溶胶-凝胶法制备金银合金纳米线阵列

金银纳米材料因其纳米尺度而在光电等方面有许多优良的性质和用途, 若将两者混合可大大改善其性能. 为此, 利用阳极氧化法制备出氧化铝模板, 并用自制的模板结合溶胶凝胶法成功地制备了金银合金纳米线. 扫描电镜照片显示氧化铝模板具有比较直的孔道和高的孔洞率, 金银合金纳米线由于模板的限制作用而呈现出高度的有序性. 透射电镜照片显示单根纳米线长而光滑, 选区电子衍射显示纳米线具有多晶结构, 能谱分析表明纳米线是由金和银两种元素组成. 文中对合金纳米线的形成原因和影响因素都做了简单的分析.     

模板法电化学共沉积Ni-Mo合金纳米线的研究

使用多孔阳极氧化铝模板, 电沉积制备了Ni-Mo合金纳米线. 用扫描电镜（SEM）和表面能谱（XPS）表征沉积物形貌和组成, 用伏安法研究了Ni-Mo合金纳米线的沉积条件及催化性能. 结果表明, Ni-Mo合金纳米线的直径在20～30 nm之间. Ni-Mo共沉积的伏安图上在-1.4 V（vs Ag/AgCl）左右出现一个扩散电流平台. 光电子能谱（XPS）表明, Ni-Mo合金纳米线的共沉积电位出现在-1.4 V以后, 大于这个电位钼以低价氧化物存在. Mo-Ni离子浓度比大于2时扩散电流平台消失. 柠檬酸盐浓度达到2～3倍镍盐浓度时, 扩散电流平台趋于稳定. 在较优条件下电沉积的Ni-Mo合金纳米线显示较高的析氢催化活性.     

阳极氧化铝模板的制备研究

用一步阳极氧化法在不同的工艺条件(电解液、电压、温度、时间)下制备得到了孔径为40～200nm的阳极氧化铝(anodic aluminum oxide，AAO)模板，用扫描电子显微镜(SEM)对其形貌进行了表征。分析了阳极氧化铝模板在纳米复制(nano-copy)领域的应用前景。     

径迹刻蚀模板法制备铜纳米线

用径迹刻蚀的聚碳酸酯为模板,采用电化学沉积法制备了铜纳米线,通过选用不同孔径的模板,得到了铜纳米线阵列,其直径和长度分别取决于聚碳酸酯模板孔洞的直径和厚度.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)等手段对铜纳米线的形貌、晶体结构特征和成分进行了表征.铜纳米线为多晶结构,大部分成分为铜,少部分为氧化铜.添加(NH4)2SO420 gL-1和二乙基三胺(DETA)80 mLL-1能减小铜晶粒尺寸.     

腐蚀条件对氧化铝纳米线制备的影响

采用阳极氧化法制备多孔阳极氧化铝(AAO)模板,研究磷酸溶液中氧化铝纳米线的化学刻蚀合成.分析磷酸溶液的浓度和反应温度对氧化铝陶瓷纳米线生长的影响,探讨化学腐蚀法制备氧化铝陶瓷纳米线的反应温度区间和溶液的浓度范围.实验结果表明,腐蚀溶液的反应温度愈高或腐蚀溶液浓度愈高,纳米线出现时间愈早,生长速率愈快,最终纳米线长度愈长.氧化铝纳米线的制备与腐蚀溶液的浓度和反应温度密切相关.在浓度为4%-10%的磷酸溶液和35-60℃的温度范围内都形成氧化铝陶瓷纳米线.     

模板电沉积法制备一维金亚微米棒、纳米线阵列的研究

通过采用不同类型的无机多孔膜作为模板以及恒电位模板电沉积法在一层厚度为300nm的碳膜上制备出一维金亚微米棒、纳米线及其阵列,并利用扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）、X射线衍射（XRD）、能量分散谱（EDS）表征了该一维金亚微米棒、纳米线阵列的化学组成、结构和形貌。研究结果表明,采用多孔三氧化二铝膜作为模板,可以得到长度为5μm的一维金亚微米棒（直径200nm）阵列;采用无机复合介孔膜为模板,则得到一维金纳米线（3～4nm）阵列,并通过控制沉积时间,可以调节纳米线的长度（400nm～3μm）。     

纳米级多孔氧化铝膜的制备

首先选用磷酸和丙三醇对铝基片进行电化学抛光,之后以草酸为电解液,利用电化学阳极氧化法制备多孔有序阳极氧化铝阵列模板,用高倍扫描电镜对其形貌进行表征．研究了电解电流、电解液浓度、温度等条件对氧化铝膜结构的影响．结果表明：用丙三醇与磷酸（体积比为9：1）作为电化学抛光液对铝基片进行抛光,抛光效果明显,铝基片的表面洁净;说明了电流、浓度、温度等对氧化铝膜的影响．     

一步纳米银催化刻蚀法制备多孔硅纳米线阵列

通过采用一步纳米金属颗粒辅助化学刻蚀法(MACE)成功制备了多孔硅纳米线,并主要研究了硅片掺杂浓度、氧化剂AgNO_3浓度以及HF浓度对硅纳米线阵列形貌结构的影响规律.研究结果表明:较高的掺杂浓度更有利于刻蚀反应的发生和硅纳米线阵列的形成,这是由于高掺杂浓度在硅片表面引入了更多的杂质和缺陷,同时高掺杂浓度的硅片与溶液界面形成的肖特基势垒更低,更容易氧化溶解形成硅纳米线阵列;在一步金属辅助化学刻蚀法制备多孔硅纳米线阵列的过程中,溶液中AgNO_3浓度对于其刻蚀形貌和结构起到主要作用,AgNO_3浓度过低或过高时,硅片表面会形成腐蚀凹坑或坍塌的纳米线簇,Ag NO3浓度为0. 02 mol·L~(-1)时,硅纳米线会生长变长,最终形成多孔硅纳米线阵列.随着硅纳米线的增长,纳米线之间的毛细应力会使得一些纳米线顶部出现团聚现象;且当HF溶液浓度超过4. 6 mol·L~(-1)时,随着HF酸浓度的增加,硅纳米线的长度随之增加.同时,硅纳米线的顶部有多孔结构生成,且硅纳米线的孔隙率随HF浓度的增加而增多,这是由于纳米线顶部大量的Ag+随机形核,导致硅纳米线侧向腐蚀的结果.最后,根据实验现象提出相应模型对多孔硅纳米线的形成过程进行了解释,归因于银离子的沉积和硅基底的氧化溶解.     

一步纳米银催化刻蚀法制备多孔硅纳米线阵列

通过采用一步纳米金属颗粒辅助化学刻蚀法(MACE)成功制备了多孔硅纳米线, 并主要研究了硅片掺杂浓度、氧化剂AgNO₃浓度以及HF浓度对硅纳米线阵列形貌结构的影响规律. 研究结果表明: 较高的掺杂浓度更有利于刻蚀反应的发生和硅纳米线阵列的形成, 这是由于高掺杂浓度在硅片表面引入了更多的杂质和缺陷, 同时高掺杂浓度的硅片与溶液界面形成的肖特基势垒更低, 更容易氧化溶解形成硅纳米线阵列; 在一步金属辅助化学刻蚀法制备多孔硅纳米线阵列的过程中, 溶液中AgNO₃浓度对于其刻蚀形貌和结构起到主要作用, AgNO₃浓度过低或过高时, 硅片表面会形成腐蚀凹坑或坍塌的纳米线簇, AgNO₃浓度为0.02 mol·L-1时, 硅纳米线会生长变长, 最终形成多孔硅纳米线阵列. 随着硅纳米线的增长, 纳米线之间的毛细应力会使得一些纳米线顶部出现团聚现象; 且当HF溶液浓度超过4.6 mol·L-1时, 随着HF酸浓度的增加, 硅纳米线的长度随之增加. 同时, 硅纳米线的顶部有多孔结构生成, 且硅纳米线的孔隙率随HF浓度的增加而增多, 这是由于纳米线顶部大量的Ag+随机形核, 导致硅纳米线侧向腐蚀的结果. 最后, 根据实验现象提出相应模型对多孔硅纳米线的形成过程进行了解释, 归因于银离子的沉积和硅基底的氧化溶解.      

金属阳极钌钛涂层的研究

涂层是金属阳极制造的关键工艺,涂层的性能将直接影响阳极的使用寿命和质量。本文结合氯碱工业用涂钌钛阳极的生产实际,对提高涂层性能的途径进行了探讨。     

用Megafix BES染料进行铝阳极氧化膜染色

本文介绍了铝阳极氧化膜的染色机理和Megafix BES染料的染色性能，对Mgeafix BES染料染色工艺条件进行了探讨，推荐了Megafix BES染料染色实用工艺，为金属铝染色拓宽了染料应用范围，且色谱齐全，得色深浓，色泽鲜艳，性能优越。     

氧化模板在电子铝箔腐蚀中的应用

通过控制铝多孔氧化膜的孔径及分布,获得了适合铝电解电容器发孔的氧化铝模板;通过减薄阻挡层厚度工艺及腐蚀工艺的调整,获得了孔洞分布均匀的腐蚀箔,为开发高容量节能铝电容器新腐蚀工艺提供了新思路。     

影响铝阳极氧化膜冷封孔质量的因素

本文结合生产实践阐述阳极氧化及封孔工艺参数对铝型材阳极氧化膜冷封孔质量的影响，给出了一些合理的工艺参数和提高封孔质量的有效措施。     

电化学技术在陶瓷制备中的应用

介绍了电化学制备陶瓷的各方法原理,主要包括阴极电沉积和阳极电沉积陶瓷薄膜2种方式.其中阴极电沉积陶瓷原理基于胶体化学的DLVO理论,包括电泳沉积（EPD）和电解沉积（ELD）2种方式;而阳极电沉积原理基于阳极氧化理论,主要介绍了阳极氧化、微弧氧化和水热电化学技术.阳极电沉积需要消耗阳极材料,但其陶瓷和基体结合力相对较强.     

氧化铝丝的研制

氧化铅丝生产过程中最关键的工艺是连续阳极氧化。氧化膜击穿电压决定于氧化膜厚度。控制膜厚度的三要素为:电解液(成份、浓度及温度),槽电压和铝丝走速。     

Preparation of Aluminum Hydroxide During the Synthesis of High Purity Alumina via Aluminum Anodic Oxidation

Metallurgical and Materials Transactions B - High purity alumina is one of the main products on the ceramic powder market. In this study, a promising technology for the synthesis of high purity...     

The Effect of Anodic Oxide Films on the Nickel-Aluminum Reaction in Aluminum Braze Sheet

The influence of an anodic oxide surface film on the nickel-aluminum reaction at the surface of aluminum brazing sheet has been investigated. Samples were anodized in a barrier-type solution and subsequently sputtered with nickel. Differential scanning calorimetry (DSC) and metallography were used as the main investigative techniques. The thickness of the anodic film was found to control the reaction between the aluminum substrate and nickel coating. Solid-state formation of nickel-aluminum intermetallic phases occurred readily when a relatively thin oxide film (13 to 25 nm) was present, whereas intermetallic formation was suppressed in the presence of thicker oxides (~60 nm). At an intermediate oxide film thickness of ~35 nm, the Al₃Ni phase formed shortly after the initiation of melting in the aluminum substrate. Analysis of DSC traces showed that formation of nickel-aluminum intermetallic phases changed the melting characteristics of the aluminum substrate, and that the extent of this change can be used as an indirect measure of the amount of nickel incorporated into the intermetallic phases.

     

溶胶－凝胶法制备钇铝石榴石纤维

以氯化铝、金属铝粉、氧化钇、冰醋酸为原料,采用溶胶—凝胶法制备了钇铝石榴石纤维。研究氯化铝和金属铝粉比例以及醋酸的加入,对前驱体溶胶纺丝性能的影响。结果表明,加入醋酸可得到纺丝性能良好的前驱胶体溶胶。凝胶纤维在1 000℃煅烧2 h,全部结晶为钇铝石榴石,纤维直径10~40μm。