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线缆金属材料在土壤中腐蚀行为研究 总被引:6,自引:0,他引:6
采用自然埋藏的研究方法对线缆金属材料铅、铝、涂漆钢带、涂塑钢丝在我国各种酸、中、碱性土壤中埋藏8年及40年的腐蚀试验结果进行分析,总结了金属材料腐蚀的规律及土壤和土壤微生物对金属作用影响因素。 相似文献
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采用碱性抛光液对铝栅进行化学机械抛光(CMP),在pH值大于8.3时会发生析氢反应,表面产生氢气泡,在铝栅表面留下大量蚀坑缺陷,降低平坦化效果,严重影响芯片器件性能的完整性和可靠性。对铝栅在碱性介质CMP条件下的析氢反应机理及控制理论进行了深入探究。通过接触角实验和静态腐蚀实验,并结合金相显微镜观察静态腐蚀后表面状态,发现抛光液中加入FA/O I非离子型表面活性剂可有效抑制碱性环境中铝栅CMP析氢腐蚀。通过实验得出,当碱性抛光液中FA/O I非离子型表面活性剂的体积分数为1.5%时,抛光液的表面张力最小,接触角最小,抑制析氢腐蚀效果最好。 相似文献
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铅在酸性土壤中的腐蚀行为研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用试件自然埋藏的方法研究了铅护套在酸性土壤中1~8年的腐蚀行为。结果表明,铅呈大面积斑点腐蚀,蚀孔小而深。发现酸性土壤中铅的腐蚀率与腐蚀电位有很好的对应关系。铅的腐蚀与土壤PH值、土壤通气性、土壤盐分及土壤微生物有关。 相似文献
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异丙醇在硅碱性腐蚀液中的作用 总被引:1,自引:0,他引:1
在硅单晶的碱性腐蚀过程中,往往由于碱性腐蚀液对单晶硅的腐蚀速率过快,从而增大了硅单晶片表面的粗糙度。异丙醇有着减缓腐蚀速率的功效因而降低了硅单晶片表面的粗糙度。主要讨论了异丙醇在碱性腐蚀液中的作用原理并对腐蚀实验结果做了分析。 相似文献
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研究了半绝缘Ga As的碱性腐蚀液的温度、配比对半绝缘GaAs晶片的几何参数、粗糙度、腐蚀速率等的影响,根据碱性腐蚀原理;解释了腐蚀液温度对晶片翘曲度的改善原因,以及腐蚀速率随温度和配比的变化规律;实验结果表明在碱性腐蚀液中晶片的TTV和粗糙度比较稳定。 相似文献
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锗单晶片的碱性腐蚀特性分析 总被引:1,自引:0,他引:1
讨论了锗单晶研磨片在强碱性腐蚀液和弱碱性腐蚀液中的腐蚀特性.研究了锗单晶片在两种不同腐蚀液中的腐蚀速率随腐蚀液温度、浓度的变化规律.通过探索腐蚀速率、表面光洁度及腐蚀去除量和表面粗糙度的关系,可知腐蚀片表面光洁度和腐蚀速率有关而与去除量无关.腐蚀片的表面粗糙度和去除量有关,去除量越大,粗糙度越大.表面粗糙度也与腐蚀液的碱性强弱有关,当去除量相同时,在强碱性腐蚀液中的锗腐蚀片的表面粗糙度更小.在实际应用中,应针对不同目的,选择适宜的化学腐蚀工艺. 相似文献
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一、前言钝性,亦称惰性,是指某些金属或合金对于大气或各种介质的化学稳定性.例如铝和铝合金在一般大气中相当稳定,镍对于氧化物介质或碱性介质也十分稳定;铁浸入浓的硝酸里,开始时稍有腐蚀(产生气泡),但很快就稳定下来,不会继续遭到溶解.不锈钢对于许 相似文献
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本文介绍一种新的干腐蚀技术,即铝的“反应掩蔽溅射腐蚀”技术。这种工艺技术可刻蚀微细线条的铝和铝-铜-硅合金膜图形,没有目前通用的反应溅射腐蚀方法存在的许多麻烦问题。这种技术把淀积和腐蚀包含在一个工艺过程之中,在三氧化二铝、铝和铝-铜-硅合金被腐蚀的同时,所有其他材料表面却被涂敷上一层SiOx膜。这在本质上产生特别大(铝/掩模和铝/衬底)的腐蚀速率比。此外,腐蚀气体不含有通常会产生浸蚀和钻蚀现象的氯。事实上,这种腐蚀技术兼有反应溅射腐蚀和非反应溅射腐蚀的优点。本文介绍的腐蚀气体是四氟化硅/氧混合气体。研究结果表明,大多数添加的杂质气体对腐蚀的影响非常小。但是,添加水或氢气则可明显地影响腐蚀特性。文章示出了用光致抗蚀剂作掩蔽层采用四氟化硅/氧/氢混合气体进行反应掩蔽溅射腐蚀的典型腐蚀剖面。 相似文献