掺杂Ti对Fe－N薄膜结构与磁性的影响

用对向靶溅射仪制备出含多量Ｆｅ（１６）Ｎ２相的（Ｆｅ，Ｔｉ）－Ｎ薄膜，研究了掺杂Ｔｉ对Ｆｅ－Ｎ薄膜结构与磁性的影响，在溅射Ｆｅ－Ｎ薄膜时加入适量的Ｔｉ可提高Ｆｅ－Ｎ薄膜中Ｆｅ（１６）Ｎ２相的含量．Ｔｉ含量（原子分数）在０—２５％时薄膜饱和磁化强度均高于纯Ｆｅ的值；Ｔｉ浓度为１０％时，薄膜磁化强度高达２．６８Ｔ，比纯Ｆｅ的饱和磁化强度值高２０％．     

加入Co对Fe—N薄膜的结构与磁性的影响

研究了加入不同含量的Ｃｏ的Ｆｅ－Ｎ薄膜结构与磁性的影响,实验结果表明,Ｃｏ原子分数在０－１５％范围内薄膜的饱和磁极化强度Ｊｓ值随Ｃｏ含量的增加而增大;Ｃｏ的原子分数为１５％时,薄膜的ＪＳ达到最大值（２．７Ｔ）;随着ＣＯ的原子分数和进一步增至３０％,（Ｆｅ,Ｃｏ）－Ｎ薄膜的Ｊｓ值逐渐降低,但仍高于Ｆｅ－Ｃｏ合金的最大Ｊｓ值（２．４Ｔ）;当Ｃｏ的原子分数为３５％时,（Ｆｅ,Ｃｏ）－Ｎ薄膜的Ｊｓ值低于２     

对向靶溅射TiN薄膜的结构和物性

利用对向靶溅射（ＦＴＳ）沉积出（１１１）择优取向的单相ＴｉＮ膜，膜硬度（ＨＶ）最高可达３８００，择优取向随基板偏压增高，可由（１１１）转向（２００），晶格常数随氮气分压增高而增大，这是氮原子进入四面体间隙引起的。     

离子束溅射法制备Ti—Ni贮氢薄膜的研究

介绍了用离子束溅射制备贮氢薄膜的方法。采用钛板与镍板拼合靶制备的Ti—Ni薄膜为非晶态,具有良好的附着力和抗粉化能力,而晶化后的贮氢性能更好。     

Ti对磁控溅射不锈钢薄膜结构的影响

研究了磁控溅射321不锈钢薄膜内Ti对膜结构由晶态向非晶态转化的影响用X射线衍射分析了膜的结构,结果表明,膜的结构随含Ti量不同而有变化在Ti含量(wt-％)为0—3,3—10,10-18,18-30时,膜的结构分别为α-Fe,α-Fe+x相,非晶+微晶,非晶态     

Fe—N薄膜磁性能的研究

本文研究了溅射气氛中氮含量及后续热处理对射频溅射法制备的Ｆｅ－Ｎ薄膜的磁性能的影响，电镜分析的结果显示，样品中含有少量Ｆｅ１６Ｎ２。     

铁基多层纳米磁性薄膜的组织与性能

利用溅射技术制备了铁基多层纳米磁性薄膜,通过溅射参数的调整,可以精确地控制薄膜的厚度。然后对薄膜进行退火处理,使薄膜晶化。最后,对薄膜磁性能进行了测量,得到了较好的结果。     

Fe/Pt磁性薄膜的研究进展

Fe/Pt合金薄膜是重要的磁性材料。介绍了Fe／Pt合金的晶体结构以及磁控溅射法、真空电弧离子法、机械冷变形法和化学合成法4种主要制备Fe/Pt合金薄膜的方法，并对影响Fe／Pt合金薄膜磁性能的重要因素进行了评述，包括改变热处理工艺参数和添加掺杂元素。最后指出，Fe/Pt纳米结构材料具有良好的化学稳定性和较高的磁晶各向异性，因而在超高密度信息存储领域有着巨大的应用潜力。     

Ti对Zn-Al合金薄膜耐腐蚀性能的影响

应用组合材料芯片技术,以离子束溅射法在低碳钢基片上制备了不同Ti掺杂量的Zn-Al-Ti薄膜(Al和Zn质量分数分别为55%和45%)样品阵列.沉积得到的多层薄膜经低温扩散和高温晶化形成合金薄膜.以电化学方法测定合金薄膜在浓度(质量分数)为3.5%的中性NaCl水溶液中的耐蚀性能,并进一步研究了优选出的组分的耐蚀性.结果表明,Ti的适量掺杂可使合金薄膜的耐蚀性能明显提高.其中,Ti的质量分数在6%左右时耐蚀性能最佳.采用XRD及SEM对6%Ti的合金薄膜的相结构和表面形貌进行了表征,并与未掺杂Ti的薄膜进行了比较.此外,分析了Zn-Al-6%Ti合金薄膜的腐蚀机理,为进一步优化薄膜体系提供了依据.     

THE EFFECTS OF SPUTTERING POWER ON STRUCTURE AND ELECTRICAL PROPERTIES OF Cu FILMS

1. IntroductionCu filnls are very pron1isillg for electronic devices because of both high electromigrationresista11ce alld high electrical conductivity['--']. For a sputter-deposited film, base pressure,deposition rate, substrate temperature and energetic…     

PREPARATION OF NANO-CRYSTALLINE Fe-Cu THIN FILMS AND THEIR MAGNETIC PROPERTIES

Fe-Cu thin films of 0.2μm in thickness with different Cu contents were prepared by using r.f. magnetron sputtering onto glass substrate. The effect of sputtering param-eters, including Ar gas pressure and input rf power, on the structure and magnetic properties was investigated. It was found that when the power is lower than 70 W, the structure of the films remained single bcc-Fe phase with Cu solubility of up to 50at.%. TEM observations for the bcc-Fe phase showed that the grain size was in the nanometer range of less than 20nm. The coercivity of Fe-Cu films was largely affected by not only Ar gas pressure but also rf power, and reached about 2.5Oe in the pressure of 0.67-6.67Pa and in the power of less than WOW. In addition, saturation magnetization, with Cu content less than 60at. %, was about proportional to the con-tent of bcc-Fe. When Cu content was at 60at.%, however, saturation magnetization was much smaller than its calculation value.     

Si和Y掺杂对(Ti,Al)N涂层结构和性能的影响

分别在未施加偏压和施加-100 V偏压条件下,利用磁控溅射技术在压气机叶片用1Cr11Ni2W2MoV热强不锈钢基体上沉积了Ti_0.3Al_0.7N和Ti_0.39Al_0.55Si_0.05Y_0.01N硬质涂层.实验结果表明,施加偏压及Si和Y掺杂明显改变了涂层的相结构,提高了涂层致密度,施加-100 V偏压且添加Si和Y的涂层为非晶结构,表面更加均匀致密.950℃氧化实验表明:Ti_0.39Al_0.55Si_0.05Y_0.01N涂层表面形成极薄且致密的Al₂O₃保护性氧化膜,大大降低了氧化速率.施加-100 V偏压的（Ti,Al）N和（Ti,Al,Si,Y）N沉积态涂层与未施加偏压的相应涂层相比,硬度均降低,尤其是（Ti,Al,Si,Y）N涂层变化显著.经950℃热处理,施加偏压的（Ti,Al,Si,Y）N涂层硬度略有降低,这是由于形成了硬度较低的B4相,而未施加偏压的（Ti,Al,Si,Y）N涂层硬度显著提高,这归因于B1相固溶体的分解.划痕测试结果表明,在实验载荷（50N）下,所有涂层均未出现连续性的剥落.     

金属Fe/Pd成分调制膜的结构和磁性研究

用真空双源蒸镀法在玻璃衬底上制得了金属Fe/Pd成分调制膜。用X射线衍射分析了它们的调制特性和晶格结构;用振动样品磁强计进行磁性测量。结果表明:金属Fe/Pd成分调制膜中Pd层为fcc结构;随着Fe层厚度减小,Fe层结构由bcc转变为非晶态。研究了比饱和磁化强度随Fe层厚度的变化规律并探讨了它的机理。     

Co／Ti非晶多层膜晶化过程中结构及磁性的变化

利用双对向靶溅射方法在室温下制备Ｃｏ／Ｔｉ非晶多层膜，并采用原位退火透射电镜和原位热重法，观测了Ｃｏ／Ｔｉ多层膜结构与磁性随温度的变化，结果表明：退火温度ｔａ为４００℃时，薄膜开始晶化，Ｃｏ，Ｔｉ颗粒析出并粗化；ｔａ＞６００℃时，具有铁磁性的Ｃｏ单质完全消失，全部转化为Ｃｏ２Ｔｉ相．热磁测量在３９０及５２０℃附近出现了两个明显的磁性转变峰，与薄膜结构变化对应．适当温度（４００—５２０℃）的退火可获得高饱和磁化强度的Ｃｏ－Ｔｉ颗粒膜．     

电弧离子镀(Ti,Al)N复合薄膜的结构和性能研究

利用电弧离子镀设备在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢基体表面沉积了不同成分的（Ti1-xAlx)N薄膜；X射线衍射分析表明，x在0－0．5之间时，薄膜是Bl型（NaCl)单相结构；x=0.64时，同时出现B1和B4型（ZnS)两种相结构，x≥0.79时，只出现B4型结构；随着Al含量的增加，晶格常数减小，B1结构的薄膜择优取向由（111）向（220）转变。力学性能测试表明，适当Al含量可以提高薄膜的硬度、膜基结合强度及抗磨损性能；B1结构（Ti,Al)N薄膜的氧化实验表明，随着Al含量的增加，薄膜抗氧化性能显著提高。