TiNi合金化学抛光工艺及其对耐蚀性的影响

对ＴiNi合金化学抛光液的组成和抛光工艺进行了研究和优化发现,化学抛光的质量不仅与抛光液配和抛光工艺直接相关,还与ＴiNi合金的处理状态有关,冷轧态固溶及退火态易获得低的表面粗糙度,用电化学方法测试了化学抛光与机械抛光试样的阳极极化曲线,结果表明,化学抛光能提高ＴiNi合金的点蚀电位（Ｅb) ,降低再钝化电位（Ｅrp)从而显著提高其耐蚀性,使化学抛光的表面达到镜面状态。     

低、中碳钢材料高温化学抛光工艺

低、中碳钢材料低温化学抛光过程中双氧水易分解、温度不易控制、中温化学抛光配方中使用氢氟酸的废水中氟离子较难处理,为了解决这些问题研究了高温化学抛光液的组成和前处理工艺,分析了抛光液中各物质含量对工件产生的影响.结果表明,在不使用CrO3的情况下,将普通酸和常用助剂组合,温度控制在95～110℃时,可以使低、中碳钢工件表面抛光成镜面光亮,抛光时间短、速度快、效率高、容易控制、无有毒气体NOx逸出,废水中无有毒离子,可以实现清洁化生产.     

Q235钢中温无黄烟化学抛光工艺

低碳钢在双氧水系抛光液中化学抛光时,双氧水易分解,温度不易控制,而在硝酸系抛光液中化学抛光会产生黄烟且能耗较大。为此,研制了一种新型无黄烟低碳钢中温化学抛光液对Q235钢化学抛光,考察了化学抛光液组成及温度、时间对抛光质量的影响。结果表明:使用本工艺的化学抛光试样表面平整、粗糙度低,光亮度达3～4级;获得最佳抛光质量的化学抛光工艺为120～250mL/LH3PO4,100～200mL/LH2SO4,40～80g/LNaNO3,10～40g/LNaCl,20g/L复合添加剂,55～65℃,2～5min。     

铜及其合金化学抛光工艺研究

为了满足铜材钝化时对处理表面的要求,对化学抛光工艺及配方进行了深入研究,并分析了抛光液中各组分及工艺条件对抛光质量的影响.该工艺的最优配方及工艺条件为:50～55 mL/L磷酸,10～15 mL/L硝酸,25～30 mL/L草酸,1.0～1.5 g/L尿素,1.5～2.0 g/L香豆素,2.5 g/L磺胺,水余量,抛光温度55 ℃左右,抛光时间2～5 min.用此最优配方及工艺条件对铜及其合金进行化学抛光,可获得最佳抛光效果,且该工艺具有溶液成分简单、易于操作、抛光速度快、亮度好、污染低等优点.     

浅谈不锈钢化学抛光添加剂的选择

不锈钢制品以它特殊的性能和外观越来越得到认可和使用。但要获得高的性能和外观,必须通过特殊的工艺进行处理。不锈钢电解精抛光和化学抛光是其获得精美外观的首道工序,而化学抛光以其不受零件形状、体积限制,可以改变不锈钢制品机械损伤层和应力层,提高机械强度,成本低、效率高,表面精饰效果好等特点而受到人们的青睐。在不锈钢化学抛光过程中,添加剂作为抛光液中不可忽视的成分越来越受到大家的重视和研究。1 添加剂的作用和种类 添加剂有抑制腐蚀和增亮作用,可在不锈钢表面形成复杂的吸附层,活化零件表面微凸点、钝化微凹点,使抛光有效进行。它是抛光液的粘度调节剂、缓蚀剂、腐蚀剂、活化剂和消泡剂,由于它的存在,才使化学抛光平稳进行,达到表面精饰的效果。 在早期的化学抛光配方中,添加剂主要是一些盐类。许多无硝酸的抛光配方就是以无机盐和不挥发性酸类构成的。 添加剂的种类较多,一般包括无机盐、有机盐、有机化合物、表面活性剂等。无机盐类大部分是硫酸盐、磷酸盐、硝酸盐、醋酸     

铜及铜合金化学抛光工艺的改进

对微酸性Ｈ２Ｏ２－ＨＮＯ３型化学抛光工艺进行了改进，用Ｌ氧化剂替代部分易分解的Ｈ２Ｏ２，使Ｈ２Ｏ２浓度降低到原工艺配方的１／１０，且抛光效果与原工艺相当，抛光液寿命大大提高，成本不足的工艺的１／３。讨论了光液中各组分浓度及工艺条件对光质量的影响，初步探讨了抛光机理。     

环保型铜及其合金化学抛光与钝化新工艺

为了提高铜及其合金的表面抗变色能力,研制了一种环保的化学抛光工艺和含稀土盐的新型钝化工艺.对抛光与钝化后的试件进行检验,并利用硝酸点滴法及扫描电镜对钝化膜进行了检测,介绍了各组分在抛光液与钝化液中的作用机理,最后简述了常见问题与解决办法.     

过氧化氢硫酸型工艺酸洗黄铜一例

铜及铜合金的酸洗出光,一般采用硝酸和铬酸化学抛光液,效果较好,而且成本较低。但生产过程产生的废水、废气严重污染环境,进行治理,成本较高,且效果也不理想。从保护环境的角度,污染最好消除在工艺中。目前流行采用过氧化氢与多种无机酸、有机酸组成的溶液,用于铜和铜合金的化学抛光,并取得了良好的抛光效果。     

铜及铜合金化学抛光

研究了铜及铜合化学抛光工艺，讨论了化学抛光液中酸的配比、酸雾抑制剂的使用、抛光时间、温度以及水洗过程对抛光效果的影响。试验表明，本抛光工艺取得了满意结果，是一种行有效的化学抛光方法。     

铝合金碱性化学抛光技术

在承接一批铸造铝合金、压铸铝合金件的化学抛光时 ,首先使用常用的三酸 (磷酸、硫酸、硝酸 )抛光工艺。由于是合金件 ,硅、铜含量大 ,经过多次抛光酸洗 ,虽然达到了对方的光泽要求 ,但是成本较高。通过查阅有关资料并多次试验 ,找到了针对铝合金的碱性化学抛光工艺 ,抛光质量基本上与酸性化学抛光相似 ,效果令人满意。1　化学抛光工艺(1)流程工艺　化学抛光→温水洗→清水洗→出光→水洗→中和→水洗→干燥。(2 )配方及条件　ＮａＯＨ　 35 0～ 65 0ｇ/Ｌ ;ＮａＮＯ2 　 10 0～ 2 5 0ｇ/Ｌ ,ＮａＦ　 2 0～ 5 0ｇ/Ｌ ;Ｎａ3ＰＯ4 　 10～ 4…     

不锈钢化学抛光工艺研究

研究了以硫酸为主的不锈钢化学抛光工艺。通过改变温度考察其对不锈钢抛光效果的影响，从而确定最佳温度范围；通过改变不锈钢化学抛光工艺中各组成的含量，考察其对抛光效果的影响，筛选出既有较好抛光效果、抛光成本也较低的最佳化学抛光工艺为：H2SO4 20％-30％，HNO3 3％-6％，添加剂3％-6％，水余量，温度60-70℃，时间3-5min。     

用于蓝宝石材料加工的新型超精密抛光技术及复合抛光技术研究进展

超精密抛光是一种降低表面粗糙度,获得高表面质量和表面完整性的加工技术。蓝宝石作为典型的难加工硬脆材料,传统抛光方法存在表面会产生崩碎、划痕等损伤,表面质量难以得到保证以及加工效率低等问题。本文综述了应用于蓝宝石材料的磁流变抛光、水合抛光、化学机械抛光和激光抛光等技术的原理与特点及其研究现状,并分析了各抛光技术的优缺点;从表面质量、磨料与磨液、效率与成本等方面对各抛光技术进行比较;介绍了复合抛光技术在蓝宝石材料中的应用;最后重点展望了蓝宝石材料超精密抛光技术的下一步研究。     

Chemical polishing of aluminum coupons in support of vacuum chambers

Success of third and fourth generation light sources is highly dependent upon the smoothness of internal surfaces in small aperture undulators. The ratio of the undulator length to the chamber aperture is very large, making mechanical polishing difficult to implement. Chemical polishing is a viable alternative option. This study investigates the effectiveness of a chemical polishing step as a finishing treatment in lieu of mechanical polishing. Limited to no quantitative data exists in the literature that links specific chemical polishing processes to profilometer-measured surface roughness. This study examines the effectiveness of using two chemical solutions at various temperatures to treat the surfaces of aluminum coupons and reduce their surface roughness. Results indicate that certain chemical polishing steps can reduce the root mean square roughness of the surface by as much as 40%; however, careful control of the solution temperature, composition, and immersion time is critical.     

铝合金表面碱性化学抛光液组分的最佳浓度

铝合金碱性化学抛光效果较酸性抛光的差,为此,研究了低温下铝合金碱性化学抛光基础液及添加剂的最佳浓度。结果表明:以250g/L氢氧化钠、150g/L硝酸钠、15g/L硅酸钠、13g/L氟化钾为基础组分,分别加入30g/L硫脲、2g/L十二烷基硫酸钠、1.0g/L硫酸铜都可以使抛光效果得到提升,但加入30g/L硫脲效果更好,可以使铝合金抛光后的光泽度达到274 Gs,单位面积消耗量达0.01643kg/m~2。该工艺具有无污染、抛光光泽度高、操作简便等特点。     

金属电子背散射衍射试样的制备技术

电子背散射衍射样品的制备质量对其成像效果的影响至关重要,着重介绍了几种有效的样品制备方法.试验证实,与其他方法相比,机械-化学抛光法具有设备简单、易操作及效果明显等优点.     

电解质等离子抛光液中硫酸铵含量的检测方法

电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰,无法使用电导法对抛光液中硫酸铵的含量进行检测,为了解决这一问题,基于实验提出了两种确定硫酸铵含量(质量分数)的方法.一种方法是利用抛光液中硫酸铵的含量低于2.5%以后抛光的电流密度会明显下降的现象,定时检测抛光过程中电流值和抛光液温度,以确定是否需要补充硫酸铵.另一种方法是通过实验得到一定抛光液温度下抛光量与硫酸铵消耗量的关系,再在抛光过程中记录抛光量计算抛光液中硫酸铵含量的方法.研究发现,前一种方法应用更为简便,适用于一般工业生产;后一种方法适用于对抛光效果要求更高的加工.经实验验证两种方法均具有可行性.     

Silica based polishing of {100} and {111} single crystal diamond

Diamond is one of the hardest and most difficult to polish materials. In this paper, the polishing of {111} and {100} single crystal diamond surfaces by standard chemical mechanical polishing, as used in the silicon industry, is demonstrated. A Logitech Tribo Chemical Mechanical Polishing system with Logitech SF1 Syton and a polyurethane/polyester polishing pad was used. A reduction in roughness from 0.92 to 0.23 nm root mean square and 0.31 to 0.09 nm rms for {100} and {111} samples respectively was observed.     

复合抛光对 CVD金刚石薄膜表面光洁度的改进研究

采用激光抛光和热化学抛光相结合的方法，对通过热丝CVD方法生长的金刚石薄膜进行了复合抛光处理．并利用X射线衍射仪（XRD）、拉曼光谱仪（Raman）、扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）对金刚石薄膜进行了表征．结果表明，所合成的金刚石薄膜是高质量的多晶（111）取向膜；经复合抛光后，金刚石薄膜的结构没有因抛光而发生改变，金刚石薄膜的表面粗糙度明显降低，光洁度大幅度提高，表面粗糙度Ra在100nm左右，基本可以达到应用的要求．     

CVD金刚石膜高效超精密抛光技术

CVD金刚石膜作为光学透射窗口和新一代计算机芯片的材料,其表面必须得到高质量抛光,但是现存方法难以满足既高效又超精密的加工要求.本文提出机械抛光与化学机械抛光相结合的方法.首先,采用固结金刚石磨料抛光盘和游离金刚石磨料两种机械抛光方法对CVD金刚石膜进行粗加工,然后采用化学机械抛光的方法对CVD金刚石膜进行精加工.结果表明,采用游离磨料抛光时材料去除率远比固结磨料高,表面粗糙度最低达到42.2 nm.化学机械抛光方法在CVD金刚石膜的超精密抛光中表现出较大的优势,CVD金刚石膜的表面粗糙度为4.551 nm.     

Ni-Ti形状记忆合金电化学抛光工艺研究

为提高Ni-Ti形状记忆合金的表面质量,以Ti50.8Ni(原子分数,%)为基材进行纳米级电化学抛光加工试验。基于自行研制的电化学抛光加工系统及抛光液,通过正交试验和单因素试验,分析了电流密度、抛光时间、抛光温度、电极间距等因素对电化学抛光的影响程度及影响机理。采用Micro XAM-100白光干涉仪对抛光试样进行检测。结果表明:最佳抛光工艺为电流密度J=1.0 A/cm2、电极间距d=15 mm、抛光时间t=140 s、抛光温度θ=15℃。在最佳工艺参数下抛光质量良好,试件表面粗糙度值显著降低至27.8 nm,表面平整均匀、光亮如镜。