首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
高聚物材料的透射电子显微镜研究中为了提高图象的反差需要采用选择性的电子染色技术。本文系统地研究用四氧化钌(RuO_4)作为各类饱和键高聚物材料的染色剂的染色条件和效果。结果表明,RuO_4对绝大多数高聚物材料都能起染色作用,而且染色效果很好。它是目前高聚物材料电镜研究中最为理想且操作简便的一种通用染色技术。  相似文献   

2.
3.9环氧树脂的固化剂(Hardner for EpoxyResin) 环氧树脂通过固化剂进行交联、固化。固化剂不同于催化剂,它与环氧树脂相互交联,成为树脂的组成部分。在环氧树脂固化过程中,固化剂起到架桥剂(交联固化)和催化剂(促进固化)的双重作用。  相似文献   

3.
在聚甲醛等不耐电子辐照的高聚物的形态结构研究中,复型技术几乎是唯一有效的制样技术。Tren~+等人的研究发现四氧化钌有较强的氧化能力,可与醚键发生反应,为聚甲醛的形态结构研究提供了一种新的可能性。我们前已报导,含有7%乙烯共聚单元的共聚甲醛与聚甲醛属同晶型,即乙烯链节可进入聚甲醛的结晶区域。因此,进一步研究共聚单元怎样影响聚甲醛的结晶形态对于深入了解这种工程塑料的结构—性能关系是有意义的。为此,本文初步试探了四氧化钌染色方法用于聚甲醛形态结构的可能性。  相似文献   

4.
共混高聚物是具有优良性能的高分子材料,近些年来这类材料的应用越来越广泛,从而对共混高聚物的研究也逐渐深入。本文将应用化学蚀刻法对丙纶高分子材料结构做以探讨。丙纶是聚丙烯(PP)与聚对苯二甲酚乙二酯(PET)经物理共混而成的,由于PET的加入可以提高丙纶染色效果,因此扩大丙纶应用范围。我们对PP与PET共混物在不同温度不用铬酸液蚀刻不同时间,通过扫描电镜观察其形态结构。实验结果表明,铬酸蚀刻液对高分子材料晶区与无定型部分可以有选择的腐蚀,使晶区与无定型区形态清晰显露,从而达到提高共混物衬差效果,对研究共混高聚物结构具有重要意义。  相似文献   

5.
电子显微镜的发展对研究高聚物材料的形态结构提供了一种有力而方便的手段。为了提高图象观察的质量和真实反映材料结构的细节必须使材料的结构细节充分暴露出来。暴露材料结构的方法很多,其中以氩离子蚀刻法最简易可行。本文介绍了氩离子蚀刻技术处理刚性链和柔性链两类性质不同高聚物材料的试样,並用透射和扫描电子显微镜观察其形态结构。结果表明,在选择合适的蚀刻条件下,氩离子蚀刻法是高聚物材料电镜研究中的一种较为理想的制样技术。  相似文献   

6.
本文用透射电镜观察研究了SBS稀溶液浇铸超薄膜的微相分离结构形态。研究结果表明:在浇铸薄膜过程中,溶剂挥发速率对SBS的微相分离结构有较大的影响,通过控制溶剂挥发速率的方法得到了“年轮”状和螺旋状四种新的微相分离结构。  相似文献   

7.
本文报导用近红外光声光谱技术研究环氧树脂加聚酰胺的固化的实验结果,分析表明,位于2.39μm和2.54μm的组频吸收峰可作为特征峰来描述固化过程,同时也表明,光声光谱技术是研究高聚物固化的一种简便迅速手段.  相似文献   

8.
甲烷氧化细菌(Methanotroph)在生态环境中占有重要地位,在生产生物多糖、单细胞蛋白,以及近年发现的甲烷单加氧酶对多种烃的生物转化等方面,有着广泛的用途,因而引起人们极大的关注。本文运用冷冻蚀刻方法,对甲烷氧化菌的细微结构进行观察,特别对细胞包被(envelope)结构进行较详细的研究。实验选用了Methylomonoas sp.761M和Methylosintis sp.81Z两株甲烷氧化菌。按常规方法,用日本电子光学公司的EE-FEB·D冷冻蚀刻装置制成复型膜,用JEM-100CX电镜观察拍照。两株甲烷氧化菌经冷冻蚀刻后,细胞从两个平面劈裂开,形成四个断裂面,其中两个为凸面,两个为  相似文献   

9.
用准分子激光对高聚物材料进行微加工制作,可以得到比较理想的高聚物基生物芯片。采用248nm的KrF准分子激光器对PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)进行微细加工,探讨了准分子激光与PMMA相互作用的机理。进行了表面微通道制作和打孔实验,研究激光加工的工艺参数及加工质量的变化规律。结果表明,准分子激光蚀刻完全适合生物芯片的制作,而且加工过程简单,是一种行之有效的制作方法。  相似文献   

10.
在环氧模塑料中,环氧树脂是环氧模塑料的基体树脂,也是环氧模塑料的主要原材料,起着将其他组分交联结合到一起的重要作用。环氧树脂作为环氧模塑料的胶粘剂,具有粘合性高、固化收缩率小、耐化学介质稳定性好、电绝缘性优良、工艺性能良好等特点。因此环氧树脂类型的选择及其性能对环氧模塑料的性能都有很大的影响。文章简单介绍了环氧树脂的分类、结构、作用及特点,主要探讨了不同结构环氧树脂对环氧模塑料的粘接性、稳定性、收缩率、电性能及机械性能等的影响。  相似文献   

11.
二氨基二苯砜作为一种高耐热低吸湿的环氧树脂固化剂常用于覆铜板领域。研究了不同促进剂对二氨基二苯砜固化环氧树脂反应的影响,表明:2-乙基-4-甲基咪唑和三氟化硼单乙胺络合物,都对二氨基二苯砜固化环氧树脂有一定的促进作用,BF3·MEA可以降低体系的反应温度,提高固化速率;而2-乙基-4-甲基咪唑可以形成更完善的交联结构,具有更高的耐热性。  相似文献   

12.
作为合成透明树脂MBS的中间体的丙烯酸丁酯一苯乙烯胶乳(BAS),其粒度大小及分布直接影响到最终产物的透明度。由于BAS是一种饱和胶乳,即在其大分子链中不含双键。因此,不能用常规的四氧化锇染色法或四氧化钌染色法固定胶乳粒子。虽然可以采用射线辐照或冷冻蚀刻法来固定类饱和柔性链胶乳粒子但必须有辐射源或低温专用设备。考虑到在上述BAS胶乳中苯乙烯组份的含量较高(65-75%),其分子链具有较大的刚性,在样品干燥过程中,胶粒的变形不会太严重。因此,我们采用直接投影的方法制备样品并用TEM测定胶粒的大小及粒度分布。  相似文献   

13.
四氧化钌作为用透射电镜观察高分子材料时对聚合物多相体系进行选择性染色的染色剂之一,克服了四氧化锇染色的局限性,能对多种聚合物进行染色。四氧化钉对大多数聚合物都能染色,但人们至今对其染色的反应机理还不十分清楚,而关于此方面的报道也较少。前人曾就四氧化钉对聚苯乙烯(PS)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚碳酸酯(PC)的染色机理进行过研究,本文探讨了四氧化钌对尼龙6的染色机理。  相似文献   

14.
本文描述了宽带隙半导体 GaN 的快速反应原子束蚀刻。(0112)取向蓝宝石上 GaN膜蚀刻深度与蚀刻时间成正比,衬底温度在80—150℃范围内,用 Cl_2蚀刻的速率为0.10—0.12μm/分。该值小于 GaAs(100)的蚀刻速率,但比蓝宝石衬底的蚀刻速率要大十几倍。氮化镓是具有纤锌矿结构的宽带隙半导  相似文献   

15.
众所周知,制造多层PCB(印制电路板)主要依赖一些化学湿处理。使用常规的光致抗蚀剂,不论它是液体的还是干膜的,都要求在光成像和蚀刻后使用强碱去除内层片上的抗蚀剂,然后对内层片进行清洗和微蚀刻后再进行氧化处理,在表面上产生受控的氧化膜,以此提高树脂对铜的粘合力。产生氧化膜的方法是采用黑氧化或棕氧化,这种方法至今仍在使用。但是这种方法有技术上的缺陷。特别是氧化层受溶液的化学浸蚀形成粉红圈。虽然在推出一些还原氧化体系后解决了粉红圈的问题,但是理想的方法应是消除黑氧化过程。因此,PIBR法便应运而生。 1 POBR  相似文献   

16.
采用压电陶瓷(PZT)片状块材设计并制作了一种可集成于微机电系统的压电悬臂梁能量采集器.介绍了元件的整体制备流程,包括湿法化学蚀刻、反应离子(RIE)干法蚀刻、UV-LIGA等流片技术.该文利用环氧树脂将PZT紧密粘结在基片上的方法步骤和工艺参数作了详细描述,最终获得了2000μm×750μm×500μm(长×底宽×尖...  相似文献   

17.
文津 《覆铜板资讯》2006,(1):24-26,18
无铅化带来的变动;应用于大电流领域的高导热基板的研究;电选法回收利用废印刷线路板;废旧电脑印刷线路板金属成分溶出的试验研究;深圳市线路板蚀刻废液中铜、砷、铅、汞、镉含量调查;氢氧化铝-氮-磷环氧树脂体系的阻燃性能;纳米碳管的分散对其增强环氧树脂强度的影响;德国WEEE&RoHS法案回顾暨荷兰废电子电机设备规范解析;含萘和脂环烃结构单元环氧树脂的固化反应及性质;不同原料合成COPNA树脂及其黏结性;环氧树脂的阻燃性研究进展;咪唑促进的含溴环氧树脂/氰酸酯体系共固化反应及其抗氧化阻燃性能研究。[编者按]  相似文献   

18.
本文采用四氧化钌固定法电镜下观察板层状鱼鳞癣病人角质层细胞间脂质的结构。超微结构观察表明,板层状鱼鳞癣病变角质层细胞间脂质的结构发生了明显的改变,其主要表现为脂质膜的层数增多、膜状结构破坏及腔隙形成。结果表明四氧化钌固定法将为阐述某些鳞屑性皮肤病的结构标记和病理机制提供一些新的线索。  相似文献   

19.
低温固化型银基浆料电性能的研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
用银粉、热固性环氧树脂、六氢苯酐和环氧改性剂制得了在180℃固化的银基浆料。研究了银粉含量、银粉比例、环氧树脂含量、硅烷偶联剂用量以及固化时间对银基浆料性能的影响。结果表明:银粉含量及形状、固化时间等均会影响浆料性能。当w(环氧树脂)为8%~10%;w(银粉)为65%~70%,ζ(片状银粉∶球状银粉)为8∶2;w(硅烷偶联剂)为6%;w(各种添加剂)为14%~22%;固化时间为15min时,浆料的体电阻率最小为2.25×10–5Ω·cm,方阻为7.03mΩ/□。  相似文献   

20.
二元光学法在微透镜制作中的应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
对二元光学的产生和发展作了介绍,并阐述了二元光学元件之一的微透镜(microlenses)的设计、制作和测试方法以及它们的主要应用。微透镜的设计是基于已成熟的标量衍射理论;而其制作过程包括:计算机设计波面相位、产生掩模版、光刻或离子(束)蚀刻以及复制产生微透镜,其关键技术蚀刻方法有等离子蚀刻技术和反应离子蚀刻RIE(Reactive Ion Etching)技术;微透镜的测试主要包括衍射效率(diffractive efficiency)和点扩散函数(PSF)的测试,有直接法和间接法两种测试方法。微透镜可以微型化与阵列化,并且可以同微电子器件一起集成化,具有广泛的应用前景。  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号