6328全反射介质膜真空镀膜工艺探讨

阐述了6328 全反射介质膜的镀膜原理和实际镀膜工艺,分析了镀膜后必须进行固膜的原因,并给出了镀制6328 全反射介质膜的蒸镀参数和经过固膜后的测量结果分析。     

6328Å全反射介质膜真空镀膜工艺探讨

阐述了6328(A)全反射介质膜的镀膜原理和实际镀膜工艺,分析了镀膜后必须进行固膜的原因,并给出了镀制6328全反射介质膜的蒸镀参数和经过固膜后的测量结果分析.     

激光器全反射介质膜的制作原理与光学厚度测定

阐述了光学薄膜的镀制原理、反射率推算,阐述了镀制全反射介质薄膜过程中光学厚度的测定方法-极值法测量的原理和所用光线的波长,阐述了得到高反射率的条件,给出了测量膜厚的实验系统装置,并叙述了镀制17层全反射介质薄膜的过程和测量的方法,最后给出了17层全反射介质薄膜的反射率测量结果。     

塑料表面真空蒸镀装饰膜工艺中底涂料中的应用

结合生产实际，本文简单介绍了塑料表面真空蒸镀装饰膜的生产工艺中，底涂料涂装的作用，给出了不同基材塑料底涂料的选用条件，着重分析了不帘式喷涂设备的设计与使用方法。实践表明，采用这种喷涂设备，有利于净化喷涂环境，提高制品质量和工业化生产效率。     

塑料表面真空蒸镀装饰膜工艺中底涂料的应用

结合生产实际，本文简单介绍了塑料表面真空蒸镀装饰膜的生产工艺中，底涂料涂装的作用。给出了不同基材塑料底涂料的选用条件。着重分析了水帘式喷涂设备的设计与使用方法。实践表明：采用这种喷涂设备，有利于净化喷涂环境，提高制品质量和工业化生产效率。     

大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介(一)

近年来，各种工业生产规模的玻璃基片大平面磁控溅射生产线发展迅速，令人关注。本文针对这一领域，就主要膜系开发、设备结构、工艺、存在的问题及最新发展做了简单的归纳和介绍。     

大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介(二)

近年来，各种工业生产规模的玻璃基片大平面磁控溅射生产线发展迅速，令人关注。本文针对这一领域，就主要膜系开发、设备结构、工艺、存在的问题及最新发展做了简单的归纳和介绍。     

电子束蒸镀快速沉积铜膜研究

利用电子束蒸镀设备沉积金属薄膜是微电子领域最常见的薄膜沉积工艺之一。然而使用普通钨坩埚电子束蒸镀铜薄膜时,沉积速度非常低。这是因为熔融的铜与钨坩埚是浸润的,当提高电子枪功率时,液态铜的表面自由能随着温度的升高而降低,液态铜会沿着坩埚壁向上铺展,消耗电子束能量。为此,对钨衬埚壁进行结构优化,阻止了电子枪功率较高时液态铜的向上铺展,将铜膜的沉积速度从2?/s提高到20?/s,并对不同沉积速率制备的铜薄膜的粗糙度、均匀性、应力进行对比,验证了该方法的可行性。     

镀膜玻璃膜层均匀性探讨

本文对镀膜玻璃的膜层均匀性问题作了初步的探讨。侧重于从溅射原子的沉积过程来分析边缘效应对膜层横向均匀性的影响。     

通过氧化Cu膜制备Cu_2O薄膜

通过热蒸镀Cu膜并在空气中退火制备Cu2O薄膜,利用X射线衍射(XRD)、能量分散X射线谱(EDX)和原子力显微镜(AFM)研究了已沉积和不同温度退火薄膜的晶体结构、成份和表面形貌。结果表明,Cu膜在200℃退火30分钟可以得到具有单一成份的Cu2O薄膜。四探针测量得到所制备的Cu2O薄膜电阻率为0.22Ωcm。用紫外可见光分光光度计(UV-vis)研究了Cu2O薄膜的光学特性,得出其光学带隙为2.4eV。     

A multilayer thin film capacitive pressure transducer

Translated from Izmeritel'naya Tekhnika, No. 1, pp. 45–47, January, 1992.     

Fabrication of thromboresistant multilayer thin film on plasma treated poly (vinyl chloride) surface

Layer-by-layer deposited anticoagulant multilayer films were prepared on ammonia plasma treated poly (vinyl chloride) (PVC). Fourier transform infrared spectroscopy-attenuated total reflectance (FTIR-ATR) and contact angle results revealed the presence of –NH₂ on the ammonia plasma treated PVC surfaces and the layer-by-layer self-assembly process. The stability of multilayer film was studied with the radio labeled method. The remainder bovine serum albumin (BSA) in cross-linked 5(heparin/BSA) multilayer films dipped in phosphate buffered saline (PBS, pH 7.4) was more than 90% in 40 days. The static platelet adhesion result indicated the anticoagulant multilayer films deposited on the plasma treated PVC reduced platelet adhesion drastically and no thrombus forming. The plasma recalcification time revealed that the multilayer modified surfaces greatly prolonged the plasma recalcification time. Such an easy processing and shape-independent method may have good potential for surface modification of cardiovascular devices.     

真空镀银抗菌包装薄膜的研究

通过真空镀膜的技术将Ag蒸镀在PET、CPP、PE、PA薄膜上,然后用于包装鲜牛肉,以此延长鲜牛肉的货价寿命.讨论了经该抗菌薄膜包装的鲜牛肉储存期间各项理化指标及感观品质的变化,并研究了该抗菌薄膜的抗菌效果和物理指标.结果表明经这种材料包装后的鲜牛肉的挥发性盐基氮(TVB-N)明显下降,感观品质提高;该抗菌薄膜的杀菌率达到99%以上,与未经过包装的鲜牛肉相比,该材料使鲜牛肉的货架寿命延长了3倍.     

超薄地膜企业标准合理性的探讨

超薄地膜因其没有国家或行业标准,企业依据企业标准生产。很多企业标准中的指标或方法不合理,超薄地膜的质量也差强人意。本文通过对24份搜集到的不同地区不同企业的企业标准进行对比、统计与分析,找出其性能指标和检验方法的合理性的部分,从而引导企业制定科学的企业标准,促进超薄地膜产品质量的提高。     

一种新型的幅宽1500 mm的卷绕式真空镀膜机

幅宽1500mm卷绕式真空镀膜机，是为了满足1500mm幅宽的聚脂薄膜（PET）、定向聚丙烯薄膜（OPP）、聚丙烯流涎薄膜（CPP）、聚乙烯薄膜（PVC）的真空镀铝而设计的。和通常的卷绕式真空镀膜机相比，具有真空度高，抽真空的时间短，卷取性能好，镀膜幅度宽，镀膜速度快。跑偏量小，镀膜层牢固、均匀等优点。是一种理想的卷绕式真空镀膜机。     

MCP薄膜生产工艺对镀铝后铝层附着牢度的影响分析

分析三层共挤流延MCP薄膜生产工艺对真空蒸镀后铝层附着牢度的影响.选择合适的原料树脂、膜面进行适当的电晕处理以及MCP薄膜的熟化,对提高VMCPP薄膜铝层附着牢度有着重要的作用.     

真空退火La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3薄膜的光诱导特性

用溶胶-凝胶(Sol-gel)法制备La0.7Sr0.3.MnO3(LSMO)靶材,用脉冲激光沉积(PLD)法在LaAlO3a(012)基片上沉积出厚度约为187 nm的LSMO薄膜,研究了真空退火对薄膜的输运和光诱导特性的影响.结果表明,薄膜的相变温度随着退火时间的增加而降低,薄膜的电阻率升高.在低温金属相光照使电阻率降低,在高温绝缘相光照则使电阻率升高.随着退火时间的增加,光电导(△p)先增大而后减小,在真空条件下退火40 min的薄膜光电导(△p)达到最大值为0.013 Ωcm.根据双交换作用解释了薄膜光电导的变化规律.