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相似文献
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1.
用Sol-Gel钛酸镧铅(PLT)溶胶,在CVD法沉积生成的二氧化锡/玻璃衬底上旋转涂胶成膜。经快速热退火(RTA)处理后,用X射线衍射(XRD)测试了膜的结晶取向,用RT66A测试了膜的电学性能。结果表明,Sol-GelPLT膜在SnO2衬底上能正常结晶,结晶温度与在Pt衬底上一致,结晶取向以〈100〉为主取向。10V时,SnO2衬底上厚度为0.56μm的PLT膜的漏电约为5.6×10-7A/mm2,比Pt衬底上同等厚度的PLT膜高约一个数量级。膜的剩余极化强度Pr=24μC/cm2,比Pt衬底上的高。PLT/SnO2的疲劳特性优于PLT/Pt结构。  相似文献   

2.
太阳电池中CdTe多晶薄膜沉积制备及其性能   总被引:1,自引:2,他引:1  
在氩氧混合气氛下近空间升华技术(CSS)制备CdTe多晶薄膜中,薄膜的结构、性质决定于整个沉积过程深入研究沉积过程中的热交换、物质输运,有助于制备薄而致密的具有进行良好光电性质CdTe薄膜.通过分析近空间沉积的物理机制,测量近空间沉积装置内温度分布,对升温过程、气压与薄膜初期成核的关系进行讨论。研究结果表明,不同气压下制备的样品,均有立方相CdTe,此外,还有CdS和SnO2:F衍射峰,CdTe晶粒随气压增加有减小趋势;随气压的增加.透过率呈下降趋势,相应的CdTe吸收边向短波方向移动。在此基础上制备出转换效率优良的结构为SnO2:F/CdS/CdTe/Au的串联集成电池。  相似文献   

3.
用Sol-Gel钛酸镧铅 (PLT)溶胶 ,在CVD法沉积生成的二氧化锡 /玻璃衬底上旋转涂胶成膜。经快速热退火 (RTA)处理后 ,用X射线衍射 (XRD)测试了膜的结晶取向 ,用RT66A测试了膜的电学性能。结果表明 ,Sol-GelPLT膜在SnO2 衬底上能正常结晶 ,结晶温度与在Pt衬底上一致 ,结晶取向以〈10 0〉为主取向。 10V时 ,SnO2 衬底上厚度为 0 5 6μm的PLT膜的漏电约为 5 6× 10 - 7A/mm2 ,比Pt衬底上同等厚度的PLT膜高约一个数量级。膜的剩余极化强度Pr=2 4μC/cm2 ,比Pt衬底上的高。PLT/SnO2 的疲劳特性优于PLT/Pt结构。  相似文献   

4.
用闭空间升华法制备CdTe薄膜。研究了衬底材料,基片温度对膜微结构的影响。衬底温度在400℃以上薄膜结晶状况较为完整。结晶状况较好的CdS薄膜生长的CdTe薄膜晶粒较大,尺寸均匀。在CdTe膜面涂敷CdCl2甲醇溶液,呵促进热处理过程中薄膜晶粒的长大。  相似文献   

5.
通过旋涂法以P25、松油醇、乙基纤维素为原料制备了浆料,并将其均匀涂布在FTO导电玻璃上,通过控制旋涂次数来制备不同厚度的TiO_2光阳极膜,利用扫描电子显微镜(SEM)对其形貌和结构进行了表征。采用CdS量子点做敏化剂,通过连续离子层沉积(SILAR)法制备CdS/TiO_2光阳极,以化学浴沉积(CBD)法制备CuS对电极,最终组装为电池器件。通过对电池的光电性能测试,首先明确了不同CdS沉积次数的CdS/TiO_2光阳极对电池的光电性能影响,在最佳的CdS沉积次数上得到了不同旋涂厚度TiO_2光阳极对电池的光电性能的影响。实验结果表明,当CdS沉积次数为9次,TiO_2旋涂次数为3次,厚度为15μm时,电池的短路电流密度和光电转换效率均达到最大值分别为:Isc=8.18mA·cm-2、η=2.32%。  相似文献   

6.
本文介绍了当前金刚石薄膜形核的现状及用热丝化学气相沉积法在不同的衬底上沉积金刚石膜,对Si、Ni、Cu三种衬底生长的金刚石膜进行研究如何增大形核密度、提高形核质量。得到了制备高密度和高质量的金刚石膜的方法。  相似文献   

7.
CVD法制备Sb掺杂SnO2薄膜的结构与性能研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用化学气相沉积法(CVD)制备了Sb掺杂SnO2薄膜(ATO),研究了Sb掺杂量对ATO薄膜结构和性能的影响。利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)等分析手段对所制得薄膜的结构、形貌、成分等进行了表征,XRD结果表明在基板温度为665 ℃时能够制得结晶性能较好的多晶薄膜,XPS分析确定掺杂后的Sb以Sb5+离子形式存在。讨论了Sb掺杂量对方块电阻、透射率和反射率等薄膜性质的影响,结果表明,当Sb掺杂量为2%时取得最小方块电阻为7.8 Ω/□,在可见光区薄膜的透射率和反射率随着Sb掺杂量的增加呈下降趋势。最后探讨了Sb掺杂SnO2薄膜的显色特性,认为Sb5+离子的本征吸收是薄膜显色的主要原因。  相似文献   

8.
用Sol-Gel锆钛酸铅(PZT)溶胶,在CVDE法沉积生成的掺锡氧化铟(ITO)/玻璃衬底上旋转涂胶成膜。经快速热退事,用X射线衍射(XRD)测试了膜的结晶取向,用RT66A测试了膜的电学性能。结果表明,Sol-Gel 膜在CVD法生长的ITO衬底上能正常结晶,但结晶温度比在Pt衬底上略高,结晶取向以〈110〉为主取向。  相似文献   

9.
用Al2O3粉体与ZnO粉体均匀混合,压制成溅射靶。在Si和SiO2/Si衬底上。用离子束增强沉积(IBED)方法对沉积膜作Ar^+/N^+注入,制备Al-N共掺杂氧化锌薄膜(ANZO)。在氮气氛中作适当的退火,可以方便地获得取向单一、结构致密、性能良好的共掺杂ZnO薄膜。探索用IBED方法在Si和SiO2衬底上制备优质掺杂薄膜的可能性。初步研究了ANZO共掺杂薄膜的结构、电学和光学性能。  相似文献   

10.
ITO衬底上PZT膜的性能研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
用Sol- Gel 锆钛酸铅(PZT) 溶胶, 在CVD 法沉积生成的掺锡氧化铟(ITO) / 玻璃衬底上旋转涂胶成膜。经快速热退火(RTA) 处理后, 用X 射线衍射(XRD) 测试了膜的结晶取向, 用RT66A 测试了膜的电学性能。结果表明, Sol- Gel PZT膜在CVD 法生长的ITO 衬底上能正常结晶, 但结晶温度比在Pt 衬底上略高, 结晶取向以< 110 > 为主取向。ITO 衬底上厚度为0-64 μm 的PZT 膜的漏电约为5 ×10 - 7 A/m m2 , 比Pt 衬底上高不到一个数量级。8 V 时膜的有效介电常数Kef 约1 380 , 剩余极化强度Pr= 13 μC/cm2 , 与Pt 衬底上无明显差别。CVDITO/ 玻璃衬底可取代昂贵的Pt 衬底作铁电薄膜的性能研究。  相似文献   

11.
探讨了 Banach 代数中的行列式理论.给出了具有单位元的迹 Banach 代数具有行列式的充要条件.  相似文献   

12.
对近年来非织造布滤料的研究进展做了简要综述,介绍了内部结构的研究及表征、过滤性能及其影响因素、过滤过程的计算机模拟,指出进一步发展所需要解决的问题。  相似文献   

13.
<正>May 26,2014,BeijingScience is a human enterprise in the pursuit of knowledge.The scientific revolution that occurred in the 17th Century initiated the advances of modern science.The scientific knowledge system created by human beings,the tremendous productivity brought about by science,and the spirit,methodologies and norms formulated in scientific practice since the 17~(th)Century have long become essential elements of  相似文献   

14.
15.
单面约束系统的微分变分原理与运动方程   总被引:2,自引:0,他引:2  
研究单面约束力学系统的微分变分原理和运动方程。方法利用D'Alembert原理建立D'Alembert-Lagrange原理.Jourdain原理和Gauss原理,结果与结论得到系统的微分变分原理和带乘子的Euler-Lagrange形式,Nielsen形式和Appell形式的运动方程。  相似文献   

16.
q 是一个正整数,所谓 q-树的图是递归定义的:最小的 q-树是完全图 Kq,一个 n+1阶的 q-树是通过在 n 阶 q-树上加上一个新点并连接这点与 n 阶 q-树中任意 q 个互相邻接的点而获得,其中 n≥q.1-树我们通常称为树.在本文中,证明了对任意正整数 q,q-树是可重构的.  相似文献   

17.
采用毛细管区带电泳模式,以β-环糊精为手性选择剂分离了药物扑尔敏的光学对映体.考察了在不同背景电解质 pH 值尤其是较低 pH 值下环糊精浓度对对映体表观淌度差的影响,并研究了有机改性剂尿素在分离中的作用.  相似文献   

18.
利用层状球形夹杂在无限大基体中的局部化关系及平均应力场理论,给出了一种方法来分析含 n 种层状球形夹杂所构成复合材料的弹性模量.对于文献给出的空心玻璃球和高分子基构成的复合材料,该理论的预测与实验吻合很好.当表层稍失时,该理论退化为传统的 Mori-Tanaka平均应力场理论.  相似文献   

19.
分析了当前高师物理专业人才培养与基础教育人才需求存在的问题,结合调查情况,提出了高师物理专业在培养目标、课程设置、教学内容、教学方法及实践教学环节方面的改革措施。  相似文献   

20.
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