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对高纯气体进行粒子分析在半导体生产中已普遍用于质量管理,以确定气体纯度是否符合规定要求。例如,SEMI最近已通过一项规定,管道氮气和氩气经过滤后,大于0.2μm的粒子含量每立方英尺(scf)不得多于20粒。因此,在一个新的供气系统投入运行以前,应使用动态粒子计数器对全部系统进行测定,以保证粒子达到规定要求。另外,计数器还要对整个系统进行连续监测,以保证管道供气期间保持纯度。现在,用户和供 相似文献
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1 前 言在高纯气体制备过程中,氢气以产品、副产品、原料气、还原气等角色出现在诸多工艺环节,对最终产品中残余量的控制,也成为高纯气体产品面临的普遍问题。由于H2组分仅是高纯气体众多控制杂质之一,国内外标准均采用气相色谱法对产品中痕量氢气进行测定,使用的色谱鉴定器有:热传导检测器、氦离子化鉴定器、氩离子化鉴定器、质谱鉴定器、气体密度鉴定器、氧化锆浓差电池鉴定器、氢敏元件鉴定器等。除氧化锆及氢敏鉴定器外,其它均为通用型色谱鉴定器,可以完成10-5~10-8数量级的痕量氢气的测定。以氢敏元件为检测器的… 相似文献
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特种气体中的粒子测定JamesJHart,WayneTMeDermot等特气系统中的粒子浓度,不仅在各点变化,而且也在规定时间之外变化,此变化在气瓶内部和减压后是最明显的。所观测到的粒子污染程度未必表示系统的质量,因为测定取决于取样的特殊点和许多因素... 相似文献
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一、前言高纯气体已成为电子工业不可缺少的化工原料之一。虽然各半导体生产工艺对所用气体的纯度要求不同,但同一种杂质给半导体生产带来的危害是一样的,总是使半导体产品质量劣化,成品率下降。高纯氢、氮、氧、氩及其它许多气体可用于半导体外延、光刻、清洗、蒸发及高温氧化生长等工艺中。表1列出了日本半导体工业用气体的纯度。 相似文献
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本文通过对本公司钢瓶洁净处理工艺进行改进,从而使钢瓶处理的质量合格率从50%提高到90%,处理时间缩短2h。 相似文献
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高纯气体洁净度的控制标准 总被引:1,自引:0,他引:1
微电子技术已成为当前世界上各项尖端技术和新兴产业发展的前导与基础,只有微电子技术的超前发展,才能更好地推动各生产部门的前进和提高其生产水平,也才有可能使我们的工业生产、科学技术跨入世界先进行列。众所周知,广播、通迅卫星、资源卫星、气象卫星,以及电子对抗系统、宇航系统和空间实验站等,都离不开高度可靠、 相似文献
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四、预浓缩技术在高纯气体分析中的应用样品预浓缩技术与GC相结合(以下简称浓缩气相色谱法)在高纯气体分析中一直占有重要的地位。在已颁布的国家气体标准中,高纯氦、高纯氢、超纯氢的分析检测方法都是采用预浓缩GC。预浓缩GC可以在设备非常简单、操作非常容易、敏感度不很高、普及面很广的TCD、FID中分析一些 相似文献
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高纯、洁净气体输配管道的正确施工方法,对于确保输送气体的纯度和洁净度是至关重要的。作者针对目前施工中一些常见的问题,提出本技术要求,供参考。 相似文献
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在人类所处的大气环境中,氧占20.95%,氧气无处不在,无孔不入.如何控制和防范氧的干扰成为化工、冶金、电子等行业所必须面对的问题.若保护气中氧含量过高,会使化工产品出现质量问题,甚至发生安全事故;在电子器件制造过程中,氧含量过高会造成器件性能退化,寿命缩短. 相似文献
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众所周知,由于氯对水的亲和力极强,测定氯中水含量是比较困难的,而测定氯中痕量水尤为困难。目前,尽管国际上各特种气体生产厂家的电子级氯气的技术指标不完全一致,但对含水量的要求都比较严格。最先进的技术指标是1987年美国半导体设备与材料学会(SEMI)公布的氯气纯度为99.9961%,其中,水含量小于3vpm。有关氯气中痕量水的分析方法,文献中 相似文献
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