一种新型的电子枪 中空热阴极放电等离子体电子束装置

中空热阴极放电等离子体电子束装置(以下简称空心枪),它具有工作真空度低(10~(-3)～10~(-1)托)工作电压低(<100伏),电流大,且易调节、结构简单、操作方便,价格便宜等显著特点,因此,它在真空冶炼,真空热处理以及真空离子镀膜等领域内,获得了广泛的应用。     

当前最先进的镀膜技术溅射和离子镀

溅射沉积和离子镀是当前最先进的镀膜枝术。一离子镀1963年,D.M.Mattox开发了离子镀技术,它是在蒸镀的基础上发展起来的。蒸镀是在10~(-5)～10~(-6)托的真空容器中用加热的方法使镀膜材料蒸发出原子或分子,飞向工件表面而凝聚成一片薄膜(图1)。如果让蒸发粒子通过由氩气或其它气体辉光放电所形成的等离子气体区域,或由炽热的钨丝放射并经电场加速的电子云区域,则部分蒸发粒子变成离子。用高压直流电场把离子加速。高速离子与中性蒸发粒子相碰     

用于发射光谱的自动空心阴极光源装置

本文论述了用于发射光谱分析的空心阴极光源要使用的氦、氩两种载气各自的优缺点,根据钢铁分析、超纯物质分析的实际工作,同时考虑到降低成本,选定氩气代替氦气。设计了动态平衡式真空系统代替常用的封闭式真空循环系统,简化了装置。研制了可控硅稳流的高压直流电源,能以直流、脉冲和直流加脉冲三种方式供电。编排出简易的程序控制装置。对多数元素,分析的绝对检出限为10~(-6)～10~(-11)g,相对检出限为10~(-3)～10~(-6)%,变差系数为10～50%。     

冷阴极超高真空规

一、概述我厂研制的 LD-03型冷阴极电离真空计,是用于测量真空系统10~(-10)—10~(-4)托范围内压强值的测量仪器。该真空计的特点是规头为全金属型,具有测量范围宽,反应灵敏,系统充入大气时规管电极不致焚毁等优点,适用于在工作和实验室中作为控制装置和用于真空操作的连续测量,原则上可以代替普通高真空量程的热阴极电离真空计使用。     

小孔法校准电离规

本文叙述电离真空規的小孔泻流法校准系統的原理与方法。这种方法由Dayton等建議,后由Normand等进行了許多实驗。作者采用这种方法对三种热阴极电离规在10~(-4)～10~(-5)乇压力范圍所作的蠾挤治稣f明,它与采用麦氏規校准的結果相符,校准系統誤差不大于8%,証明用这种方法校規精确、简便。它比較适用于工厂中使用的电离規的校准。     

高速纲工具的真空热处理

一、前言所谓真空热处理,乃是工件放在压力为10~(-1)～10~(-3)毫米Hg(乇)程度的中真空,或10~(-3)毫米Hg(乇)以下的高真空中加热,然后在400(乇)左右的低压惰性气体中,     

中空热阴极离子镀设备

一、前言反应性离子沉积是一种物理气相沉积技术。根据其工艺过程和装置的不同可分为离子镀(I.P)、反应性离子镀(R.I.P)和活性反应蒸镀(A.R.E)等多种方法。中空热阴极离子镀(H.C.D)属于反应性离子镀。它是以空心阴极性等离子电子束作为蒸发源的离子镀设备。离子镀有如下优点: 1.离子轰击对工件表面有清洗作     

真空紫外双等离子管光源

双等离子管光源是一低气压、热阴极弧光放电真空紫外(20nm—100nm)光谱光源.光源具有良好的稳定性和重复性, 在光谱辐射计量及光谱学领域的研究中有广泛应用, 它不但具有Penning光源和毛细管放电光源的优点, 而且还补充了它们的不足.     

微波诱导等离子体离子化检测器气相色谱法测定有机溶剂中的水

本文利用气相色谱仪与自行设计的微波诱导等离子体离子化检测器(MIPID)组成联用系统,以氩气为载气和工作气体,测定有机溶剂中的水,考察了各种实验参数对测定的影响。对水的敏感度可达1.5×10~(-9)g/s,线性范围是5×10~(-8)～6×10~(-5)g。对有机溶剂中水的测定结果与热导池检测器气相色谱法吻合。     

热处理新技术在提高轴承零件使用寿命上的应用(续)

一等离子弧加热淬火表面硬化技术低温(2—2.5×10~4K 以下)的等离子弧加热淬火表面硬化技术是一种有发展前途,但是还没有充分研究的表面硬化方法。苏联等曾研究等离子弧淬火对(?)15 C(?)、Y10 A、30 X(?)CA 钢的某些物理性能、力学性能和使用性能之影响。所有淬火机床是由连续焊接装置的部件组成的,并带有改进的等离子喷咀、喷咀移动机构及零件旋转机构。采用氩气和氮气作为形成等离子体的气体。等离子加热后不用专门冷却装置只是依靠热量向金属深处传递来进行冷却,等离子弧加热淬火可在工件表面形成一条宽5—6mm 的硬化带,硬化带宽度主要取决于喷咀出口处的直径;淬火带     

极高真空电离真空规

研制成功了三种结构的具有管型电子倍增器的电离规,企图解决低到10~(-14)托的压强测量问题。新型倍增器在极高真空测量中的应用,为解决10~(-13)～10~(15)托的测量难题提供了新的可能。     

氩气与氢气流量对等离子喷涂铁基非晶涂层性能的影响

以铁基非晶合金粉为原料,采用等离子喷涂技术制备铁基非晶涂层,研究了喷涂过程中同时增加氩气流量(40～80 L·min-1)与氢气流量(6～10 L·min-1)对涂层微观结构、与基体的结合强度、显微硬度、耐磨性能和耐腐蚀性能的影响.结果表明:制备所得涂层的非晶含量较高,其面积分数可达92.4％～94.8％;涂层与基体之...     

非球面透镜的离子束抛光

一、前言非球面透镜离子束抛光法是把氩(Ar)、氪(ke)、氙(Xe)等不活性气体原子在真空中(真空度10~(-2))用高频或放电等方法使之离子化,同时给以电加速(加速电压20～50KV),使其能对置于高真空中(真空度10~(-5))的抛光过的珠面透镜进行轰击,非热式地从表面对玻璃实质部份按原子的大小一一置换(亦称溅射),以10～20μm程度的球面进行修正加工来制作非珠面透镜的方法。     

等离子喷涂及优选工艺参数的新方法

正1等离子喷涂1.1氩气等离子喷涂等离子喷涂和等离子堆焊等工艺(以下统称等离子喷涂),是制造耐磨零件或修复磨损失效旧件的常用工艺,传统的等离子喷涂多以氩气为喷涂用气,称为氩气等离子喷涂。氩气在等离子喷涂时有2个作用。一是氩气在等离子喷涂枪的弧柱区热电离为等离子体,并压缩形成高温、高压、高速的等离子焰流,使喷涂粉末材料在该焰流中熔融,并高速喷涂到零件表面,形成耐磨、耐蚀等优良物理机械性能的涂层。二是氩气是惰性气体,它与各种金属均不发生化学反应,也不溶解于任     

一种宽量程对流式电阻真空规管

一、概述随着工业生产的发展,真空这门新兴的技术正广泛地应用于冶金、化工、轻纺等各个领域。因而,对真空测量也提出了高可靠、宽量程、抗污染、抗干扰、规管互换性好等要求。本文介绍的是一种宽量程金属对流式电阻真空规管。我厂制造的DJ-3型真空继电器时,成功地利用了对流式电阻真空规管的特点,测量范围为760～1×10~(-3)托,     

简易可拆式等离子炬管的研制

等离子炬管是形成ICP的核心部件,炬管的几何形状、尺寸和工作参数等,对等离子体的形成、稳定,是否节省氩气都具有重要意义。目前,国内使用最多的炬管,是烧结成的三轴同心石英炬管(即常规炬管)。等离子炬管在使用过程中,由于等离子焰炬的高温(7000～10000K)不可避免地会受到损坏(石英熔点约1600℃),而常规炬管必需具有玻工技术的人才能制作,这就给ICP—AES分析工作带来极大不便。     

快速动态真空校准装置的研制

快速动态真空校准装置由校准系统、高速数据采集与控制系统、抽气系统、烘烤系统、供气系统5个部分组成。采用快开超高真空插板阀与不同几何尺寸限流元件的组合实现标准压力建立时间在18. 12～658. 13 ms范围的调整,采用容积比为1 573. 9的下游室与上游室实现动态真空1 000倍以上的阶跃。通过ms量级稀薄气体快速膨胀过程数值仿真获得了快开阀与限流元件不同流态下随时间的流导函数,并采用动态响应特性经过优化的电容薄膜真空计(响应时间1. 07 ms)实验验证,快速动态真空校准装置校准范围10~(-1)～10~5Pa,合成标准不确定度为14%。     

VFH-100~(PT)型真空加压气淬炉正式投产使用

机械工业部沈阳真空技术研究所研制的我国第一台VFH-100PT型真空加压气淬炉,已在沈阳市标准件工具厂正式投入生产使用.VFH-100PT型真空加压气淬炉是我国八十年代的最新炉型.该炉是采用单室结构,加压、气冷.最大的装机容量100公斤,淬火最高温度1300℃.工作压力10~(-1)～10~(-4)托,冷炉最低压力1×10~(-5)托.该炉的特点是,冷却速度快,淬透性好,在空炉运行时,由1300℃冷却到65℃,其时间不超过19分钟,特别是适应于大截面尺寸风冷钢淬火.直径100毫米的高速钢棒,可以淬硬到HRC63以上.比负压淬火(650～700托)     

真空装置内部粘合接头的脱气（英文）

本文讨论了有内部粘接剂的真空装置内的残余气氛形成的动力学,以及质谱和色谱方法在测定固化胶粘剂中挥发性化合物的比气率的应用。本文给出了各种类型的胶粘剂的脱气比较数据,并证明了胶粘剂接头脱气的有效性。同时也考虑了在各种设备中提供真空的可能选项。对于残余压力(约10~(-2)Pa)的适当要求下,在几个小时内就足以对粘合剂接头进行脱气。在大约10~(-4)Pa压力下,在有内部粘合接头的装置中提供真空要困难得多,这需要使用内置的吸气剂和高温去气。在使用真空装置之前短时间(几分钟)激活内置吸气剂,在基本不通或曾经使用过的设备上提供深真空(10~(-5)-10~(-4)Pa)是有利的。这可以去除主要的残余碳氢化合物气体成分,并在一定的时间间隔内提供必要的真空水平。     

“七五”期间我国热喷涂技术的发展状况

热喷涂技术作为国家“七五”重点推广项目之一,已经在国民经济各部门得到了广泛的推广应用。无论在材料、设备、工艺和科研等方面,与“六五”相比,都有了很大的发展与提高。现分述如下。 一、“七五”期间我国热喷涂技术的发展与提高 1.热喷涂设备 “七五”期间我国研制并生产了等离子喷涂(焊)、氧-乙炔火焰喷涂(焊)、电弧、爆炸和真空等离子喷涂等系列设备,共10大类50几个品种。