而λ=1.35微米时,NEP=3×10~(-12)瓦。相应的探测率分别为:D*=9·10~(13)“厘米·秒~(1/2)瓦~(-1)及D*=1·10~8厘米·秒~(-1/2)瓦~(-1)。通过冷却二极管到-30℃,NEP值将下降,D*值将提高10倍。 相似文献
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本文报导用石墨舟液相外延纯度砷化镓材料的电学性质。在氢中含氧量为0.12×10~(-6)的条件下,获得的较好生长层的电学参数为μ_(77)~K=9.41×10~4~1.22×10~5厘米~2/伏·秒,n_(77)K=3.77×10~(13)~4.53×10~(14)厘米~(-3)。另外,研究了系统漏气及氢中含氧量对浅施主浓度N_D、熔融KOH腐蚀坑密度和生长层表面氧化膜的影响以及这些参数间的相互关系。 根据生长层的电学性质,计算了室温迁移率的计算值与实测值之差Δμ300K。发现,后者随N_D增加而降低,恰与前一文报导的用石英舟液相外延的情况相反。由此推测,在本文实验条件下,迁移率刽子手的本性也与前文有所不同,而以碳或碳化物较为可能。 相似文献
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用液相外延(LPE)法生长了单层、双层和三层结构的外延层。在1(1/2)吋长的片子上生长的外延层有可控性好、厚度均匀以及表面好等特征。多层结构中的每层生长厚度为0.3~30微米。77°K的霍尔迁移率从73,800厘米~2/伏·秒,(N=1.4×10~(15)厘米~(-3))变到24,000厘米~2/伏·秒(N=1.3×10~(16)厘米~(-3))。把净载流子浓度和熔体中Sn的浓度作对比,计算了Sn在GaAs中的分凝系数,对<100>GaAs为7.9×10~(-5),对<111B>GaAs为2.6×10~(-4)。由这种材料并用一般的倒装技术而制造的耿氏器件,在54千兆赫下有高达4%的连续效率,而在9~10千兆赫时,连续效率猛增至12.5%。这一技术已被成功地用来生长为制造变容管、雪崩管、场效应管和光阴极所需的外延层。 相似文献
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Hg_(1-xCdxTe)光电二极管技术的最近进展是提高了整个1~20微米光谱段高温的探测器灵敏度。对1~3微米辐射灵敏的短波长光电二极管,室温蜂值探测率是在4×10~(11)和8 × 10~8厘米赫1/2/瓦之间,视峰值波长而定。对3~5微米辐射灵敏的中等波长光电二极管,在193K和130K温度下的峰值探测率分别为1×10~(11)和1 ×10~(12)厘米赫1/2/瓦。对12微米辐射灵敏的长波长光电二极管,其峰值探测率在65K时为5×10~(10)厘米赫1/2/瓦,在10K时为5×10(11) 厘米赫1/2/瓦。 相似文献
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《微纳电子技术》2019,(7)
以苯胺与二氧化锡(SnO_2)为前体,通过将原位化学氧化聚合法与静电吸附相结合,在柔性衬底聚酰亚胺(PI)上制备了聚苯胺-二氧化锡(PANI-SnO_2)复合薄膜。通过傅里叶红外光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)与X射线衍射(XRD)对复合薄膜的结构与形貌进行表征,证实了PANI-SnO_2的成功合成与复合。对其在室温条件下进行了一系列气敏性能测试,结果表明SnO_2的添加有效提升了PANI对氨气(NH_3)的响应能力;该PANI-SnO_2复合薄膜对体积分数为1×10~(-5)~6×10~(-5)的NH_3具有良好的灵敏度,此外,该复合薄膜具有良好的重复性与选择性;而且在进行弯折处理后,PANI-SnO_2对NH_3的响应值并无明显变化。上述结果都表明PANI-SnO_2复合薄膜对NH_3的检测具有实际应用价值。 相似文献
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本文用液相外延方法制备异质n/p结构n-PbTe/p-PbSnTe/p~ -PbSnTe外延片。衬底为汽相法生长的PbSnTe,晶向为(100),外延生长温度为520°~550℃。在纯净氢气氛下长出平整无沾铅的外延片。用台面二极管工艺制备红外探测器,在77K下,十元线列的平均性能分别为D_(10μm)~*=1.94×10~(10)cmHz~(1/2)W~(-1),R_(bb)~*=1.2×10~3V/W,R_0A=0.25Ωcm~2,λ_0=11.6±0.1μm。小光点试验和电学测量表明:电学和光学串音可忽略不计。单元器件D_λ~*最大达2.91×10~(10)cmHz(1/2)W~(-1),R_0A最大达3.4Ωcm~2。噪声频谱测试表明:1/f拐点处的频率可低达30~40Hz。 相似文献
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在过Hg压下对外延膜退火,然后给退火层扩散铟,可在CdTe衬底上制得高迁移率的n-型Hg_(0.8)Cd_(0.2)Te液相外延膜,其重复性好。在77K时,载流子浓度和霍尔迁移率分别为1.5~2.0×10~(15)cm_(-3)和1.0~1.5×10~5cm~2/V·s。使用这些外延膜之一制作的光导红外探测器的D_μ~*>2×l0~(10)cm·Hz~(1/2)/W(8~14μm),峰值D_(λp)~*3×10~(10)cm·Hz~(1/2)/W(13μm)。 相似文献
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工艺上的改进促成了产生一复合电流和1/f噪声低的注硼8~12μn~ p结Hg_(0.8)Cd_(0.2)Te结型光电二极管,本文利用扩散及产生一复合电流与温度的依赖关系,首次成功地模拟了碲镉汞的伏安特性曲线。它与光电二极管面积的关系表明,产生一复合电流实质上是一种表面电流,可由耗尽层表面复合速度描述,这是在S_0=2×10~6cm/s时测量的。利用这种伏安模拟技术可定量地测定S_0,经过改进,S_0可减少至4 ×10~4cm/s_0探测器偏置对1/f噪声有很大影响,最小的1/f噪声出现在零偏时。最近报导了3~5μ碲镉汞光电二极管的这种1/f噪声与表面产生一复合电流的关系。目前的8~12μ碲镉汞光电二极管表明,在所观察的S_0范围内,都具有类似的关系。 相似文献
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《固体电子学研究与进展》2020,(4)
综合考虑无毒、价廉等因素,设计以P3HT为空穴传输层的锡基钙钛矿太阳能电池。以太阳能电池模拟软件SCAPS-1D对结构为TCO/Ti O_2/CH_3NH_3Sn I_3/P3HT/Au的太阳能电池进行数值模拟仿真,探讨吸收层、电子传输层和空穴传输层的厚度和掺杂浓度,以及吸收层缺陷态密度对电池性能的影响。由仿真结果可知,当吸收层、电子传输层和空穴传输层的厚度分别为140、20以及200 nm,掺杂浓度分别为1×10~(16)cm~(-3)、1×10~(16)cm~(-3)和1×10~(17)cm~(-3),吸收层缺陷态密度为1×10~(16)cm~(-3)时,取得了较佳的结果:V_(oc)=0.77 V,J_(sc)=20.48 m A/cm~2,FF=71.58%,PCE=11.27%。 相似文献
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用准静态技术测量Si-SiO_2界面态 总被引:1,自引:0,他引:1
准静态枝术是测量Si—SiO_2界面态按能量分布的一个简单迅速的方法。可测禁带中央约0.4ev范围的界面态分布和表面势。在禁带中央,×10~(10)数量级的界面态测量误差小于26%,×10~9数量级绝对误差在本数量级,×10~(11)数量级误差小于10%。目前用来测N_A=4×10~(14)/cm~3的P—Si氧化界面态。 相似文献
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理论和实验结果1.材料鉴定在光电二极管的制造中,选择Hg_(1-x)Cd_xTe的理论标准为:响应时间、杂质浓度、量子效率和决定适用光谱响应的组分x(CdTe的克分子数)。本节分析n-P和P-n型这两种基本二极管结构的极限频率。分析得出:衬底中少数载流子的渡越时间与迁移率及吸收系数的平方成反比。α=2×10~3厘米~(-1)时,n-P型的 t_r=3.5×10~(-10)秒,P-n型的t_r=60×10~(-9)秒;n-P结器件的渡越时间比P-n结 相似文献