气相沉积涂层技术与模具表面强化处理

介绍了在模具表面上气相沉积涂层的方法，分析了物理气相沉积和化学气相沉积的工艺特点及应用，指出模具表面气相沉积技术的发展方向。     

化学气相沉积氮化钛薄膜的研究

氮化钛薄膜材料具有优良的性能，应用广阔，总结了化学气相沉积制备氮化钛薄膜的方法和原理，介绍了化学气相沉积在制备氮化钛方面的应用现状和研究成果，分析了各种化学气相沉积方法的优势。     

不锈钢表面真空镀膜方法研究进展

综述了国内外真空镀膜方法,包括化学气相沉积与物理气相沉积方法对不锈钢表面镀膜的研究进展,介绍了热化学气相沉积方法,重点阐述了溅射镀膜方法(包括直流二极溅射、磁控溅射及离子束溅射)及离子镀技术在不锈钢表面镀膜时对薄膜种类、沉积速率、结合力等方面的特点。最后对不锈钢表面各种真空镀膜方法进行了分析对比,指出了存在的问题及今后的发展方向。     

浅析硬质涂层的发展现状及未来趋势

经过数十年的发展,硬质涂层的发展已经上了一个新的台阶。从二十世纪七十年代化学气相沉积（CVD）技术制备TiN开始,经历了物理气相沉积技术的出现,TiAIN涂层的广泛应用,直至如今的A1TiN,CrAlN,TiAlSiN,金刚石等一系列新型涂层的诞生和应用．硬质涂层已经呈献百花齐放的态势。     

低浓瓦斯浓缩用碳分子筛的制备研究

以煤为原料,通过炭化、活化、气相沉积制得碳分子,研究了气相沉积时间和温度对碳分子筛孔隙结构的影响。实验结果表明:气相沉积时间为125 min时,气相沉积温度为850℃时,制得的碳分子筛满足实验要求。     

金刚石膜的制备和高取向生长

金刚石膜是最近世界上研究最广泛的材料之一。在本文中，简要介绍了低压化学气相沉积金刚石薄膜的合成技术及高取向生长，并对存在的一些问题进行了分析和讨论。     

气相法制备ZnS薄膜材料研究进展

综述了近几年ZnS薄膜材料的气相沉积制备方法及其应用,主要讨论了真空蒸发、磁控溅射、脉冲激光沉积、分子束外延、金属有机物化学气相沉积、原子层沉积等制备方法的最新研究进展,指出了ZnS薄膜的各种气相沉积方法的优点和不足以及今后的发展趋势。     

化学气相沉积热解炭机理及其化学动力学

综述了化学气相沉积热解炭的沉积机理、化学动力学的发展状况及一些基本理论问题，着重介绍了K.J.Huettinger等提出的沉积模型。     

切削刀具用立方氮化硼涂层的研究进展

立方氮化硼( cubic boron nitride,cBN)具有优异的物理力学性能和极高的化学稳定性,可以胜任铁系金属的加工,在高性能切削刀具等领域有着广泛的应用前景.cBN涂层在复杂刀具应用中有着不可替代的作用,由于气相生长高纯度和结合性能的cBN刀具涂层仍存在着较多的技术难题,因此仍然难以得到广泛的应用.本文综述了近20年来气相沉积cBN涂层的研究进展,阐述了物理气相沉积与化学气相沉积cBN涂层的方法与机理,分析了cBN刀具涂层制备与应用的关键问题,结合研究现状指出了cBN刀具涂层研究的发展方向.     

化学气相沉积炭/炭复合材料研究进展

炭/炭复合材料被成功用于许多领域,主要用作抗烧蚀、热防护和刹车材料,如飞机的刹车盘、导弹的头锥等.化学气相沉积是制备炭/炭复合材料的关键技术,本文阐述了炭/炭复合材料化学气相沉积工艺原理,论述了化学气相沉积热解炭机理的研究现状,介绍了不同种类化学气相沉积工艺的特点,以及化学气相沉积工艺计算机数值模拟技术的研究进展.提出了炭/炭复合材料化学气相沉积技术的研究方向和发展趋势.     

化学气相沉积设备与装置

本文介绍了化学气相沉积设备的系统组成与典型装置,讨论了几种典型装置特点对化学气相沉积过程的影响,分析和总结了典型装置的维护对沉积参数控制精度及沉积过程的影响。     

多晶硅化学气相沉积数值模拟的研究进展

介绍了多晶硅气相沉积反应的几何模型和数学模型。回顾了。重点综述了近几年国内外还原炉内SHC13-H系统三维过程数值模拟的研究进展,并对其评述。讨论了化学气相沉积数值模拟的研究现状和存在的问题,展望了今后的发展方向。     

低压气相沉积金刚石薄膜研究

低压气相沉积金刚石薄膜研究霍万库，李惠琪，李惠东（山东矿业学院）胡灼源，傅珍泰，刘福民（泰安市金属材料表面处理中心筹建处）金刚石是碳的一种同素异形体，人们很久以前就试图用石墨来直接制取金刚石。１９５５年，美国通用电器公司在世界上首次用高温高压方法成功...     

用等离子化学气相沉积工艺制备Al2O3薄膜

以乙酰丙酮铝Ａｌ（ａｃａｃ）３为前驱体用等离子化学气相沉积工艺在玻璃、石英、Ｓｉ（１００）和Ｎｉ等底材上沉积出了Ａｌ２Ｏ３薄膜。所获得的沉积膜或无碳、透明、致密（平均３．８ｇ·ｃｍ＾－３），或为透明致密的硬质（硬度Ｈｋ达２３７０）涂层。研究了各种实验参数对沉积速率、薄膜组成及膜层硬度的影响，认为偏压是具影响的参数。     

Ni-Cu-Mg催化剂上裂解制碳纳米管

本文采用Ni-Cu-Mg催化剂气相沉积法制备碳纳米管,比较了凝胶共沉淀法和柠檬酸络合法制催化剂对碳纳米管的影响,并且研究了柠檬酸络合法制Ni-Cu-Mg催化剂在不同焙烧温度对气相沉积产物的影响。结果表明用柠檬酸络合法制催化剂在低温焙烧,得到碳球;在高温焙烧得到管质量很好的大孔径碳纳米管。     

氮化硼纤维表面涂层的研究现状

综述了高性能连续氮化硼纤维表面涂层的研究现状,目前研究的氮化硼纤维表面涂层方法主要有物理气相沉积法(PVD)、化学气相沉积法(CVD)、溶胶凝胶法(Sol-gel)、溶液浸渍法等,其中溶液浸渍法是最为常用的方法,用此方法涂层过的氮化硼纤维,其防潮性能和力学性能都有了较大程度的提高。     

物理气相沉积（PVD）硬质薄膜及在工模具上的应用

材料的磨损、腐蚀及其它环境损伤是机械工业面临的基本问题之一，近年来，由离子参与和等离子体增强的各种气相沉积技术为解决这一问题提供了有效的途径。物理气相沉积（PVD）是制备硬质薄膜的主要方法之一，许多技术已实现工业化生产。本文综述了物理气相沉积技术制备的各种机械功能薄膜的性能及在工模具上的应用情况。     

旋转CVD技术及其在陶瓷粉体担载纳米粒子催化剂制备中的应用

担载型纳米粒子催化材料通常是指将金属或金属氧化物活性相以纳米粒子的形式分散到惰性担载陶瓷粉体表面而形成的复合粉体材料。提高纳米粒子催化材料的分散均匀性是获得高催化性能的关键。传统的溶胶-凝胶法、浸润法等处理步骤冗长,易导致纳米粒子的团聚长大,降低催化效果。流化床化学气相沉积方法则比较适合处理粒径在40mm~500mm的担载粉体。本文着重介绍了粉体旋转化学气相沉积技术的原理,并以镍纳米粒子为例阐述了这种技术的相关应用。采用旋转化学气相沉积技术,在六方氮化硼(hBN)、立方氮化硼(cBN)、氧化铝(Al_2O_3)、氧化硅(SiO_2)等粉体表面沉积(包覆)了镍纳米粒子,显示出了优越的催化性能。本文同时分析了旋转化学气相沉积技术存在的问题及未来的研究前景。     

微波等离子体化学气相沉积工艺对透明金刚石膜质量的影响

在自制的２４５０ＭＨｚ／５ｋＷ不锈钢谐振空型微波等离子体学气相沉积装置中研究了基片预处理和工艺参数对微波等离子体化学气相沉积金刚石膜质量的影响,研究了提高成核密度和沉积速率的方法,用ＳＥＭ,ＸＲＤ,ＦＴＩＲ,Ｒａｍａｎ和ＡＦＭ分析了金刚石膜的质量,结果表明：用纳米金刚石粉研磨单晶基片,在沉积气压６．０ｋＰａ,ＣＨ４／Ｈ２的体积流量比为０．７５％时,可 出红外透光率达６８％,表面粗糙度为１１４．１０     

离子气相沉积镀铝技术研究

采用电弧离子镀设备在30CrMnSiA钢基体上进行离子气相沉积镀铝实验,研究了离子气相沉积镀铝的前处理、镀层沉积及后处理的工艺参数,并测试了铝镀层的各项性能。实验结果表明,镀铝前不同轰击处理参数对离子气相沉积铝镀层结合力影响不大,但采用清洗轰击可改善镀层外观质量,铝镀层结合力和耐腐蚀性能良好,大大高于锌镀层;镀层与7B04铝合金不发生接触腐蚀;离子气相沉积镀铝工艺对30CrMnSiA钢力学性能影响,不会引起氢脆;喷丸+铬酸盐处理后可以增强铝镀层的耐腐蚀性能。离子气相沉积镀铝层可以对30CrMnSiA钢基体起到很好的防护作用。