坚固的硫化锌增透膜

采用电阻蒸发法制备的硫化锌膜,通常是透红外光的最好材料,因而在工业上用途很广。在制备过程中,当具备了合适的条件后,硫化锌膜可以制成硬膜,而且对基板的附着力很好。用离子加热法制备的硫化锌膜以及用电阻蒸发法制备的以硫化锌为基质并填加有CeF_3、ZrF_2以提高增透率的膜,使用性能都相当好。一些在苛刻条件下工作的装置,都对膜层提出了很高的要求(多次热冲击、在高温     

硫化锌薄膜的结构分析

用热蒸发法和磁控离子射频溅射法制备了ＺｎＳ薄膜，利用Ｘ射线衍射技术对据 薄膜的结构相特性进行了研究，为研制高效的光电材料提供依据。     

硫化锌薄膜的制备和结构分析

用常规分舟热蒸发法在玻璃衬底上制备硫化锌薄膜，用X射线衍射和透射电子显微镜研究该薄膜的晶体结构，发现硫化锌薄膜与流化锌粉末在晶体结构上存在差异，实验证实硫化锌晶体是具有高于性的共价键晶体。     

硫化锌的光电子发射结构

对硫化锌粉料、硫化锌半导体微晶薄膜进行了Ｘ射线光电子发射谱剖析。获得粉料、薄膜表层及表层下的电子态信息，揭示了硫化锌粉料、薄膜微结构与电致发光性能的关系。     

热蒸发制备的硫化锌薄膜的结构分析

用双舟热蒸发制备了掺稀土硫化锌薄膜，用Ｘ射线衍射技术对硫化锌粉末和所制薄膜的晶体相结合进行研究，发现硫化锌薄膜的晶体结构与硫化锌粉末的晶体结构不同。薄膜晶体的生长受诸多因素影响，有择优取向生长趋势，是二维层状结构沿ｃ轴方向的密堆积。     

热蒸发制备的硫化锌薄膜的结构分析

用双舟热蒸发制备了掺稀土硫化锌薄膜，用ｘ射线衍射技术对硫化锌粉末和所制薄膜的晶体相结构进行研究，发现硫化锌薄膜的晶体结构与硫化锌粉末的晶体结构不同。薄膜晶体的生长受诸多因素影响，有择优取向生长趋势，是二维层状结构沿ｃ轴方向的密堆积。这些研究为高新材料的研制提供了参考。     

高强度硫化锌光学介质膜的表面与断面形态观察

采用光学显微镜、显微干涉仪、扫描电子显微镜等,对在不同工艺条件下制成的硫化锌光学介质膜层的表面形貌和断面结构进行了观察,并对其厚度进行了测量。观察和测量的结果表明:蒸镀膜层厚度约为1μm,未经特定工艺处理前,晶粒较粗,结构不致密,断面为典型的柱状结构,其机械牢固性差。经特定工艺处理后的膜层,其断面仍为柱状结构。但表面形态表明晶粒较细,结构较致密,其机械牢固性极佳。     

抗静电增透膜

近年来证明,在有电场的仪器中可使用镀膜玻璃。镀膜玻璃是介质,其体电阻率为10~(14)～10~(15)Ω·cm,其表面电阻为10~(15)～10~(17)Ω。介质在电场中偏振,形成的电荷能使外电场严重畸变。此外,在用织物擦净镀了膜的介质元件过程中其表面会出现静电,也会把外电场畸变,并因荷电尘粒吸引而将表面污染。经验表明,为降低体静电荷,电阻须降到10~9～10~(11)Ω。这可通过降低体或表面电阻完成。     

掺铒硫化锌交流电致发光薄膜的表面结构

对研制的掺铒硫化锌交流电致发光薄膜,进行了表面的 Ｘ 射线衍射（ Ｘ Ｒ Ｄ） 、 Ｘ 射线光电子能谱（ Ｘ Ｐ Ｓ） 及发光亮度测量。研究认为薄膜多晶的沉积有择优取向的趋势,表层碳、氧主要来源于吸附与玷污,绝缘层选择高介电常数、低电阻率的材料,可进一步提高器件质量     

硫化锌交流电致发光薄膜结构与特性研究

用电子束研制不同介质膜作绝缘层的掺铒硫化锌交流电致发光薄膜器件,用Ｘ射线衍射技术测量薄膜表面结构,发现薄膜多晶的沉积有择优取向的趋势。观察不同绝缘层交流电致发光器件的初始稳定过程,讨论绝缘层质量对交流电致发光器件的影响。     

光学增透膜

本文就1973～1980年间发表的几篇美、英、西德专利介绍数种光学增透膜。其中有四种是全可见光波段用,其它是可见光区间的单波长用。衬底有一种是人造树脂,其它均为折射率在1.42～1.85的玻璃。膜材料用MgF_2、SiO_2、ThF_4、LaF_2、NdF_3、BeONa_3(AlF_4)、Al_2O_3、CeF_3、LaF_3、LiF,折射率为1.32～1.62。中等折射率膜材料用MgO、ThO_2H_2、InO_2及MgO-Al_2O_3混合料,折射率为1.7～1.9。能用的高折射率膜材料有CeO_2、ZrO_2、TiO_2、Ta_2O_5、ZnS、ThO_2,折射率为2～2.3。膜层是2～9层。有一种1/4波长结构四层膜系,最佳反射在500nm波长处为0.06％,在440～620nm波段处为0.14％。另一种膜系,最差反射在500nm波长处为0.5％。     

增透膜的遗传算法设计

用遗传算法设计了多层光学膜.设计时只要事先确定最大层数,算法就可自动优化选择合适的层数,同样每层的镀膜材料及厚度也由算法自动优化选择.设计中采用了不同以往的评价函数.在LBO(LiB3O5)晶体上用两种评价函数设计了1064 nm,532 nm二倍频增透膜.前一种评价函数设计的增透膜在1064 nm和532 nm处的透射率分别达到99.98%和99.99%,后一种评价函数设计的增透膜在两处的透射率均达到100.00%.在K9玻璃上设计了可见光宽带增透膜,450~650 nm范围的宽带增透膜的透射率均超过99.91%,390~780 nm范围的宽带增透膜的透射率均超过99.30%.采用的评价函数对膜系结构的变化敏感时,用遗传算法设计才有效.     

KCI衬底增透膜

本发明所述KCl衬底三层耐潮增透膜,吸收10.6μm波长CO_2气体激光束很小,能透足量的0.6328μm波长He-Ne激光束。第一层(紧贴衬底)是As_2S_3层,光学厚度是2.438～2.65μm,第二层是PbF_2层,1.259～1.363μm,第三层是AS_2S_3层,0.959～1.03882μm。图2是第二层As_2S_3(即第三层)的光学厚度从预调的光学厚度增大和减小4％时,本膜系的反射与波长的关系。     

掺铜的硫化锌缺陷结构的高分辨电子显微术研究

掺铜的硫化锌为一种重要的发光材料。其发光性能与晶体缺陷有密切关系。利用高分辨电子显微术可以直接观察晶体缺陷结构。硫化锌晶体结构有立方闪锌矿(Z)与六角纤锌矿(W)两种。图1是两种结构共生的高分辨象,分别用Z及W表示相应结构。两者的区别仅在于沿密排方向的原子排列规则不同:闪锌矿结构为ABCABC……(3 R)排列;而纤锌矿结构为ABAB……(2H)排列。象中每一个亮点代表由一个硫原子及一个锌原子组成的原子团。在掺铜的硫化锌晶体中,微孪晶的密度很大.如图2及图3(T)所示。孪晶面为(111)。图3中还有典型的扩展位错(S),位错的柏氏矢量为b=1/6[112]。此外,还观察到有4H、16H、12R、36R等多种长周期     

递变折射率增透膜

一、前言本文介绍用化学法制作两种递变折射率增透膜。一种是用溶胶～凝胶法制作,是将衬底浸于碱性硼硅酸盐玻璃溶胶中淀积上一层或多层凝胶衍生膜,然后加热将膜相分离,接着用沥滤液腐蚀掉可沥滤的相而留下SiO_2含量高的相成膜,适用于多种不同的激光和光学材料衬底。另一种是用中性溶液法制作,是将可相分离的碱性硼硅酸盐玻璃“衬底”相分离,然后用沥滤液腐蚀掉可沥滤的相而留下SiO_2含量高的相成膜,适用于任何可相分离的大粒度玻璃“衬底”。后一种“薄膜”实际上是玻璃块体     

红外宽带增透膜系的设计与分析

依据等效多层膜的概念设计了红外宽带增透膜系,利用一种膜系自动设计的方法——随机优选法——对宽带膜系实现最优化。提供了锗衬底在8～14μm和2～14μm波长区的设计实例与实验结果。     

基于站立结构的宽带太赫兹超材料增透膜设计

设计了一种基于站立结构的太赫兹超材料增透膜。利用双开口环站立结构实现了对太赫兹波段反射的抑制,使得该增透膜的反射率最低减小至0.001,反射率在0.1以下的带宽可达0.45THz。分析了该超材料增透膜的工作机理,研究了两个开口环之间的距离以及聚合物基底的厚度对超材料增透膜性能的影响,并与单开口环结构的增透膜进行了性能对比。仿真及分析结果表明,所设计的超材料增透膜具有优异的宽带反射抑制性能和较大的制作参数容差特性。     

激光引起的增透膜损伤

对各种薄膜材料耐高能激光辐射性能的确定,已作了若干研究。根据这些研究可见,材料的某些特性对确定其耐激光损伤程度是很重要的。材料的某些特性的相对作用是不可分开的,因此,仅仅根据这一点几乎还不可能来精确预测损伤阈值。上述资料指出,薄膜材料的损伤阈值几乎完全与材料的升华热相关,说明损伤机理主要为热效应。本文的目的是研究一些多层薄膜系统,试图确定是否任何较微小的损伤阈值的改变都可能是薄膜系统结构参数的结果。尤其是,这研究是根据各单层膜和系统中所发展的剩余应力进行的。同时,也考虑到了一个表面上看来简单的问题,即如何获得1.06微米     

增透膜的激光感应损伤

为了确定各种薄膜抗高能激光辐射的情况作了若干研究,根据这些研究,很明显材料的某些特性对确定材料抗激光损伤的能力起重要作用。某些特性的相对影响是分不开的,在这个基础上,单独的精确的预计损伤阈值几乎不可能,资料[1]指出通过薄膜     

声光器件介质增透膜

本文报道用电子束镀膜的方法对声光器件用的几种晶体分别做了514.5nm,632.8nm,860nm,1060nm和1300nm等几种波长的增透膜试验。 TeO_2、PbMoO_4晶体蒸镀单层增透膜,透过率T≥96％;对低折射率材料的熔石英蒸镀ZnS-MgF_2非λ/4双层增透膜,透过率T≥99％。该工艺稳定、膜层质量好、透过率高,达到了声光器件研制的需要。