镀锌层三价铬彩色钝化工艺研究

在实验的基础上提出了一种镀锌层三价铬彩色钝化的工艺，研究表明，镀锌层经过钝化处理后，其耐蚀性接近铬酸钝化的结果，但对环境的污染大大降低，有较高的实用价值。     

镀锌层三价铬黑色钝化膜的耐蚀性能

制备了一种环保、不含六价铬的三价铬黑色钝化液,选择适当的封闭剂,研究其在镀锌层表面钝化后的耐腐蚀性能。通过醋酸铅点滴试验、塔菲尔极化曲线测试、电化学阻抗测试检测钝化膜的耐蚀性及采用扫描电子显微镜观察其表面形貌。结果表明:镀锌层表面经三价铬黑色钝化后再进行封闭处理,弥补了Cr3+钝化后无自愈能力的缺点,显著提高了镀锌层钝化膜的耐腐蚀性能,而且达到了Cr6+黑色钝化的外观效果。     

镀锌层三价铬钝化工艺的研究

对热镀锌层上采用三价铬盐和三价铬盐加丙稀酸树脂两种钝化液钝化,探讨钝化液浓度、pH、钝化处理温度和时间对膜层耐腐蚀性能的影响。确定其钝化工艺,以取代六价铬盐钝化。试验结果表明,三价铬钝化液的最佳组分是将CrO3还原为三价铬,HNO3为氧化剂,硫酸和硼酸为添加剂。三价铬加丙烯酸树脂钝化液是以Cr2(SO4)3为主盐,次磷酸钠为络合剂,HNO3为氧化剂,硫酸和硼酸为添加剂,再加入与水的最佳体积比为1∶3的丙烯酸树脂为最佳组成。采用三价铬盐或三价铬加丙稀酸树脂钝化均可推迟镀锌层出现白锈的时间,三价铬加丙烯酸树脂钝化液效果更好。     

电镀锌三价铬彩色钝化膜封闭剂的制备

目的制备性能良好的封闭剂,以提高电镀锌三价铬彩色钝化膜的耐蚀性。方法以氟化钠、硅酸钠、OP为主要原料制备封闭剂。采用5%醋酸铅点滴法测定封闭处理后的电镀锌三价铬彩色钝化膜的耐蚀性能,探讨了封闭剂的配方,分析了封闭时间、烘干温度、烘干时间等工艺条件对耐蚀性的影响,并通过正交试验对封闭工艺进行了优化,确定了以氟化钠和硅酸钠为主盐的封闭剂的钝化处理工艺规范。结果试验得到的封闭剂组成为:氟化钠0.2 mol/L,硅酸钠0.05 mol/L,OP 1 m L/L。采用该封闭剂,在浸渍时间20min、烘干温度80℃的条件下,醋酸铅点滴实验最高达到近900 s。结论封闭后膜层呈彩虹色,色泽明亮,钝化膜耐蚀性提高。     

电镀锌层低温高耐蚀性三价铬彩色钝化工艺研究

为了在电镀锌层表面获得色彩鲜艳、耐蚀性能突出的钝化膜层,研究了电镀锌层低温高耐蚀性三价铬彩色钝化工艺。探讨了络合剂、金属盐、pH值、钝化温度和浸渍时间与钝化膜耐蚀性的关系,得出了最佳工艺规范。在最佳工艺下得到的钝化膜呈均匀、光亮的彩虹色,且耐蚀性能优良;与电镀锌层相比,钝化膜表面呈光滑的凹凸不平状态,这有利于提高膜层的耐蚀性。     

添加剂对镀锌层三价铬钝化膜耐蚀性能的影响

用电化学方法、Pb(AC)2和CuSO4快速测定法5、%NaCl浸泡实验和测形貌等方法,研究了添加剂草酸、单硬脂酸甘油酯、十二烷基苯磺酸钠和十二烷基磺酸钠对镀锌层三价铬钝化膜的耐腐蚀性能的影响,结果表明:提高镀锌层三价铬钝化膜耐腐蚀性能的最佳添加剂是十二烷基磺酸钠(0.6 g/L),其次是草酸(1.0 g/L),最差的是单硬脂酸甘油酯(1.0 g/L),而十二烷基磺酸钠(0.6 g/L)与草酸(1.0 g/L)的复合添加剂,使钝化膜的耐腐蚀性能接近六价铬的钝化效果。     

镀锌层三价铬钝化剂的探讨

适应保护环境的要求,研究了镀锌层三价铬钝化技术,在国内外一些典型的三价铬钝化配方基础上,试验研究发现,要获得良好钝化膜选用适当的络合剂是关键,并研制出能获得高耐蚀性钝化膜的三价铬蓝白钝化剂及彩色钝化剂,该钝化剂使用寿命长,镀液成份稳定,并得到了应用厂家的验证.     

无铬钝化与三价铬钝化的研究进展

六价铬钝化工艺,毒性大,严重污染环境,电镀行业研究并采用无毒或低毒的钝化工艺势在必行.目前无铬钝化和三价铬钝化已取得积极的进展,三价铬钝化已应用于生产,并获得良好的效果.无铬钝化作为环保工艺,是将来钝化工艺发展的新方向.结合近年来无铬钝化和三价铬钝化的发展,对无铬钝化、三价铬钝化及封闭处理等进行了较详细的阐述.     

镀锌低铬钝化溶液的维护与操作

1　低铬钝化溶液的维护1.1　溶液的补充低铬钝化过程中由于溶液对基体锌层无抛光作用 ,钝化前镀层的抛光依靠浸稀硝酸来完成 ,经硝酸出光后有利除去锌层表面添加剂分解后沾附于工件表面的有机物质 ,镀件进入钝化槽后钝化液直接与光亮的锌层表面发生化学反应 ,产生钝化膜 ,因此对于溶液中各组分的消耗是甚微的 ,并由于铬酐含量低 ,溶液在镀件表面粘性小 ,随镀件带出的量也很少 ,因而溶液中有机、无机杂质的带入也大大少于高铬钝化工艺 ,相对来说溶液比较稳定 ,无需像高铬钝化那样需经常调整。经一定时间使用后如发现成膜速度逐渐减缓 ,所获得…     

硫酸铈对三价铬钝化膜耐腐蚀性的影响研究

目的研究硫酸铈对三价铬钝化膜耐蚀性能的影响。方法通过在三价铬镀铬盐溶液中分别添加0.3、0.5、0.8、1.0、1.5 g/L的硫酸铈,然后通过极化曲线测试,对比不同硫酸铈添加量的钝化膜的腐蚀电流密度,确定硫酸铈在三价铬镀铬盐溶液中的最佳添加量,然后分别制备未添加硫酸铈和添加最佳添加量硫酸铈的三价铬钝化膜,通过电化学工作站CHI660E测量Tafel极化曲线和电化学阻抗谱。分析钝化膜的电化学性能,研究不同钝化膜的耐腐蚀性。观察试样表面的微观形貌,对比添加硫酸铈和未添加硫酸铈的钝化膜的微观形貌。结果通过极化曲线测试发现,当硫酸铈的添加量为1.0 g/L时,钝化膜的腐蚀电流密度小于其余添加量的钝化膜,添加硫酸铈和未添加硫酸铈的钝化膜的耐蚀性能不同,添加硫酸铈后的钝化膜性能得到改善,且钝化膜膜层的微观形貌发生改变。结论添加硫酸铈后,三价铬钝化膜的耐腐蚀性能增强。当硫酸铈的添加量为1.0 g/L时,腐蚀电流密度最小,为3.835×10~(-6) A/cm~2,耐腐蚀性能优于其余钝化膜。     

铝合金三价铬钝化液的研制和应用

分析了铝合金三价铬钝化液的钝化机制,研究了复合盐钝化剂用量、钝化处理时间和温度对钝化膜质量的影响。结果表明,经铝合金三价铬钝化液钝化后的试样,其抗腐蚀性能优于铬酸钝化液,可在常温下进行处理,且处理时间较短,有利于减轻铬酸钝化液中六价铬离子对环境的影响。     

三价铬电镀技术研究进展

回顾了三价铬电镀的发展历程,介绍了硫酸盐体系三价铬电镀装饰铬的新工艺。新工艺镀铬速度增加到0.057～0.077μm/min,并且速度不随时间而变化。镀液性能稳定,操作简单,便于维护。镀层质量优良,色泽美观,厚度能够达到0.3μm以上。中性盐雾试验、恒定湿热试验、冷热冲击试验、人造汗液测试、抗化学污染测试均能满足行业标准的要求。新工艺性能优越,能够更好地满足广大客户的要求。     

铝合金铸件三价铬本色钝化工艺

介绍了一种用于铝合金铸件三价铬本色钝化液及其钝化工艺.简述了钝化的机理、工艺流程、槽液管理、钝化条件及对表调、水洗、烫干、吹水等工序的控制,同时也介绍了商品化压铸铝合金三价铬本色钝化液的选择.     

热镀锌板三价铬钝化剂的制备及其钝化膜耐蚀性能

目的制备钝化膜耐蚀性良好的热镀锌板三价铬钝化剂。方法以铬酸酐、酒石酸盐、无机混酸、纳米硅溶胶为原料,制备三价铬钝化剂。采用该钝化剂对热镀锌板进行钝化处理,通过中性盐雾试验、Tafel极化曲线和交流阻抗谱分析钝化膜的耐蚀性能,并表征钝化膜的表面形貌和元素组成。结果钝化镀锌板经120 h中性盐雾试验后,腐蚀面积仅为5%。与未钝化镀锌板相比,钝化试样的自腐蚀电位有所正移,自腐蚀电流密度降低了约2个数量级。钝化膜表面较为平整,有少量白色颗粒沉积,膜中主要含有C,O,Si,Cr,Zn等元素,且Cr主要以三价和六价存在,Zn以二价存在。结论该三价铬钝化剂可提高镀锌板的耐蚀性能,具有较好的工业使用推广价值。     

甲酸盐三价铬电镀工艺的研究

目的解决现有氯化盐体系和硫酸盐体系三价铬电镀存在的问题。方法以甲酸铬为主盐,甲酸铵、尿素和苹果酸为络合剂,通过Hull槽试验和方槽试验,研究铬离子、甲酸铵、尿素、苹果酸的浓度以及镀液pH值、镀液温度、电镀时间等工艺参数对黄铜表面三价铬镀层形貌、沉积速率和光亮范围的影响。结果甲酸铵和尿素分别与Cr3+形成活性络合物,苹果酸具有pH值的缓冲作用。最佳的工艺条件为:Cr3+浓度0.4 mol/L,甲酸铵浓度0.5 mol/L,尿素浓度0.2 mol/L,苹果酸浓度0.05 mol/L,镀液pH值3.5,镀液温度25~30℃。结论该甲酸盐三价铬电镀工艺具有较宽的光亮范围,镀层孔隙率低,光亮致密,沉积速率较高,与铜基体结合良好,结构为混晶态。在室温、电流密度为15 A/dm2的条件下电镀5min,镀铬层厚度即可达到1.78μm,满足装饰性镀铬层的要求。     

Effect of partial pressure of reactive gas on chromium nitride and chromium oxide deposited by arc ion plating

The effects of reactive gas partial pressure on droplet formation, deposition rate and change of preferred orientation of CrN and Cr2O3 coatings were studied. For CrN coatings, as nitrogen partial pressure increases, the number and size of droplets increases, the deposition rate initially increases obviously and then slowly, and the preferred orientation of CrN changes from high-index plane to low-index one. For Cr2O3 coatings, with the increase of oxygen partial pressure, the number and size of droplets decreases, the deposition rate decreases and the （300） becomes the preferred orientation. These differences are ascribed to the formation of CrN （with a lower melting point） and Cr2O3 （with a higher melting point） on the surface of Cr target during the deposition of CrN and Cr2O3. Complete coatings CrN or Cr2O3 film can be formed when reactive gas partial pressure gets up to 0. l Pa. The optimized N2 partial pressure for CrN deposition is about 0.1-0.2 Pa in order to suppress the formation of droplets and the suitable 02 partial pressure for Cr2O3 deposition is approximately 0.1 Pa for the attempt to prevent the peel of the coating.     

氯化物水溶液体系三价铬电沉积机理研究

采用循环伏安、恒电流阶跃和稳态极化等电化学研究方法和紫外分光度法,研究了Cr3+电沉积机理,结果表明其沉积过程分2步进行。计算得出Cr3+2步放电的表观活化能为34.9 kJ/mol和19.77 kJ/mol,表明Cr3+还原过程受电化学反应控制;初步拟定了甘氨酸作配体氯化物水溶液体系三价铬还原机理。     

Process of pulse electrodeposition nanocrystalline chromium from trivalent chromium bath

Nanocrystalline chromium coating was prepared by pulse electrodeposition from trivalent chromium bath containing carboxylate-urea as complexing agent. The effects of electrodeposition parameters such as current density, bath temperature and solution concentration on the thickness and electrodeposition velocity of Cr deposited films were investigated. The crystallographic structures, morphology and chemical composition of Cr deposited films were analyzed by means of XRD, SEM and EDS. The results indicate that the deposited films with thickness up to 11.2 μm possess a smooth and clean appearance, and the grain size is less than 100 nm. The coating is pure chromium and the Cr deposit has face-centered cubic （fcc） structure and exhibits a （210） growth preference. Both the electrodeposition velocity and thickness exist maximum under different concentration complex agents, ureas, acetates, different temperatures and current densities. Compared with direct current electrodeposition, the thicker coating and finer grains can be obtained at lower temperature and current density by pulse electrodeposition. The electrodepostion velocity is about 0.24 μm/min, which is faster than that by direct current electrodeposition. In l mol/L H2SO4, 3.5% NaCl and 10% NaOH solution, corrosion potential of Cr pulse-deposited film is about 100 mV higher than that of direct current. Corrosion and passivation current densities are lower and the nanocrystalline exhibits better corrosion resistance.