低硅电解金属锰试验

阐述了电子工业发展对电解锰产品中Si含量的要求，分析了生产中Si的主要来源，提出了降Si的理论依据，措施与途径。     

电工钢用无磷涂硅脱脂剂的研制与应用

通过实验确定无磷涂硅脱脂剂配方：木质素磺酸钠／XA50（C10脂肪醇乙氧基化合物）=1：1用量为2g／L,氢氧化钠用量为1．5g／L;碳酸钠6g／L;硅酸钠10g／L;柠檬酸钠1g／L。该脱脂剂高效环保,结合电解脱脂技术,生产运行中脱脂效率稳定在97％以上。     

铝矿处理并直接电解生产铝硅钛合金（3）：铝硅钛合金的应用

铝矿处理并直接电解生产铝硅钛合金（３）──铝硅钛合金的应用杨冠群，顾松青，刘高兴，周宗禹，田庚有（郑州轻金属研究院４５００４１）１铁在铝基合金中的作用铝基合金中含有少量钛，能起到细化结晶组织，增加耐磨性和抗蚀性，提高常温和高温强度，增加热稳定性等作用...     

铝矿处理并直接电解生产铝硅钛合金 2：除铁矿粉电解生产铝硅…

介绍了除铁铝矿直接电解生产的铝硅钛合金试验结果，探讨了电解过程各成分的行为，通过指标对比，指出本工艺的经济合理性。     

熔盐电解SiO2/TiO2制备硅钛合金的研究

采用熔盐电解法通过直接电解SiO2、TiO2混合物料来制备硅钛合金。热力学计算结果表明,在700℃下,SiO2和TiO2的理论分解电压分别为1.28V和1.37V,生成的单质硅和钛在高温下能够自发进行合金化反应,生成硅钛系列合金,且容易倾向于生成稳定合金相TiSi2合金。研究表明,以摩尔比50∶1的SiO2/TiO2混合物料为原料,在等摩尔比的CaCl2-NaCl混合熔盐中,在700℃、2.4V槽电压下,经过5h电解后,制备得到TiSi2/Si合金,微观形貌为粒径0.2~2.5μm的多孔颗粒堆积,单质硅颗粒覆盖在TiSi2合金颗粒表面。     

硅热法炼镁还原过程熔融黏结机理及控制

黏罐结釉是制约外热式硅热法炼镁技术发展的主要难题。通过大量热物理化学试验及对低熔点复合氧化物的物相检测分析,系统揭示了造成黏罐结釉的固相催化反应熔融黏结机理：硅热法炼镁还原过程中,FeO或Fe2O3的生成及其与SiO2或CaO生成的复合氧化物是造成给熔融黏结问题的核心因素,通过原料杂质控制和还原过程工艺控制,以减少FeO或SiO2的含量,能有效控制渣球的软化程度以及黏结程度。研究结果能够为外热式硅热法炼镁新型还原罐的设计优化提供基础理论指导。     

利用电解金属锰渣制备硅锰肥的试验研究

通过在电解金属锰渣中加入助剂,采取高温煅烧和微波消解的方法活化SiO2,利用正交试验和单因素试验研究得出了电解金属锰渣中有效硅活化的最佳质量配比为电解金属锰渣∶CaCO3∶Na2CO3∶ NaOH=1.00∶ 0.60∶ 0.15∶0.10,在此比例下经400℃高温煅烧,其有效硅含量达到6.94％,用微波消解其有效硅含量达8.08％,同时水溶性锰含量达1.51％,枸溶性锰含量达5.01％.经活化后的电解金属锰渣可作为硅锰肥,为植物提供必要的生长元素.     

冷轧带钢电解清洗技术及其应用

介绍了电解清洗技术基本原理和发展情况,对3种典型的高电流密度电清洗技术进行了详细介绍,并介绍了电解清洗机组在鞍钢、宝钢和宜昌薄板厂的应用情况。     

辊涂工艺及机械设备对带钢涂覆质量影响分析

对钢铁行业涂层处理线中的辊涂工艺及设备做了综合阐述,通过对辊涂过程中影响带钢涂层质量的辊涂方式、辊速比、辊间压力等一些关键工艺参数的分析比较,结合生产实践中的一些经验参数,对其原因进行了分析总结,给出了改进措施。同时,通过对辊涂机的设备组成形式、精度及设备生产过程中产生的振动及振源分析,指出减振措施及振动检测手段的应用将是辊涂设备的设计与使用中必不可少的步骤。     

电解清洗技术在酒钢镀锌线的应用

介绍了电解清洗的基本原理,重点阐述了酒钢镀锌线的电解清洗槽的结构及控制方式。文中介绍了提高电流效率的技术措施,最后总结了生产和维护过程中的常见故障及处理方法。     

锡精炼除铜渣直接电解新工艺研究及工艺实践

研究了锡精炼除铜渣电解时电解周期、物料粒度、添加剂等因素对电解过程的影响，针对锡精炼铜渣难于处理、技术经济指标差的实际情况，提出了在铜渣直接电解过程中加入添加剂的方法，结果、电解主要经济指标得到了大幅度提高。     

硅外延及其应用

介绍了硅外延生长技术,综述了应用于硅外延的分子束外延（MBE）、化学气相沉积（CVD）、液相沉积（LPE）三种工艺,并介绍了Si基外延材料器件的应用。     

降低钛生产成本的新工艺--电解法

由于钛与氧、氮、碳、氢等元素有极强的亲合力 ,且与绝大多数耐火材料在高温下发生反应 ,从而使金属钛的提取工艺非常复杂和困难。经过长期摸索 ,先后发明了钠热法、碘化法和镁热法。当今海绵钛的生产方法主要就是镁热法 ,但由于其生产成本高 ,人们一直在研究新的降低成本的方法 ,电解法就是一种降低成本的方法。本文从钛生产方法的研究发展及与传统电解法的对比等方面介绍了新电解法的基本原理、工艺特点及生产发展状况 ,为我国的钛生产发展提供了一定的借鉴作用     

Holmium-doped Porous Silicon Prepared by a New Electrochemical Approach and Its Photoluminescence

Ｐｏｒｏｕｓｓｉｌｉｃｏｎ（ＰＳ）ｗａｓｆｏｕｎｄｔｏｅｍｉｔｖｉｓｉｂｌｅｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅａｔｒｏｏｍｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｂｙＣａｎｈａｍｉｎ１９９０［１］．Ｔｈｉｓｐｈｅｎｏｍｅｎｏｎｉｍｐｌｉｅｄａｐｏｔｅｎｔｉａｌａｐｐｌｉｃａｔｉ...     

硅抛光片（CMP）市场和技术现状

介绍了硅抛光片在硅材料产业中的定位和市场情况,化学机械抛光（CMP）技术的特点,硅抛光片大尺寸化技术问题和发展趋势,以及硅抛光片技术指标,清洗工艺组合情况等。     

硅片清洗方法探讨

本文介绍了几种硅片清洗的方法,同时对各种不同清洗方法的工作原理、清洗效果、适用范围等特点进行了分析。不同的工艺应采用不同的清洗方法才能获得最佳效果。     

沉积温度对多晶硅吸杂薄膜的影响

研究了在不同温度下生长多晶硅吸杂薄膜,薄膜应力对硅单晶抛光片翘曲参数的影响,并对所得的多晶硅薄膜结构进行扫描电镜观察。实验结果表明,随着沉积温度的不断升高,多晶硅晶粒不断长大,晶界减少,多晶硅薄膜应力逐渐降低,吸杂硅片的翘曲度逐渐减小,综合考虑硅片的吸杂效能与弯曲翘曲度控制,650～680℃为多晶硅薄膜最佳沉积温度。     

Mn-MnO2同槽电解

论述了硫化锰矿与MnO2矿浸出、净化及Mn-MnO2同槽电解的试验,包括工艺流程、技术条件与研究结果,获得了较好的技术指标与产品质量。阐明了各主要过程的基本原理与主要化学反应。     

无铵电解金属锰的进展研究

近年来我国电解金属锰生产技术在节能减排方面取得了明显的进步。在传统的水溶液体系中电解时需要加入氨水来调节浸出液pH,加入硫酸铵来增加合格液中锰离子的稳定性和溶液的导电性,这将导致含氨氮废渣和废水的产生,造成严重的环境污染。与传统的水溶液相比,以离子液体为电解质的电解体系显示出良好的应用前景,他具有更宽的电化学窗口,理论电流效率可达100%,并且体系中不加入氨水和硫酸铵,可以实现无铵电解工艺。综述了Mn及Mn合金在离子液体中电解的研究进展,并指出其未来的发展方向。