基于薄膜铌酸锂实现高偏振消光比

本文介绍了一种通过在铌酸锂薄膜平台上使用亚波长光栅结构实现高偏振消光比的方法,并在铌酸锂薄膜的表面形成了芯片。该芯片的长度仅为20,在1 550 nm波长下测得的偏振消光比为29 dB。这一进展不仅证明了在铌酸锂薄膜平台上实现高偏振消光比的可能性,而且为未来在偏振分束器、集成光纤陀螺仪等方面的工作提供了重要的技术参考。     

多层介质薄膜偏振片的测量方法及装置

为了配合“多层介质薄膜偏振片”的研制工作,我们立足于现有条件,装置了这套测试系统,建立了测试方法,并对偏振片的色敏特性和角敏特性进行了测试。本文对测试系统的设计思想、测试原理和方法及测试数据和误差分析进行了详细叙述,并提出了改进设想。     

高消光比测试系统的研究

消光比是标志偏光器件性能的主要参数之一,也是表征许多光学材料性质的重要指标。因此对消光比的精确测量一直是人们非常关心的问题,也是科研和生产中亟待解决的一个课题。而高消光比的测量更是急需解决的关键问题之一。虽然,过去人们曾在这方面做过一些工作,但由于起偏系统和测试方法等的限制,很难保证其测量精度和灵敏度,并且无法给出单只偏光器件的这一参数。本文给出了一种测量高消光比的有效方法。并建立了相应的测试系统,其消光比的测量优于10~(-9),能较好地满足科研和生产的需要。     

高消光比测试系统衰减器的研究

为了提高消光比测试系统的测试精确度,利用偏振干涉原理研究设计了一种用于此系统的衰减器,并对它的工作机理进行了详细分析。此衰减器主要包括3个偏光棱镜,1个λ/4波片(632.8nm),两个步近电机。它可以对光强度进行连续调节,其调节范围在0~60dB之间,插入损耗小于1.5dB,消除了以往更换固定衰减量的衰减器带来的误差。此光衰减器用在高消光比测试系统中可以得到优于10-7量级的消光比,它不仅可以用于高消光比测试系统,同样可用于其它光学测试系统。当用消色差波片代替λ/4波片时,它能对多种波长的光进行衰减,扩大测试系统对光谱区的使用范围。     

高消光比偏振不灵敏电吸收调制器

用一种新的方法制作出应用于光网络系统的电吸收调制器 ,应用应变 In Ga As/In Al As材料做多量子阱 ,实验测量的调制器调制性能显示出器件的偏振不相关性 ,以及其高消光比 (>40 d B)和低电容 (<0 .5 p F) ,保证了器件可以应用于高速率的传输系统 (>10 GHz)     

高消光比偏振不灵敏电吸收调制器

用一种新的方法制作出应用于光网络系统的电吸收调制器,应用应变InGaAs/InAlAs材料做多量子阱,实验测量的调制器调制性能显示出器件的偏振不相关性,以及其高消光比(＞40dB)和低电容(＜O.5pF),保证了器件可以应用于高速率的传输系统(＞10GHz).     

薄膜偏振片的设计和制造

设计激光核聚变研究中最常用的偏振片是平板布儒斯特角型,它通常是由抛光达到了激光质量的BK7光学玻璃制备。其入射角是56.5°,入射介质的折射率(N_m)是1.00;基体折射率(N_g)是1.51,镀膜材料分别是折射率N_H为2.25的二氧化钛和折射率N_L     

高消光比超短脉冲产生的实验研究

实验研究了一种高消光比短脉冲的产生技术。利用色散补偿光纤线性压缩由增益开关分布反馈激光器出射的光脉冲。而后利用电吸收调制器的非线性吸收特性同步调制光脉冲。利用这种方法在实验上产生了重复频率为10GHz，脉宽为10．4ps，抖动小，高消光比，无基座的短脉冲。此种技术可以应用于40Gbit／s的光时分复用系统中，同时也说明电吸收调制器具有同号脉冲整形功能。     

高消光比铌酸锂晶体制造工艺研究

本文介绍用中频感应法研制铌酸锂晶体。探讨了生长工艺及极化工艺。所得结果改善了晶体的光学均匀性,晶体消光比有了显著的提高。     

1.06微米宽带硬膜偏振片的研制

本文用自动设计的方法设计了在较宽光谱范围内具有优良特性的偏振膜,并对该膜系的稳定性以及厚度控制误差对其特性的影响进行了分析。本文选用TiO_2和SiO_2作为偏振膜的材料。在实验的基础上,建立了TiO_2膜的折射率与基体温度的关系以及TiO_2膜的吸收率与淀积条件的关系。制成的偏振膜的性能,在1.0μm附近约200(?)的范围内,T_p≥95%,T_s≤1%。这种偏振膜可以作为大功率激光系统的偏振元件。     

消光比自动测量可行性研究

本文介绍了一种用于消光比测量的微机控制实验数采集与处理自动化系统，利用数值模拟对系统的可行性进行了研究，分析了影响测量精度的主要因素，并给出了提高测量精度的方法。     

高介电常数陶瓷介质材料的研制

<正> 目前,国内外生产大容量单片陶瓷电容器大都采用以BaTiO_3为主要成份的瓷料。为满足整机对元件的小型化的要求,进一步提高这种瓷料的介电常数是很有意义的。本文是作者参加研制高介电常数介质材料工作的一些体会和认识。     

静态消光比测试仪的改进

消光比是衡量晶体光学均匀性的一个重要指标,在实际测定时,常采用He-Ne激光管作光源.但未稳频的激光光源,其强度是不稳定的,给测试结果带来了误差.最近,我们参照一般静态消光比测试装置,增加了一个补偿光路,基本上消除了光源的影响,取得比较满意的效果.     

激光薄膜偏振片:单色偏振膜设计

本文提出一种独特的求解平板型偏振膜系工作点的计算方法。利用三层对称组合膜的特性,解一个或两个超越方程,便确定膜系各层的厚度。如此膜系对预定波长的P光,透射率为100%,对S光的反射率可按需要程度逼近100%。这种方法的特点是,精度高,概念清晰,能够求解任何两种高低折射率薄膜组合,能够设计各种波长的偏振片。根据这种设计方法,用电子计算机计算了一系列由常用膜料组成的偏振片,给出了计算结果。     

高介电常数陶瓷介质组成物的研制

本文研制了介电常数为３０００－４０００，容量变化率小于±１０％，而且烧成温度范围较宽，组成为高纯度ＢａＴｉＯ３９５－９９ｗｔ％，ＣＯ２Ｏ３０．０５－０．５ｗｔ％，ＮＯ２Ｏ５０．５－２ｗｔ％，以及ＣｅＯ２０．０５－０．５ｗｔ％，ＴｉＯ２１．５ｗｔ％组成的高介电常数陶瓷介质。     

高稳定NPO中温介质的研制

采用低纯Nd_2O_3原料及SiO_2-Pb_3O_4-BaO助熔剂,通过添加Bi_2O_3·2TiO_2和过量TiO_2对主晶相BaO·Nd_2O_3·5TiO_2加以改性,获得了成瓷温度为1150℃、ε为90、tgδ≤3×10~(-4)、ρv≥10~(14)Ω·cm、αc为O±30×10~(-6)/℃的中温介质材料。本文介绍了材料的特性,并计论材料的改性机理。     

光纤干涉仪消光比调谐方法

简要介绍了目前超长距离光纤干涉传感系统的发展现状,并在理论上分析了光纤传感系统中的偏振态对消光比的影响以及能够影响光波偏振态的各种因素.将基于光弹效应的挤压型偏振控制器应用于该系统的消光比调谐,给予光纤干涉臂径向应力,动态调谐系统光波偏振态,实现了长距离光纤传感系统的消光比在一点上的调谐.提出了长距离光纤传感系统灵敏度...     

Rochon棱镜反向使用消光比

为了研究Rochon棱镜反向使用消光比特性,采用分析棱镜胶合剂中光弹效应的方法,对Rochon棱镜正、反向使用时消光比进行了分析,并设计了实验,从理论和实验上对平行光反向通过Rochon棱镜时消光比下降的原因进行了研究。结果表明,当平行光正向通过Rochon棱镜时,消光比为1.14×10-5;反向通过时,消光比为2.93×10-3;反向通过加上λ/4波片后,消光比为5.72×10-5;准直光束反向通过Rochon棱镜时,由于胶合剂中的光弹效应的存在,使得传播方向不改变的一束光的消光比下降,验证了理论分析的正确性。该结果可为Rochon棱镜的设计制作和正确使用提供必要的参考。     

利用相位和强度调制器产生高消光比超短光脉冲

提出了一种产生高消光比超短光脉冲的新方法.利用相位调制器调制连续光生成啾啁光,而后利用M-Z强度调制器的倍频调制抑制对压缩不利的啁啾部分的影响,再通过等效啁啾光纤光栅进行压缩产生光脉冲.理论和仿真结果表明,该方法可以很好地消除光脉冲的基底及减小旁辦,产生消光比大于30 dB、波形理想的光脉冲,具有很强的可实现性.最后利用实际制作的色散系数为-380 ps/nm的等效啁啾光纤光栅对该方法进行了实验验证,结果表明,在重复频率为2.5 GHz、相位调制系数为9时,可产生脉宽小于18 ps的高质量光脉冲.