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1.
配位剂的选择是化学镀镍技术的关键之一.使用两种常用的有机酸——柠檬酸和丁二酸作为配位剂,以镀速和镀层中磷的质量分数为评价指标,先分别考察两者单独使用时的影响,然后在单因素实验的基础上,考察两者复配使用时的影响.结果表明:单一配位剂难以同时满足化学镀镍工艺对镀速和镀层中磷的质量分数的要求,配位剂复配使用可以克服镀速与镀层中磷的质量分数之间的矛盾;在柠檬酸20 g/L,丁二酸6 g/L的条件下,镀速适中且镀层中磷的质量分数较高. 相似文献
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乳酸对柠檬酸化学镀镍-磷合金的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
以沉积速度、镀层磷含量、稳定常数为评价指标,考察了乳酸在0~10mL/L质量浓度范围内对柠檬酸化学镀镍-磷合金的影响。结果表明,在施镀θ为88℃、pH为4.80的条件下,在0~10 mL/L乳酸质量浓度范围内,沉积速度为10.851~11.930μm/h,稳定常数为0.738~0.978,镀层中磷质量分数为9.84%~10.40%,当镀液中乳酸质量浓度为5.0mL/L时,沉积速度最快,稳定常数最大,镀层磷质量分数较高。 相似文献
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加速剂在化学镀镍-磷合金(高磷)工艺中具有不可替代的作用。以柠檬酸化学镀镍为基础镀液,以沉积速度、孔隙率为评价指标,通过实验考察丁二酸、苯并咪唑、氟化钠及硫酸铈对化学镀镍的加速作用,并将丁二酸和硫酸铈进行复配,以求起到更好的加速作用。结果表明,在丁二酸质量浓度为1.5 g/L,添加2 mg/L硫酸铈时,效果最佳,沉积速度达到14.5μm/h,镀层孔隙率仅为0.2个/cm~2。 相似文献
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配位剂的选择是化学镀镍技术的关键之一。以镀速和镀层中磷的质量分数为评价指标,研究乳酸与EDTA两种配位剂复配对化学镀镍的影响。结果表明:单独使用一种配位剂难以同时满足化学镀镍工艺对镀速与镀层中磷的质量分数的要求;使用双配位剂体系可以兼顾镀速与镀层中磷的质量分数这对矛盾,在乳酸20g/L,EDTA 8g/L的条件下,镀速为17.1μm/h,镀层中磷的质量分数为10.5%。 相似文献
6.
以沉积速度、镀层磷含量、镀液稳定性和镀层表观形貌为评价指标,通过实验考察铈盐对柠檬酸化学镀镍-磷合金的影响。实验结果表明,ρ[Ce(SO4)2]在0~10mg/L时,沉积速度为11.40~12.50μm/h,沉积速度随Ce(SO4)2质量浓度增加先增大后又下降;镀层w(磷)为10.42%~11.80%,随ρ[Ce(SO4)2]增大镀层中的磷略有提高;镀液氯化钯稳定t在3.4~4.6h,先增大至极值后又减小。采用扫描电子显微镜观察镀层表面和X-射线能谱分析,结果表明,镀层中不含有铈,Ce(SO4)2的加入对镀层表观形貌影响不大。 相似文献
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化学镀镍-磷合金镀层中磷的测定 总被引:2,自引:0,他引:2
准确、简便地测定镍-磷合金镀层的磷对化学镀镍工艺具有重要作用.采用浓硝酸退镀镍-磷合金镀层→高锰酸钾氧化→亚硝酸钠还原→加水定容的方法制备实验溶液,然后分别用磷钼钒黄分光光度法、磷钼酸铵容量法分析试液中的磷,再换算出镀层中磷的质量分数,并与标准方法测定结果对比.结果表明:光度法测定的相对误差为7.93%,相对标准偏差为4.38%;容量法测定的相对误差为-1.83%,相对标准偏差为0.82%.容量法具有准确、简便的优点,可在生产实际和实验研究中推广应用. 相似文献
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采用正交试验研究了稳定剂硫酸铜、碘酸钾、DL-半胱氨酸和硫酸铈复合使用对化学镀Ni-P合金镀液稳定性、镀速、镀层磷含量和孔隙率等性能的影响变化规律。结果表明,各种稳定剂之间有相互促进作用,综合性能明显优于单一稳定剂,且复合使用采用了清洁的原料,替代了重金属Pb2+;稳定剂硫酸铜、碘酸钾、DL-半胱氨酸和硫酸铈最佳复配的质量浓度分别为:25、20、3和7.5mg/L,镀后测得镀速12.54μm/h、镀液稳定常数91.85%、孔隙率0、镀层磷质量分数为10.25%。 相似文献
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化学镀镍磷合金"配位催化机理"探讨 总被引:1,自引:0,他引:1
以配位催化理论对化学镀镍过程加以分析,着重提出了配位中心原子Fe或Ni对H2PO-2的配位催化作用;H2PO-2配位吸附生成金属氢化物,并释放活性氢,其它配位剂、促进剂等添加剂中配位分子与金属原子配位一般可以减弱H2PO-2与Fe或Ni间的σ键,更易提供活性氢;P的沉积是金属Ni在其表面通过配位将次磷酸吸附并还原成PH3,PH3能够紧密地吸附在金属Ni表面,并将吸附在金属Ni表面的H2PO-2还原生成P,并与Ni共沉积. 相似文献
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丁二酸对化学镀镍的加速和稳定作用 总被引:5,自引:1,他引:4
测定了丁二酸对镍的沉积速度和氢的析出量的影响,并用电化学方法测定了化学镀镍过程的阴,阳极化曲线,揭示了丁二酸加速和稳定化学镀镍过程的电化学特征。 相似文献
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以沉积速率、复合镀液稳定性、复合镀层的孔隙率、硬度和纳米TiO_2在镀液中的分散性为评价指标,研究了柠檬酸、乳酸及氨基乙酸三种配位剂对镀液和镀层性能的影响。结果表明,柠檬酸单独做配位剂时,复合镀液稳定性好、复合镀层孔隙率较低;乳酸单独做配位剂时,复合镀层硬度较高;在(Ni-P)-纳米TiO_2溶液中加入15 g/L柠檬酸和25 mL/L乳酸时,兼顾了柠檬酸和乳酸在溶液中单独做配位剂时镀层的耐蚀性和硬度,复合镀层硬度达到568.98 HV,孔隙率仅为0.52个/cm~2;而通过各项指标的考察,氨基乙酸不适合做配位剂。 相似文献
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化学镀镍液中络合剂总量的快速测定 总被引:4,自引:0,他引:4
研究了化学镀镍体系中Ni^2+,pH值,次磷酸钠,温度等对络合剂吸光度的影响。在202.6nm处,用分光光度法测定其中络合剂的总量。试验结果表明,该法在络合剂总量测定中操作简便,快速,准确度高,适用于化学镀镍液中络合剂总量的快速测定。 相似文献
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为了考察配位剂复配对化学镀镍的影响,在以LA为主配位剂的基础上,分别将LA与LB、乳酸、甘氨酸、苹果酸进行复配。固定LA的质量浓度为22g/L,改变第二种配位剂的质量浓度,研究配位剂复配对镀速、镀层中磷的质量分数、镀液稳定时间及镀层耐硝酸变色时间的影响。 相似文献
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研究了EDTA,NaKC4H4O6以及两者复配后,对Al2O3陶瓷表面化学镀铜沉积速率、微观形貌、表面粗糙度和镀液稳定性的影响。结果表明:EDTA为配位剂时,化学镀铜镀速为3.86μm/h,镀层表面粗糙度为0.39μm,镀层铜微粒形成团聚,均匀性较差;NaKC4H4O6为配位剂时,镀速为4.55μm/h,表面粗糙度为0.46μm,镀层表面有直径达2~5μm的杂质微粒;EDTA和NaKC4H4O6复配使用时,镀速为4.17μm/h,表面粗糙度为0.35μm,铜镀层微观组织致密,铜微粒大小分布均匀,排列紧密,表面平滑、洁净。 相似文献
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研究了乳酸、酒石酸钾钠、硼酸和柠檬酸钠等对铝合金化学镀Ni-P沉积速率的影响,并对镀层的结合强度以及耐蚀性等方面进行了考察,确定了合适的工艺条件。根据该工艺制备的Ni-P镀层具有良好的表面质量和较高的结合强度,提高了基体的耐蚀性。 相似文献