Mg-PbO2-Ti-PbO2-PTFE复合薄膜烟火材料的制备及性能

采用磁控溅射和真空蒸镀结合的方法,制备了Mg-PbO2-Ti-PbO2-PTFE复合薄膜烟火材料,利用X射线光电子能谱(XPS)分析了真空蒸镀的薄膜成分,并测定了薄膜材料与基底间的附着力.采用光纤法测量薄膜材料的燃烧线速度,分析了其燃烧过程.结果表明,利用真空蒸镀法可得到PbO2薄膜,复合薄膜烟火材料与基底有较好的附着...     

蒸镀TiO2薄膜的面料

采用真空蒸镀法制备了负载纳米TiO2织物。利用扫描电镜（SEM）和X射线衍射仪（XRD）分别分析了其表面形貌和晶体结构,探讨了负载TiO2和热处理对棉织物的抗紫外线性能的影响。萁结果表明：在蒸镀条件相同的前提下,蒸镀时间为13s且经过热处理的负载纳米TiO2织物的抗紫外线性能较好。     

硅蒸镀法制备低密度C/C复合材料表面SiC涂层

采用浆料法在低密度C/C复合材料表面制备了石墨涂层,然后利用硅蒸镀法使硅蒸气与石墨涂层反应生成SiC涂层.借助X射线衍射、扫描电子显微镜等研究了蒸镀温度、蒸镀时间、石墨涂层表面粗糙度、硅蒸发源及气氛条件对涂层微观结构、相组成、致密度、平整度以及涂层厚度的影响.结果表明:随着蒸镀温度的升高,涂层的表面平整度增加,当蒸镀温度为1550℃和1650℃时,涂层表面仅存在SiC;硅块为硅蒸发源,氩气为保护气氛均可提高涂层表面平整度;降低石墨涂层的表面粗糙度,涂层的致密度和连续性增大;随着蒸镀时间的增加,SiC涂层厚度和致密度逐渐增加.     

Al／PET和Cu／PET蒸镀膜包装材料附着力及微观结构的研究

利用真空镀方法在聚酯(PET)薄膜上沉积Al(Cu),制得Al/PET(Cu/PET)复合薄膜包装材料。用直接牵引拉伸法和划痕法测定这两种薄膜的附着力,获得其附着力与蒸镀条件(真空度、温度、蒸发时间)的规律;用扫描电镜(SEM)观察镀层微观结构,得到镀层晶粒度与蒸镀条件的对应关系;用金相显微镜测量镀层厚度,获得镀层厚度与时间的对应关系。     

高阻隔透明陶瓷膜蒸镀技术

对高阻隔透明陶瓷膜的发展概况及应用进行了综述,介绍了陶瓷膜的真空蒸镀技术、PECVD蒸镀技术的原理、特点和应用,并对陶瓷膜蒸镀技术的发展趋势进行了展望.     

钛合金表面高温真空蒸镀钛涂层的组成和结构

对钛合金表面高温真空蒸镀钛涂层进行了研究,并将钛合金表面蒸镀层及附近的组成和结构与未作蒸镀处理的钛合金的组成和结构作了对比分析,对经蒸镀处理后的钛合金试样表面元素含量的变化作出了初步的解释。     

多功能的新型软包装材料——SIOx蒸镀薄膜

一、技术现状 硅蒸镀薄膜是利用一氧化硅(Siliconmonoxide)在真空中蒸镀形成的微米级薄膜。由于一氧化硅很不稳定,它很容易氧化成为二氧化硅,所以在分子式中常记为SiOx,其中x值在1-2之间。从原理上说,可用来真空镀膜的蒸发技术都可用来形成硅蒸镀膜,但不同的方法对蒸发源材料的组成有不同的要求,得到的膜组成也不同。除了利用通常的电阻加热或高频感应加热在真空室中可以蒸镀SiOx薄膜外,也可以用电子束(EB)和低温等离子体     

真空蒸镀钝化太安(PETN)薄膜的研究

对真空蒸镀钝化太安 (PETN)炸药薄膜进行了研究。分析了真空度、蒸镀温度、蒸发速率、基片表面状态等因素对形成薄膜的影响。得出了适宜蒸镀的真空条件、最佳蒸镀温度和蒸发速率 ;提出了增加薄膜和基片附着力的方法。     

玻片基板温度对磷掺杂真空蒸镀多晶硅薄膜的影响

为进一步提高多晶硅薄膜的晶化率,采用真空蒸镀法结合金属铝诱导退火处理在玻璃衬底上制备了掺杂磷的多晶硅薄膜。采用扫描电镜、激光拉曼光谱仪等研究了基板温度对磷掺杂多晶硅薄膜的组织、形貌、晶粒尺寸及晶化率的影响。结果表明:随基板温度升高,薄膜的晶粒大小和晶化率呈先增大后减小的趋势,基板温度为150℃时,晶粒尺寸显著增大,达0.45μm左右,且具有较高的结晶度,薄膜晶化率可高达94.95%。     

真空蒸镀钝化太安（PETN）薄膜的研究

对真空蒸镀钝化太安(PETN)炸药薄膜进行了研究。分析了真空度、蒸镀温度、蒸发速率、基片表面状态等因素对形成薄膜的影响。得出了适宜蒸镀的真空条件、最佳蒸镀温度和蒸发速率；提出了增加薄膜和基片附着力的方法。     

Ti—5Al,5Sn合金冷坩埚感应熔炼过程中Al和Sn元素的挥发研究

利用所建立模型研究了Ｔｉ－５Ａｌ－２,５Ｓｎ合金感应凝壳熔炼（ＩＳＭ）过程中Ａｌ、Ｓｎ元素的挥发控制方式,并在此基础上研究了熔体温度和真空室压和对Ａｌ、Ｓｎ挥发速率的。结果表明,实际熔炼条件下Ａｌ、Ｓｎ的挥发都由界面挥发反应单一控制,真空室压力对挥发速率的影响具有明显的临界值,当压力低于此临界值时,挥发速率几乎没有什么粉经,两当压力高于此值时,挥发速率迅速降低。     

PVDF薄膜的低维化制备和结构研究

采用真空热蒸发技术在单晶硅基底上沉积PVDF薄膜.通过分析阻蒸温度对薄膜沉积速率和真空室气压变化的影响研究了PVDF镀膜过程.同时利用傅立叶变换衰减全反射红外光谱(ATR-FTIR)、X射线衍射(XRD)和差热分析(DSC)对薄膜的晶型结构进行了表征分析,结果发现,真空热蒸发技术可制备具有高度取向性的α晶相PVDF薄膜,且薄膜中不舍C=C键.相比于PVDF树脂粉末,所得薄膜的结晶度明显增大而分子量显著减小,实现了PVDF薄膜的低维化制备.     

烫印箔用真空蒸发镀锡膜工艺参数的确定

通过对铝和锡2种材料物理性能的理论分析和在高真空连续蒸发卷绕镀铝设备进行的实验,其结果为用于烫印锡膜的真空蒸发镀锡膜提供了合理的工艺参数。     

CdTe nanosheets and pine-like hyperbranched nanostructures prepared by a modified film technique: Catalyst-assisted vacuum thermal evaporation

Novel CdTe nanostructures including nanosheets and pine-like hyperbranched (PH) nanostructures were prepared by a modified film technique, catalyst-assisted vacuum thermal evaporation. Metal bismuth powder was employed as catalyst to guide the growth of the nanostructures by the co-evaporation with CdTe powder. The chemical composition and crystal phase analyses reveal that the nanostructures are near stoichiometric CdTe with a zinc-blende structure. The morphological studies show that the CdTe nanosheets have a triangular shape with micro-sized lateral widths and nano-sized thickness. The CdTe PH nanostructures have a pine-like shape with 4 or 3 rows of aligned nanorod-branches. The formations of the novel CdTe nanostructures were addressed by the axial vapor-liquid-solid (VLS) growth combined with the lateral vapor-solid or VLS growth.     

一种低饱和蒸气压润滑脂的真空蒸发特性测试

针对一种国外进口的空间活动部件用低饱和蒸气压润滑脂,应用真空物理的基础理论,以及现有的试验设备和仪器条件,设计了蒸发速率测试方案,评价了该润滑脂的真空蒸发损失特性,回归出饱和蒸气压随温度变化的方程。为预测其在真空下长期使用中的蒸发损失量,以及验证在常温下的饱和蒸气压指标提供了一种方法。     

浸渍阴极的真空预处理技术

本文总结了用于真空微波电子器件的浸渍阴极的蒸发规律,通过分析提出了浸渍阴极预处理工艺,建立了超高真空装置.在超高真空环境下,将浸渍阴极灯丝加热,使阴极温度升高到1100～1200℃,保持1～200h(温度和时间依不同微波管型而定).预处理工艺解决了浸渍阴极发射与蒸发的矛盾,现已建立数十台、几十个工位的浸渍阴极预处理设备...     

基于PLC的真空蒸发废油处理自动控制

本文介绍了PLC在废油处理设备自动控制系统中的应用.主要介绍了真空蒸发工艺及PC-PLC控制系统的主要功能等.该系统实现了对废油再生设备的自动控制和运行状态的实时监控.PLC具有运行稳定、可靠性高及价格低廉等优点,提高r废油处理设备的运行控制水平.     

欧式菱镁水泥装饰制品真空镀膜表面金属化方法探讨

探讨了真空镀膜法进行菱镁水泥装饰制品表面金属化的主要工艺环节 ,其重点在于底面漆材料的选择及镀膜工艺的掌握。采用磁控和蒸发装饰镀镀制了菱镁水泥浮雕、花盘、线条及人物和动物造形等 ,取得了理想的效果     

添加剂对传感器用PCB环氧树脂板真空蒸镀铜层参数优化及结构的影响

为了提高传感器用PCB环氧树脂板的表面性能,利用次磷酸钠体系在其表面进行真空蒸镀铜.选择苯亚磺酸钠(SBS)与聚乙烯亚胺(PEI)作为添加剂来分析其对镀铜层性能的影响,获得更适合真空蒸镀铜工艺的添加剂.研究结果表明:在65℃下持续沉铜0.5 h,综合沉积率以及板面颜色,确定最优含量PEI为16～28 mg/L,SBS为...