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1.
新世纪光刻技术及光刻设备的发展趋势 总被引:13,自引:0,他引:13
本文主要阐述了光刻技术的发展极限及193nm,157nm光学光刻技术和电子束投影光刻(SCALPEL)、X-射线光刻(XRL)离子投影光刻(IPL)等技术的发展趋势。并详细介绍了国际著名品牌的光刻机以及即将推出的新一代光刻机。对国内光刻设备的发展现状作了简要概述。 相似文献
3.
童志义 《电子工业专用设备》1998,(4)
采用λ/2的光束复制出了更高分辨率极限的线间图形。它将电路图形的CD尺寸极限推进到λ/4,当采用193nm光源曝光时,CD尺寸为50nm以下。干涉光刻技术(IL)探讨了这种周期性图形的最终极限。影像干涉光刻技术未来的发展,将使光学方法制作100nm以下的电路图形成为可能。 相似文献
4.
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Aarod Hand 《集成电路应用》2007,(11):24-28
作为光刻技术的“替罪羊”,光刻掩膜版已成为光成像途径中越来越重要的一部分。随着改善的光学邻近修正(OPC)和其它分辨率增强技术(RET)的发展——包括双重图形技术的前影--掩膜版将会是保持光学光刻在商业上的地位的关键。 相似文献
6.
《电子工业专用设备》2007,36(7):43-44
由于超紫外线光刻技术(extreme ultraviolet,EUV)的发展迟缓,Intel透露正在开发一种可能将光学扫描仪扩展到22nm制造节点的可制造性设计。
Intel正在开发的这种计算光刻(computational lithography)是一种反向光刻技术。反向光刻、EUV和二次图形曝光技术是Intel正在为22nm制造节点进行评估的光刻技术。 相似文献
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1引言一年半以前,国际SEMATECH财团将光学光刻的接班技术选择缩小到4种:极紫外(EUV)、离子投影光刻(IPL)、限角散射投影电子束光刻(SCALPEL)和x射线光刻技术。已证实,各种技术均具有70nm以下特征尺寸的作图能力。然而,根据下代光刻... 相似文献
8.
MMST工程的光刻技术关键取决于i线(365nm)和深紫外(248nm)激光光学重复眇机曝光机。大多数的图形层制作均使用传统的用湿法显影的抗蚀剂,而对关键的栅和金属层则采用“DESIRE”工艺,使用表面成象,干法显影的抗蚀剂。倘若能对光刻工艺的各个关键步骤实时实时监控,则可望实现光刻完全自动化。 相似文献
9.
童志义 《电子工业专用设备》1998,27(4):54-59
采用λ/2的光束复制出了更高分辨率极限的线间图形,它将电路图形的CD尺寸极限推进到λ/4,当采用193nm光源曝光时,CD尺寸为50nm以下。干涉光刻技术(IL)探讨了这种周期性图形的最终极限。影像干涉光技术未来的发展,将使光学方法100nm 下的电路图形成为可能。 相似文献
10.
Aaron Hand 《集成电路应用》2006,(7):28-28
在不久前召开的SPIE Microlithography(国际光学工程学会微光刻技术年度会议)上,BACUS(国际光掩膜技术学会)组织了一次圆桌会议,来自光刻技术领域的专家们就193纳米浸没式光刻技术中光掩膜工艺的发展趋势展开了激烈的讨论。会议的中心话题为光掩膜制造商是沉是浮? 相似文献
11.
Aaron Hand 《集成电路应用》2008,(1):34-34
Texas Instruments(TI)设计数据集成部主管Mark Mason指出:尽管157纳米乃至126纳米光学波长曾经一度被视为未来的光刻技术解决方案,极紫外线光刻技术(EUV)也被推测可能早于预期崭露头角,但是事与愿违,目前来看,用于生产下几代半导体芯片的光刻技术的曝光波长将止步于193纳米。“这将对掩膜版制造提出更高的要求,”他说,“事实上,纵览整个分辨率增强技术(RET)的发展过程,这一理念始终被贯穿其中。” 相似文献
12.
介绍了解决0.18μm 光刻批量生产的五大技术要素, 即曝光装置、倾斜(离轴) 照明技术、相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光刻胶及工艺 相似文献
13.
简述了光学光刻技术在双重图形曝光、高折射率透镜材料及浸没介质、32nm光刻现状及22nm浸没式光刻技术的进展,指出了光学光刻技术的发展趋势及进入22nm技术节点的前景。 相似文献
14.
光学光刻——向21世纪挺进 总被引:2,自引:1,他引:1
《电子工业专用设备》1998,27(2):1-5
光学光刻———向21世纪挺进本刊编辑部当前的IC工业,正在沿着美国半导体工业协会(SIA)制订的半导体技术发展蓝图并遵循摩尔定律向前发展。以存储器为代表的IC技术,已步入了035μm线宽的64M器件批生产阶段;025μm线宽的256MDRAM的制... 相似文献
15.
随着芯片价格的降低,为了获得更多的利润,业界必须不断向着更小(芯片尺寸)和更大(硅片面积)迈进。尽管300mm硅片与ArF光刻技术的组合已经成为了110nm以下先进工艺的主流,但是200mm硅片及KrF光刻技术以其成熟的技术、低廉的价格也在这一领域占有一席之地。由此,如何在110nm以下的技术中选择使用KrF光刻技术取代主流的ArF光刻技术成为了业界共同关心的话题。就光学复杂性本身而言,使用KrF光刻技术实现90nm技术节点,其K1因子已经达到了惊人的0.29,这与使用ArF光刻技术实现65nm技术节点可谓旗鼓相当。本文着重评估和研究了90nm技术节点上,KrF光刻技术实现多晶硅栅电极、金属1和接触孔的工艺表现。基于实验数据发现,基于先进的KrF光刻技术可以量产90nm工艺。 相似文献
16.
介绍了解决0.18μm光刻批量生产的五在技术要素,即曝光装置,倾斜(离轴)照明技术,相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光刻胶及工艺。 相似文献
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概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以及光学光刻技术在大批量生产应用中的优势,并介绍了国外开发极紫外光刻技术的技术指标,预测了光学光刻技术的前景。 相似文献
18.
深亚微米光学光刻设备制造技术 总被引:4,自引:1,他引:3
谢常青 《电子工业专用设备》2000,29(2):15-19
相对于其它“后光学”光刻技术 ,在 0 1 3μm甚至 0 1 3μm以下集成电路制造水平上 ,光学光刻仍然具有强大的吸引力。随着光学光刻极限分辨率的不断提高 ,当代光学光刻设备正面临着越来越严重的挑战。论述了深亚微米光学光刻设备的技术指标和面临的技术困难 ,对其中一些关键的技术解决方案进行了分析。 相似文献
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20.
光学光刻的极限 总被引:2,自引:0,他引:2
童志义 《电子工业专用设备》2004,33(2):4-9
讨论了光学光刻技术的各种分辨力增强技术(RETs),根据各类光刻设备的开发进展,探讨了光学光刻技术的加工极限。 相似文献