扫描电子束无显影光刻技术,

<正> 扫描电子束曝光是微细图形加工中的一项核心技术.它既是远紫外、X-射线、投影电子束光刻制备微米、亚微米精细掩模的主要手段,也是在硅片上直接加工微细图形的重要光刻技术之一,并且具有高分辨率、高精度和自动化等优点.但是电子束光刻过程,     

扫描电子束无显影光刻技术

扫描电子束曝光是微细图形加工中的一项核心技术.它既是远紫外、X-射线、投影电子束光刻制备微米、亚微米精细掩模的主要手段,也是在硅片上直接加工微细图形的重要光刻技术之一,并且具有高分辨率、高精度和自动化等优点.但是电子束光刻过程,一     

电子束曝光机(一)

为了宣传和普及微细加工技术方面的知识,本刊应读者的要求,从今年一期起增辟微细加工技术讲座专栏。本期发表的《电子束曝光机》一文是该文译者在英国剑桥大学进修期间,根据美国科学出版社出版的《Electron—BeamTechnology in Microelectronic Fabrication》一书第三章”ElectronBeam Lithography Machine”中的内容编译的。该文详细地介绍了电子束曝光机的结构、主要功能和有代表性的光棚扫描、矢量扫描及变形束机的工作性能、设计方案以及作图模式等,对希望了解电子束曝光技术的人员,对已具备电子束曝光技术初步知识而又想进一步掌握机器原理、操作、设计考虑和发展动向的人员,是一份较好的学习教材,对从事这类机器研制的人员也很有参考价值。本刊将分期连续予以登载。     

混合电子束与离子束曝光系统

在扫描束微细加工工艺中,包括抗蚀剂曝光,直接无掩模离子注入和微蚀刻加工,离子和电子起着互补的作用。一台单一的扫描束机,其离子束和电子束如能准确聚焦、相互精确对准是较为有益的。离子束和电子束应有共轴和短距离高分辨率透镜聚焦,这种要求可通过单静电透镜、组合磁和静电透镜得到满足。本文考虑了这些透镜以及组成这些透镜的整个探针形成系统。     

电子束曝光技术发展概况

电子束曝光技术是近30年来发展起来的一门新兴技术,它集电子光学、精密机械、超高真空、计算机、自动控制等近代高新技术于一体,是推动微电子技术和微细加工技术进一步发展的关键技术之一,电子束曝光技术已成为一个国家整体技术水平的象征。先进的电子束曝光机主要用于0.1～0.5微米的超微细加工,甚至可以实现纳米线条的曝光。电子束曝光技术广泛地应用于高精度掩膜、移相掩膜及X射线掩膜制造;新一代集成电路的研究及ASIC的开发;新器件、新结构     

高速扫描技术的研究

文章对微细加工技术中电子束曝光机的高速扫描技术进行了研究和探讨，对静电偏转和电磁偏转进行了比较，并对研制成功的电极共用式八极静电偏转器作了详细的介绍。     

电子束曝光技术发展动态

电子束曝光技术是近三十年来发展起来的一门技术,主要应用于0.1～0.5 μm的超微细加工,甚至可以实现纳米线条的曝光.文中重点介绍电子束曝光系统、电子束抗蚀剂以及电子束曝光技术的应用.     

文摘

综述了微机电系统/微机械的三维形状加工及极限尺寸加工的研究开发现状.相对硅微细加工和LIGA工艺,不采用掩模版的特种微细加工技术,如微细激光成型、微细电火花加工以及微细机械加工等近年来取得较大进展,在三维微小机械结构成型上有独到优势;同时扫描隧道显微加工技术的开发将微机械向极限尺寸领域推进.微机电系统/微机械的长足发展有赖于融合已有先进技术和交叉学科思想的微机械加工技术的进一步研究开发.     

电子束曝光技术的应用

电子束曝光技术是一种日益完善的超微细图形加工技术,它被广泛应用于航天通讯国防军工及超大规模集成电路等诸多领域。电子束曝光技术具有极高的分辨率,理论上甚至能达到原子量级。电子束曝光可以在基片上进行无掩膜直接曝光,具有极高的灵活性,因此是研制各种超微细结构器件的有力工具。目前先进的高性能电子束曝光系统主要用于0.1～0.5微米的超微细加工,甚至可以实现纳米线条的曝光制作。 电子束曝光技术是在扫描电镜技术的基础上发展起来的,其原理是计算机控制电子束成像电镜及偏转系统,     

电子束曝光机工作台的结构分析

微细加工技术是微电子工业的基础。电子束曝光技术的发展使微细加工技术跨入新时代,现将国外有代表性的几家主要公司电子束曝光机工作台的结构分析如下。     

光栅扫描方式的高性能电子束描绘装置

日本超大规模集成电路技术共同研究所,在通产省的资助下,研制成功了能高速度、高精度制备微细电路图形的光栅扫描方式的电子束描绘装置。这种光栅扫描方式的电子束描绘装置,可以使电子束沿一定方向,用一定振幅边扫描边依据图案使电子束间断。另外在扫描方向和垂直方向上可连续移动工作台,描绘图形采用光栅扫描方式。     

影响振镜扫描式脉冲激光加工速度的两个因素

为了提高振镜扫描式脉冲激光加工的速度,从振镜扫描的特点及脉冲激光加工的原理出发,分析了影响振镜扫描式脉冲激光加工速度的两个因素.结果认为:在脉冲激光加工、尤其在用脉冲激光进行多个区域的扫描加工(如脉冲激光的扫描点焊、扫描打孔等)时,在时序上合理地匹配振镜的转动与脉冲激光的开启与关闭,在一定程度上能提高激光加工的速度;还可以将激光束在时间上和空间上分光,进行多光束同时加工及多工位加工,实现宏观“同时”和微观“分时”的快速激光加工,提高激光加工设备的利用效率.     

扫描探针加工技术的新进展及扫描等离子体加工技术的研究

扫描探针加工技术作为一种无掩模微细加工手段以其所需设备简单和加工精度高达纳米量级等优点,近年来受到广泛的重视和研究.但目前扫描探针加工技术存在加工效率低、可重复性差、可加工材料非常有限等缺点.采用探针阵列并结合其他加工技术的并行工艺,可以提高加工效率,拓展应用范围.本文以纳米喷流加工和蘸水笔纳米加工为例介绍了扫描探针加工技术这一方面的最新进展,阐述了它们各自的基本原理和特点.最后,提出了一种基于并行探针驱动的扫描等离子体加工技术,结合了扫描探针加工精度高和等离子体加工适用材料广泛的优点,为小批量多品种微系统和纳米器件的加工探索出一种新方法.     

飞秒激光加工不锈钢微型悬臂梁的工艺研究

为了研究飞秒激光对不锈钢材料的加工工艺,采用基于飞秒激光材料烧蚀的微细加工方法,深入研究了飞秒激光高效高质量微细加工不锈钢材料的工艺条件与参量优化,并应用于微型不锈钢悬臂梁的制作。分析了激光能量密度、激光扫描速度、重复扫描次数对加工形貌和蚀除速率的影响,制作出了高质量的微米量级的不锈钢微型悬臂梁。结果表明,飞秒激光微细加工是一种极具前途与极具柔性的微机电系统器件加工手段。     

长虹C2919PV彩电扫描速度调制(VM)电路原理分析

<正> 扫描速度调制电路的功能是检测出图像亮度信号迅速变化的边缘成分,用以控制电子束的水平扫描速度,使亮度信号显著变化的地方对应的图像边沿更加鲜亮与清晰,从而消除图像在出现亮度过调(即过冲)时引起的图像信噪比变坏和边沿模糊及图像散焦等不良现象。很显然,扫描速度调制电路也是改善图像质量的重要措施之一。 扫描速度调制电路的工作原理是:当一定量的电子束轰击显像管荧光屏时,若水平扫描速度较快,则单位面积内轰击荧光屏的电子数目减少,使荧光屏显得发光较暗;反之,则荧光屏显得发光较亮。显然只要有效地按照视频信号的幅度不同来控制电子束的扫描速度,即可控制图像的明暗程度,起到     

基于低能电子束的光刻技术

讨论了聚焦电子束曝光中的邻近效应问题,阐述了扫描隧道显微镜的原理和工作方式。把扫描隧道显微技术用于低能电子束的光刻,不仅能提高图形的分辨率,而且使电子束加工工艺不再局限于真空环境。对曝光电子的能量和线条宽度之间的关系进行了分析。     

亚微米电子束制版工艺技术应用研究

文章简述了国外电子束曝光技术发展概况;着重介绍了为发展微细加工技术,以适应我所研制各种新型器件要求而进行的“亚微米电子束制版工艺技术应用研究”工作;给出了与选择最佳工艺条件有关的一些实验数据、曲线,最佳工艺条件及其应用效果。     

东芝采用新的电子束扫描技术制成0.25μm图形

<正> 东芝采用在整个片子上先进行弱的曝光,然后再进行电子束扫描的方法,研制了形成0.25μm微细图形的技术,该技术使接近效应大幅度降低,能形成高精度的图形。他们认为该技术甚至可以在64M位存贮器中应用。他们先用高电压电子束对片子预先进行弱的、均匀的曝光,然后照射电子束使描绘出实际图形。在这个方法中,由于接近效应而产生的显影时间的差比过去的电子束照射法要小得     

干法刻蚀在亚微米制版中的应用研究

本文简述了当前国内外微细图形加工技术的各种方式;着重介绍了用电子束曝光、氯等离子体刻蚀工艺制作高质量亚微米铬掩摸版的工艺实验及条件选择,应用效果等;还提出了干法刻蚀过程中的安全防护措施及下步工作考虑。     

日本研究一系列超大规模集成电路用的生产技术

<正> 日本超大规模集成电路技术研究组合共同研究所最近研究了可能实现亚微米图形的高速电子束扫描装置与电子束掩模制造装置,并研究了在实现1兆位存贮器中能发挥作用的新结构“SHC RAM”(迭式高电容随机存取存贮器),其中关于“SNC RAM”在2月份召开的美国国际固体电路会议上已发表。上述的电子束扫描装置是在该所1978年研制的光栅扫描方式基础上改进而成的,采用绕过没有图形的部分进行扫描的可变成形束方式,这样扫描速度就大大提高了。用过去的方式扫描100毫米见方的片子和掩模需要180分钟,而用该方式12分钟就可完成,而且由于电子束系统采用可变束方式,能进行最小线宽0.5微米(束斑0.125微米)的描画,