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Bridgman法从1925年问世至今,已经演变出多种控制方式,成为金属定向凝固和人工晶体生长的核心技术.由于溶质分凝导致的成分偏析是Bridgman法生长固溶体型晶体材料中遇到的一个难题.本文从溶质分凝的热力学原理和溶质传输的动力学分析入手,探讨了Bridgman法晶体生长过程中溶质分凝和偏析形成的基本原理和规律.进而分析了溶质分凝与温度场的耦合关系以及对流对溶质分凝行为的影响.最后,结合CdZnTe晶体生长过程,分析了溶质分凝与偏析的控制在实际晶体生长过程的应用. 相似文献
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在定量估算的基础上,明确了Hg1-xCdxTe晶体AC-RT-B法生长过程轴向溶质再分配的 经条件,导出了计算公式。以HgTe-CdTe伪二元相图为基础进行了计算表明,按照远红外控制器要求的成分配料(x0=0.22),仅在晶锭的某一部分可获得符合成分容差的晶体,而采用其它相近的成分配比也能获得符合成分要求的晶体,采用x0值更小的槽糕成分获得的满足成分要求的晶段更长,并且位于结晶质量较高的晶锭前段‘ 相似文献
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利用焓-多孔介质法对垂直Bridgman生长CdTe的数值模拟 总被引:2,自引:0,他引:2
利用数值模拟研究了碲化镉在垂直Bridgman炉中生长时的固-液界面的形状.采用焓-多孔介质法,在固定网格上对碲化镉的固液两相用统一的控制方程进行了整场求解,用一特征参数确定界面的位置和形状.结果表明,当晶体的生长速率较低时,界面的形状与物质在固态和液态两相下的热扩散率有关.如果两种热扩散率的数值相近,界面的形状是平坦的.液态区自然对流是界面形状的影响因素之一,而积聚在固态区的结晶潜热是形成弯曲固-液界面的主要原因. 相似文献
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采用有限元法对大尺寸氟化钙单晶的生长过程进行了传热分析,准稳态模型简化模拟计算过程.研究了梯度区不同的温度梯度对界面形状和晶体生长速度的影响,讨论了辐射传热对晶体生长过程传热的影响.研究表明:晶体生长过程中界面凸度发生变化;晶体生长速率与坩埚下降速率不一致;25 K/cm为合适的梯度区温度梯度;晶体内部辐射传热对单晶生长传热过程有重要影响.计算结果表明,3个时期的固相等温线的曲率小于液相的.根据数值模拟结果进行了晶体生长实验,生长出的晶体完整,透明,无宏观缺陷. 相似文献
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采用导模法生长了内孔径470 μm的蓝宝石晶棒和内孔径160 μm板形蓝宝石晶体。基于求解拉普拉斯方程的数值解, 得到生长界面处微孔的熔体膜轮廓曲线, 采用插入钼丝的方法设计了生长模具以形成和维持晶体内的微孔尺寸, 同时解决了微孔蓝宝石长晶生长过程中的两个难点: (1)获得高质量的蓝宝石晶体; (2)在蓝宝石晶体中形成并维持所需的内孔尺寸。所生长的晶体透明完整、无开裂、双晶摇摆曲线测定显示其衍射半峰宽为3.8°, 具有良好的结晶质量 相似文献
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小型磁偏转质谱计磁场的分析计算 总被引:1,自引:0,他引:1
磁偏转质谱计是根据离子在磁分析器中运动时,不同质荷比的离子有不同的偏转半径原理来实现质量分离的。磁场大小和分布对质谱计的性能影响较大,因而设计时需要对质谱计磁场分布进行精确计算。应用有限元法建立了计算质谱计磁分析器磁场的物理模型,并利用这一模型计算了磁分析器磁感应强度在空间的分布情况。结果表明,在半径分别为20 mm和50 mm的1/4圆弧轨道上,其磁场分布规律类似。由于边缘磁场效应,在磁铁边界区域约3 mm范围内,磁感应强度基本呈直线下降,这一结果为磁分析器的结构优化和边缘场补偿提供了理论依据。 相似文献
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基于麦克斯韦方程和弹性动力学理论,导出了纵向磁场中导电薄板的非线性磁弹性耦合振动方程和电动力学方程,运用伽辽金法推得了两对边简支导电条形板的达芬型振动方程.针对亚谐波共振问题,应用多尺度法进行求解,得到了相应的近似解析解和幅频响应方程以及非平凡解存在条件.应用李雅普诺夫稳定性理论,对解的稳定性进行了分析,得到了稳态解稳... 相似文献
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在Cd-Te相图的基础出CdTe-Cd相图并定义其主要参数,讨论了高Cd的CdTe液体在结晶过程中的分凝特性及其生长条件对昌体中Te固溶量的影响,进而维持平面生长界面所需的最小温度梯度。 相似文献
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用质子辐照p型碲镉汞材料的方法成功地制备了n-on-p型短波与中波光伏器件.其中中波器件的截止波长为6.5mm,黑体探测率达2.3x1010cmHz1/2W-1,量子效率为28%,其中R0A达157·cM2。C-V特性研究发现其为突变结。噪声频谱表明在低频(<300Hz)时主要由1/f噪声限制,在中频和高频时主要是白噪声限制。对辐照前后材料和器件的截止波长变化亦作出了初步解释。短波器件的电流电压特性表明器件在室温可承受15V的反向偏压。 相似文献
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圆柱旋转双面矩形磁控溅射靶磁场的设计计算 总被引:8,自引:1,他引:8
本文提出一种新型的圆柱旋转双面矩形磁控溅射靶,它具有平面磁控溅射靶的优点.根据靶的结构与工作原理,给出了圆柱双面矩形磁控靶磁场强度计算数学模型及计算公式.依据该计算方法,对具体的靶进行了计算机编程计算,并根据计算结果绘制出了靶磁场分布曲线.计算结果表明圆柱双面矩形磁控靶的磁场分布比较均匀,磁场强度满足磁控溅射功能的需要,其靶的溅射刻蚀区可宽达40°角的范围.从而提高了膜层的沉积速率及膜层沉积范围,改善了同轴圆柱形磁控靶由于环状磁场所引起的膜层不够均匀及靶材利用率低的问题,可以在靶磁场两侧的大面积平面基片上沉积出膜厚均匀的涂层. 相似文献