寻常光在单轴晶体内表面上的反射系数

研究了寻常光在单轴晶体内表面上的反射规律.根据电磁场边值条件,分析了光在单轴晶体内表面处的反射和折射情况.给出了光在单轴晶体内表面上的反射系数公式.     

离散角对反射与透射系数的影响

目的　研究离散角对反射与透射系数的影响 .方法　根据电磁场边值条件 ,分析光在两单轴晶体分界面处的反射和折射情况 .结果与结论　给出了光在两单轴晶体分界面反射与透射系数和离散角的关系 ,是目前最具一般性的结果     

离散角对反射与透射系数的影响

目的：研究离散角对反射与透射系数的影响。方法：根据电磁场边值条件，分析光在两单轴晶体分界面处的反射和折射情况。结果与结论：给出了光在两单轴晶体分界面反射与透射系数和离散角的关系，是目前最具一般性的结果。     

正入射条件下光在两单轴晶体分界面的反射与透射系数

目的研究光在两单轴晶体分界面的反射和透射情况. 方法对晶体内存在的本征振动, 根据电磁场边值条件, 分析反射光和透射光的振辐分布. 结果给出两单轴晶体分界面的反射和透射系数. 结论在两种单轴晶体的分界面处, 一束光入射将有两束反射光和两束透射光存在. 利用电磁场边值关系, 可以计算得到反射场和透射场对应的反射系数和透射系数. 其表达形式比各向同性情况复杂一些.     

正入射条件下光在两单轴晶体分界面的反射与透射系数

目的 研究光在两单轴晶体分界面的反射和透射情况，方法 对晶体内存在的本征振动，根据电磁边值条件，分析反射光和透射光的振幅分布。结果 给出两同晶体分界面的反射和透射系数。结论 在两种单轴晶体的分界面处，一束光人射将有两束反射光和两束透射光存在，利用电磁场边值关系，可以计算得到反射场和透射场对应的反射系数和透射系数，其表达形式比各向同步情况复杂一些。     

一种新型法布里－珀罗干涉仪干涉场的计算

本文推导了光在接近正入射条件下。经一片单轴晶体和一片法拉第旋转平面平行板密接系统多次反射透射后形成干涉条纹的计算公式，计算机模拟的结果表明，透射光的干涉图样远比一块由各向同性的平行平板复杂得多．它由位相差大的强条纹和一系列位相差很小的弱条纹组成。     

光从晶体到各向同性介质界面的反射和透射

为了分析光在晶体界面的能量损失,给出了一种求解反射率和透射率的方法。分析了光从单轴晶体入射到各向同性介质表面时的折射和反射,根据在界面处电磁场的边界条件和位相匹配条件,得到了在晶体界面的菲涅耳公式。在晶体光轴取向任意的条件下,给出了反射的o光、e光以及折射光的偏振状态和振幅以及表明各光束间能量关系的折射率和反射率的理论表达式,为晶体器件特性的研究提供了有力的理论工具。数值模拟表明,所得结果满足能量守恒;射入各向同性介质中光的电场(或磁场)与原入射光的电场(或磁场)不再平行;光轴的取向和入射角的大小对折射光的偏振方向和能量有重大影响。     

平面波在单轴晶体表面上的反射和折射的研究

一、引言研究平面波在各向同性介质与单轴晶体的交界面上的反射和折射的方法通常有二种:几何作图法和计算法。在早期的教课书和文献中几乎都采用Huygens几何作图法定性地分析折射光波的传播。由光的电磁理论得知:Huygens作图法的依据是法线面是光线面的垂足面,也就是说平面波的波阵面必须与光线面相切,因此Huygens作     

一种新型法布里—珀罗干涉仪干涉场的计算

本文推导了光在接近正入射条件下，经一片单轴晶体和一片法拉第旋转平面平行板密接系统多次反射透射后形成干涉条纹的计算公式，计算机模拟的结果表明，透射光的干涉图样远比一块由各向同性的平行平板复杂得多，它由位相 差大的强条纹和一系列位相差很小的弱条纹组成。     

反射、折射光的偏振及相位的讨论

本文利用菲涅耳公式讨论了光在透明介质界面反射、折射的偏振和相位.着重分析了透明介质上下表面反射时的附加相差的条件.     

一种新的非均匀介质表面漫反射光成分提取方法

在非均匀介质表面,强光是漫反射光成分和镜面反射光成分的线性组合．结合非均匀介质表面反射特点和漫反射光成分之间的线性组合关系,文中提出一种新的基于测定光度的线性化方法,它可以计算出不同光照条件下图像之间的线性组合系数,并在此基础上提取非均匀介质表面漫反射光成分．实验结果表明,该方法可以有效地提取真实瓷器表面的漫反射光成分．     

火炮内膛表面粗糙度测量的研究

为了提高火炮内膛表面粗糙度测量的准确度,以光散射理论为基础,采用光散射特征值法对火炮内膛表面粗糙度进行测量．该测量系统能对口径100～203mm范围内的炮管内膛表面粗糙度进行检测,其测量范围Ra：0．2～1．6μm,最大相对误差4．3％．     

放电处理在纺织品加工中的应用

本文研究了放电处理如低温等离子体处理、在大气环境中低温等离子体处理及镀层腐蚀对不同纺织纤维及高聚物材料表面性能的影响．等离子体处理主要造成纺织品的化学改性，增加其润湿性和附着力，而镀层腐蚀会在纺织品表面形成许多突起，增加其附着力，减少光的反射，从而增加染色深度     

光在双折射－法拉第旋转系统中的传播规律

本文研究了光在接近正入射条件下，进入一个由一片单轴双折射板与一片法拉第旋转平面平行板密接系统中的传播规律．利用双折射效应，将一束偏振光分成两束（寻常光和非寻常光）．由于法拉第旋转效应，两束透射光的偏振面将旋转一定的角度，当再进入双折射板时，光束的数目将增加一倍．光在腔内的多次反射与透射，光束的数目将呈几何级数地增加，形成多光束干涉     

半波损失的量子本质

应用波粒二象性理论,采用波函数的描述方法,研究了光在两种媒质分界面反射时反射光在反射点的相位π的突变,即半波损失．     

光折变晶体的光衍射机制研究

本文研究了光折变晶体的自衍射光斑,它是入射光束及其在晶体后表面的反射光束与由晶体缺陷所致散射光的简并四波混频过程,其锥角由位相匹配条件△K=0确定,并可用Ewald球作图法解出.实验和理论分析表明上述反射光束对光折变的自衍射光产生是有作用的.     

反射分量分离与像素填补结合的高光抑制方法

针对陶瓷、金属等光滑表面在结构光三维测量时,由于表面局部的强反射特性使得物体失真产生较大测量误差这一问题。依据反射分量分离理论,设计了一种反射分量分离结合像素填补的改进算法。首先通过像素参数对比方法找到图像中的高光像素点,然后对其进行反射分量分离处理,为了避免一些高光强度过大的像素点在处理之后变为黑点,本文采用像素填补方法对其进行处理。实验结果表明,采用此种算法对1920×1080分辨率的图像进行处理,其高光像素的数目降低了8~11倍,实现了三维测量领域中强反射表面高光的有效去除。     

一维反转对称光子结构的表面阻抗特性及其应用

基于传输矩阵法计算了层状光子结构的反射光谱轮廓曲线和表面阻抗,具体分析了反转对称光子结构的表面阻抗在不同带隙内的变化规律。结果表明:反转对称光子结构在带隙内的表面阻抗符号与相邻通带中反射光谱轮廓曲线的零点数目有关;若某通带对应的反射光谱轮廓曲线含有奇数个零点,则表面阻抗虚部在该通带后相邻带隙内的符号与前一个带隙相同;若某通带对应的反射光谱轮廓曲线含有偶数个零点,则在该通带后的带隙内表面阻抗虚部的符号将发生变化;同时反转对称中心不同的两个光子结构的表面阻抗虚部符号在奇数带隙内相反、偶数带隙内相同,其组合结构在奇数带隙内均存在一个界面态,且在该界面态频率处,两个结构的阻抗虚部之和等于零。研究结果可以为层状光子结构产生光学界面态等应用提供理论参考。     

高深宽比SU-8微结构的简易加工技术

为了提高微驱动器的性能,提出了一种在氧化铟锡(ITO)玻璃上加工高深宽比SU-8微结构的方法.在导电玻璃的ITO层上涂覆一薄层AZ-4620正光胶,用常规的接触式曝光法,将光刻掩模上的二维图形转移到AZ-4620光胶层上,显影后利用ITO玻璃的导电性,在AZ-4620光胶曝光处电沉积镍,原掩膜图形可保真地转移到ITO玻璃表面的镍镀层上,使紫外光透过ITO玻璃基底进行反面曝光,从而保证了光刻掩模与SU-8光胶层间的完全接触,消除了厚光胶层表面不平在曝光时的散射和基片材料的反射影响,成功制备了深宽比为16、侧壁垂直度为89.5°的微结构.本方法使用设备简单,加工成本低.     

光弹贴片法检测复合材料残余应力

采用钻孔法结合光弹贴片实测正交异性复合材料板小孔周围释放应力应变场,简要推导光弹等差线条纹级数与测点残余应力的关系式,并以碳／环氧复合材料板为实例,探讨更简便易行的残余应力检测方法。在实验技术上,将聚碳酸酯贴片的单侧表面镀金属铝膜,以提高贴片的反射效率。实验表明,钻孔法结合光弹贴片测量可有效地分析复合材料残余应力问题。