射频等离子清洗系统设计

等离子清洗具有优越的环境特性和去污能力,但缓慢的清洗速度限制了等离子清洗技术的应用,近期等离子领域的研究及实践表明通过控制等离子体的生成条件和工艺气体可以显著提高等离子清洗的去污速度,从而为扩展等离子技术在工业中的应用提供可能。介绍了等离子清洗的原理和方法,分析了影响等离子清洗效果的因素,并完成了射频等离子清洗系统的设计。     

批量式等离子清洗机与在线式等离子清洗机的对比

等离子清洗机的主要原理是利用清洗时高能电子碰撞反应气体分子,使之离解或电离,利用产生的多种粒子轰击被清洗表面或与清洗表面发生化学反应,从而有效地清除各种污染物。针对此,主要使用ANSYS有限元分析软件对批量式等离子清洗机与在线式等离子清洗机反应仓的气流和电磁场进行了仿真分析。实验结果表明,在线式等离子清洗机具有清洗效果好,清洗后不会产生有害污染物、效率高、节省劳动力和安全可靠等优点,具有更广泛的市场前景。     

等离子清洗技术(二)

文章对等离子清洗技术做了全面介绍,不仅介绍了有关等离子的基本概念、低温等离子体制备技术及其相关装置,而且着重介绍了它在精密清洗中的应用及其注意事项,指出等离子清洗技术在淘汰ODS清洗剂过程中能够发挥重要作用     

等离子清洗洗技术(一)

文章对等离子清洗技术做了全面介绍,不仅介绍了有关等离子的基本概念、低温等离子体制备技术及其相关装置,而且着重介绍了它在精密清洗中的应用及其注意事项,指出等离子清洗技术在淘汰ODS清洗剂过程中能够发挥重要作用     

小型等离子清洗/刻蚀机的应用

综述了等离子体产生的原理、小型等离子清洗/刻蚀机的特点以及在各加工行业的应用,特别是其在科学研究领域的独特功能:等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等;论述了小型等离子清洗/刻蚀机在TEM、SEM、电镜等方面的特殊应用,并讨论了等离子处理的特殊性及其在现代科学研究中的不可替代性。     

小型等离子清洗蛐刻蚀机的应用

综述了等离子体产生的原理,小型等离子清洗蛐刻蚀机的特点,在各加工行业的应用,特别是在科研机构发挥了举足轻重的作用,包括等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等。论述了小型等离子清洗蛐刻蚀机在TEM、SEM、电镜等方面的特殊应用。并讨论了等离子处理对于产品的可靠性和过程效率的提高是目前最理想的技术及其优势。     

等离子清洗机的腔体设计

介绍了等离子的产生机理及等离子清洗技术的原理；给出一种等离子清洗机的腔体，其特点是工艺气体从左向右水平流动，每个带有小孔的腔体极板可以灵活配置成悬浮极、阳极和阴极；选取合适的工艺条件后，获得了良好的清洗效果。     

等离子清洗技术在DC/DC混合电路中的应用

等离子清洗是一种干法清洗技术,在电子封装领域应用广泛。总结了射频等离子清洗技术在DC/DC混合电路各组装工艺环节中的应用,射频等离子清洗可有效提高DC/DC混合电路组装质量及可靠性,但不当的清洗工艺或清洗流程会对DC/DC混合电路的组装质量产生不良影响,针对产生的不良影响也提出了改进措施。     

微波等离子清洗在封装工艺中的应用

微电子封装过程中产生的沾污严重影响了电子元器件的可靠性和使用寿命。文中研究了用微波等离子清洗封装过程中产生的沾污。研究结果表明,微波等离子清洗能有效增强基板的浸润性,降低芯片和基板共晶焊界面的孔隙率,同时也能清除元件表面的氧化物薄膜和有机物沾污,经过等离子清洗,其键合焊接强度和合金熔封密封性都得到提高。     

等离子清洗工艺在芯片键合前的应用

等离子清洗工艺是应用于当代半导体、薄膜/厚膜电路等行业在元件封装前、芯片键合前的二次精密清洗工艺,清洗效果影响最终产品的质量.国内现有等离子清洗工艺存在清洗不均匀问题,针对这一问题,简单介绍了等离子清洗设备的基本原理,分析并介绍等离子体清洗工艺在芯片键合前的应用,并针对封装行业中的沾污问题提出了可行的解决方法.     

等离子清洗的应用与技术研究

对等离子清洗技术在半导体方面的应用做了全面介绍,不仅介绍了有关等离子技术的基本概念、设备技术及其相关装置,而且着重介绍了它在半导体清洗中的应用及其注意事项。     

等离子清洗技术(一)

从所周知,发动机根据其供油系统供应燃油的不同,分为化油器式发动机和燃油喷射式发动机。尽管方式不同,但作用相同,都是按发动机的不同工况由进气门向各个气缸供应不同浓度的空气与燃料混合气,在燃烧室燃烧后,废气由排气门排出气缸,使发动机具有良好的动力性和经济性。     

激光清洗技术规模化应用发展现状(特邀)

随着我国工业不断地转型升级,对工业清洗的质量、效率、服务也提出了更高的要求,传统清洗方式因其高污染、高能耗等缺陷已无法满足工业领域的应用需要。而激光清洗作为一种绿色、环保、无损的新型清洗方式,迅速成为工业清洗领域的热点技术。文中梳理了三种典型的激光清洗方法,总结了激光清洗相关的机理。同时,阐述了面向航天航空、船舶建造、轨道交通等领域开展的激光清洗应用进展。根据近年来国内外院校和企业在激光清洗系统、设备方面的科技成果,提出国内激光清洗推广应用所面临的瓶颈,展望了激光清洗技术在未来的发展方向。     

激光清洗技术应用初探

在制造业，特别是在航空制造业中，各种产品零件在装配前需要进行认真仔细的去脂除污处理，传统的清洗方法有很多种。随着环境保护、高精度以及高效率的矛盾日显突出，各种有利于环境保护、适合于超精加工领域零件的清洗技术应运而生，激光清洗技术就是其中之一。介绍了激光清洗技术的原理和方法，研究了利用脉冲Nd:YAG激光清洗被污零件的情况，对研究结果进行了讨论。并对激光清洗技术的应用前景进行了展望。     

CMP后清洗技术发展历程

从80年代开始,结合当时最具代表性的CMP设备,分析当时的后清洗技术,如：多槽浸泡式化学湿法清洗、在线清洗、200mm集成清洗、300mm集成清洗及20nm以下的CMP后清洗趋势,每种后清洗技术都结合CMP设备明确分析其技术特色,优点和缺陷。全面阐述CMP工业界的后清洗发展历程。     

等离子体清洗及其在电子封装中的应用

等离子体工艺是干法清洗应用中的重要部分,随着微电子技术的发展,等离子体清洗的优势越来越明显。文章介绍了等离子体清洗的特点和应用,讨论了它的清洗原理和优化设计方法。最后分析了等离子体清洗工艺的关键技术及解决方法。     

LCD行业洗净用水的制造及废水处理方法

制造出符合特殊产品要求的洗净用水及排放符合国家工业废水排放标准的工业废水对企业来说同等重要，缺一不可。本文根据LCD行业生产过程中洗净用水的特殊要求，探讨相关符合产品生产过程所需要的高纯度纯水的制造方法；同时根据国家相关工业废水排放标准，结合行业工业废水排放的特点，讨论废水处理的相关工艺技术及方法，旨在保证行业工业废水的排放达到国家工业废水排放要求，保护宝贵的水资源。     

在线等离子清洗设备控制系统设计

作为一种精密干法清洗设备,等离子清洗机可以有效去除IC封装工艺过程中的污染物,改善材料表面性能,增加材料表面能量。与传统独立式的等离子清洗设备相比,在线式等离子清洗设备具有自动化程度高、清洗效率高、设备洁净度高、适应范围广等优点,适用于大规模全自动化生产。     

紫外线在等离子显示屏及其生产中的应用

在等离子显示屏（PDP）的生产过程中,紫外线（UV）技术被广泛应用。紫外线清洗、紫外线曝光、紫外线固化等都是十分重要的技术,同时紫外线技术也是一种有效保障PDP合格率的技术手段,文章介绍了紫外线在等离子显示屏及其生产中的应用。