复合阴极材料电子发射特性的基础研究

在不同的温度、压力、电压条件下,对所开发的阴极材料进行了电发射特性的试验研究。研究结果表明,温度、压力、电压对发射电流均有不同程度的影响。在高温(>800 ℃)条件下,由阴极材料热发射所获得的电流密度比采用常规电晕方式所得到的电流密度至少高两个数量级。发射级具有良好的稳定性,可在高温高压条件下长期使用。     

强流铁电阴极二极管电子发射过程研究

讨论了铁电阴极二极管的发射过程 ,指出在铁电阴极的发射过程中 ,极化反转发射、场致发射、等离子体爆炸发射都可能存在 ,这取决于触发脉冲的极性与大小。不管属于那一种发射方式 ,发射电子都具有一定初始能量     

磁控管预热时间对微波炉能效影响的研究

《家用和类似用途微波炉能效限定值及能效等级》国家标准中提到磁控管预热时间,但是并未给出一个确切的定义.本文针对这个问题,结合磁控管工作原理,通过大量实验研究发现,磁控管预热时间的确定对微波炉能效等级的划分有着重要的意义,因此,有必要对磁控管预热时间进行研究,减少其在微波炉能效测试技术中的误差.     

球磨对铁氧体磁体性能及磁控管中心磁场的影响

针对一种用于微波炉磁控管的环形磁体,采用陶瓷法制备磁体,探讨球磨过程(球磨时间、研磨介质磨损情况及研磨介质尺寸下限)对磁体性能及磁控管磁路中心磁场影响因素,以求合理设计球磨工艺以制备满足微波磁性能要求的永磁铁氧体料浆。通过磁性能测试仪检测磁体剩磁和磁路中心磁场,用X射线衍射(XRD)分析样品的相成分并计算取向度,用扫描电镜(SEM)观察粉体形貌。结果表明,磁体性能及磁控管中心磁场主要取决于粉料的磁场成型取向度,球磨时间15h可以获得2020G的中心磁场。适当控制球磨时间和补充研磨介质的损耗,并控制研磨介质的尺寸下限在5mm附近,可以改善料浆的粒度分布,获得更好的取向度。     

基于电子发射原理的场击穿型真空触发开关

真空触发开关（TriggeredVacuumSwitch,TVs）以其动作迅速、介质恢复快、体积小、触发系统灵活以及结构简单等优点,成为脉冲功率技术中的一种重要的控制器件。针对一种场击穿型TVS的开通原理,建立了电子发射模型。一方面是触发极电子发射的宏观特性,包括预击穿现象、击穿电压和发射电子电流等;另一方面是触发间隙里初始等离子体的内在微观特性,包括带电粒子的产生、增长和运动迁移特性。利用高速摄像技术,捕获部分TVS起弧的图像,直观地展示了初始等离子体的发展过程。     

雷达磁控管智能老炼测试仪的设计

本文介绍了一种基于PC104嵌入式计算机系统的雷达磁控管智能老炼测试仪的设计方法,该老炼仪主要由主控制器、脉冲调制电路、测量与保护电路、适配器等组成,它的工作原理是磁控管通过适配器连接到测试仪后,主控制器可识别与之相对应的磁控管的型号,然后主控制器运行相应的测试老炼程序,自动完成磁控管的老炼测试任务。     

高阈值场发射屏蔽材料电性能实验研究

高域值场发射屏蔽材料为采用特殊工艺在不锈钢等金属材料表面覆盖一层绝缘薄膜,使金属表面的场致电子发射域值提高,有效防止金属材料表面局部场强过高导致电击穿的现象发生。为了检验和测试该屏蔽材料的实际性能,设计了屏蔽材料场发射域值的测试方案,采用电流测量方法判断经过屏蔽材料处理后的阴极头是否有电子发射,并通过阴极头的电压测试确定阴极头发射电子时的电压,通过数值模拟计算确定阴极头的发射域值。构建了实验测试平台,采用1 MV/100 kA电子加速器作为高压脉冲功率源,以平面二极管作为负载,二极管阴极头为实验样品。实验中分别测试了普通不锈钢阴极头的场发射域值和经过屏蔽材料处理后阴极头场发射域值,结果表明,普通不锈钢阴极头的场发射域值在450 kV/cm附近,而经过特殊工艺处理后的阴极头场发射域值在630 kV/cm附近,场发射域值约提高40%。     

基于电子激励解吸附原理的二次电子崩假说

系统阐述了基于电子激励解吸附原理的二次电子崩假说的核心论点,即绝缘体表层气体解吸附是导致闪络发生的关键,分析了假说中的阴极三结合点场致电子发射、二次电子崩产生、二次电子发射系数δ、绝缘体表面电荷、绝缘体表面气体解吸附等因素在闪络过程中的作用。     

再析电弧场电子理论

进入近阴极区的带电粒子是携带有能量的。用动能的形式表现则粒子的初速度不为零 ,用所建立的Poisson方程获得的阴极表面电场强度比Mackeown大近一倍     

磁控溅射对薄膜附着力的影响

磁控溅射技术因具有溅射速率高、无污染、可制备各种不同功能的薄膜等优点而得到广泛地应用。综述了薄膜附着力机理,分析了影响薄膜性能的因素,结果表明,薄膜的附着力是影响薄膜性能的主要因素。影响薄膜附着力的因素有:基材的表面清洁度、制备薄膜的各种工艺参数、热处理、原料的纯度等。     

Pyroelectric Electron Emission Behaviors of Congruent and Stoichiometric Lithium Niobate Single Crystals

Pyroelectric electron emission current measurements and current distribution collecting were performed on congruent and stoichiometric lithium niobate single crystals. Electron emission behaviors were found to be gap distance (crystal-detector) dependent. For small gaps, in both crystal compositions, emission was accompanied by a partial superficial domain inversion, triggered by surface plasma ignition. For large gaps (> 2 mm) in congruent single crystals the emission was activated by a true pyroelectric effect.     

Low‐Energy Electron Beam Induced Charging and Secondary Electron Emission Properties of FEP Film Used on Satellite Surfaces

Many kinds of insulating materials are used outside a spacecraft. They include FEP films, polyimide films, and so on, and are used as thermal control materials. These materials are exposed to a charged‐particle environment around the spacecraft. Thus then become charged due to charged particles, especially electrons. It has been pointed out that charging of these materials is likely to cause discharges on the surfaces. From this viewpoint, we investigated the charging potential characteristics of 127‐μm‐thick FEP film, a typical thermal control material, by exposing it to electron irradiation at various energies below 20 keV. In the dependence of the charging potential on the electron energy, we found that the electron energy at which no charge‐up occurs is about 2.7 keV. This appears to be the energy at the which secondary electron emission yield becomes unity. This indicates that electron irradiation of FEP film with energies lower than 2.7 keV induces positive charging. From the charge decay characteristics after electron irradiation, the volume resistivity of the film was also obtained as a function of the electric fields in the bulk of the FEP film.     

阴极碳酸盐涂覆工艺的规范性对灯管品质的影响

通过对阴极碳酸盐（Cathode Carbonates）（以下称电子粉）的组分、作用及理化特性进行分析,探究阴极碳酸盐涂覆工艺规范对灯管品质的影响。     

铁电阴极电子发射机理研究

通过铁电阴极二极管电子发射试验分析讨论了发射前后材料的X射线衍射和发射的微观机理 ,指出铁电极发射是出于材料在高电场作用下的极化反转 ,发射电流密度与触发电场满足幂指数关系 ,其幂指数等于 1 1。     

磁控溅射用旋转阴极磁场装置的结构设计及磁场分析

针对现有磁控溅射装置在镀膜工作中靶面阴极磁场分布不均匀的问题,设计了一种新型旋转阴极磁场装置。该装置通过旋转机构带动磁场做圆周运动,利用凸轮机构使磁场做上下直线运动。首先,利用3D软件绘制出该装置的三维模型;其次,对阴极磁场磁感应强度进行了有限元分析;最后,通过调整磁轭高度、伸出臂长度以及磁轭-靶材间距优化了磁场,并将优化前后的数值模拟曲线进行了对比分析。结果表明,优化后阴极磁场磁感应强度曲线的均匀度由21%改善到6%,有效改善了靶面磁场均匀性,有利于保证磁控溅射的稳定运行。     

磁控溅射镍膜及其性能的研究

采用磁控溅射法在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基材上制备了镍薄膜。用扫描电子显微镜(SEM)分析溅射功率、溅射真空室气压等工艺参数对镍薄膜表面形貌的影响;研究了溅射工艺参数与薄膜性能之间的关系。实验结果表明,在室温下,随着溅射气压的增加,沉积速率和粒径都是先增加后又逐渐变小,而薄膜的电阻则随着压强的增大先减小后逐步增大;薄膜的表面粗糙度随着溅射功率的增加而增大;膜层与基材的剥离强度较大且均匀,膜层结合较为牢固,薄膜的耐摩擦性能较为优良。