大连圣迈7N系列超纯气体纯体装置

大连圣迈化学有限公司主要致力于高纯氮、氢、氩、氧、氩、氦、乙烯、丙烯等气体公司的气体终端纯化;电子材料气,MOCVD,半导体和LCD等气体纯化系统;高纯气体供应设施的安装和建造;超纯气体纯化装置;变压吸附装置。     

大连圣迈7N系列超纯气体纯化装置

大连圣迈化学有限公司主要致力于高纯氮、氢、氩、氧、氩、氦、乙烯、丙烯等气体公司的气体终端纯化;电子材料气,MOCVD,半导体和LCD等气体纯化系统;高纯气体     

供激光器用的真空泵

在小型激光器系统中，是用油封机械泵给循环的工作气体连续抽气，使其在冷却和纯化之后回到激光器。对于较大的激光器，是用罗茨泵来维持总气流，但油封机械泵仍然需要，用以提供预备真空并连续抽掉辅助气体流，以便除去不要的气体分子，使纯化后的气体以任意必要的组分返回激光器。     

不需激活复合型常温吸气剂技术

本文介绍几种用于常温、102～10-2Pa真空度条件下以及气体纯化领域的吸气剂。这些吸气剂具有不需要激活,在空气中有一定稳定性,在中低真空环境中吸气容量大等特点。这些吸气剂技术有别于常用的传统蒸散型钡吸气剂和非蒸散型吸气剂（需要一定的激活条件）。在某些特殊的无激活条件的真空领域,利用多种吸气剂技术组合,有效吸收多种或定向吸收某种气体,从而达到维持真空或纯化气体的作用。其显著特点就是无激活过程,并可以短时间内暴露在于燥空气中,在真空绝热板、气体纯化、大型工业杜瓦等领域具有广泛的应用。     

电子级高纯气体输送系统

从系统设计角度,论述了电子级高纯气体输送系统的主要设备,气体纯化器选型,输送管道、管件和阀门的材料和型式,安装施工验收的技术指标,以及微量污染的来源及控制措施等。     

二氯二氢硅终端纯化器的研制

采用化学改性的吸附剂和络合剂，能够有效地除去气体中的金属和硼、砷、磷等非金属杂质。纯化后的气体经气相色谱分析表明，化学改性的吸附剂和络合剂对二氯二氢硅无歧化作用。     

LPCVD氮化硅淀积工艺铁离子沾污研究

采用表面光电压技术研究了低压化学气相淀积(LPCVD)法氮化硅淀积工艺的Fe离子沾污.研究表明,在氮化硅淀积工艺中,NH3和SiH2 Cl2气体是Fe离子沾污的主要来源.通过对氮气进一步纯化处理、提高NH3和SiH2 Cl2气体纯度和更换传输气体的金属管路等措施,氧化工艺Fe离子沾污减少了一个数量级.     

硅烷污染

硅烷系统的弱点是易受污染。很易起反应的硅烷分子和氧、水及其它气体化合,自然地形成别的化合物。这些化合物,例如二氧化硅在系统中形成固体污染,成为测量和控制设备的许多问题的原因。亚微米尺寸的微粒能穿过滤净器或者能在滤净器的接头处形成反应。因此,问题是存在的,即使整个系统不过滤,适当使用滤净器也是有用处。污染的两个主要的原因是漏泄和没有纯化的气体。这些问题及其解决讨论如下。漏泄在纯化气体系统中不能容许接头处有漏泄。通常认为系统压力高于周围压力就可以预防漏泄流进入系统,而只能往系统外泄漏。因为硅烷系统中的氧和水蒸汽的分压力基     

大流量超纯氢气纯化设备制造技术

超纯氢气（大于6N）是半导体硅外延等工艺必备的工艺气体。文章介绍了利用超低温吸附的方法提纯大流量超纯氢气的工作原理，设备制造中的关键技术问题及难点，以及利用该技术制造的大流量超纯氢气纯化设备的使用效果。     

专业 执着 创新——记广州市维通工业气体技术有限公司

一、请问贵公司在工业气体供给业务中可为广大客户提供怎样的优质服务？维通公司专业生产性能稳定、低能耗的气体分离设备，主要产品包括：PSA变压吸附制氦机、制氧机，膜分离制氦机，氨分解制氢装置、氢氦自动配比装置以及各种工业气体纯化设备，     

用于半导体工艺中纯化气体的超高效薄膜过滤器

本文评价了用于纯化气体的超高效微粒空气过滤器(ULPA)。当使用颗粒尺寸在0.035～0.089μm的范围内的氯化钠微粒作实验,并保持压力差(压力降)为5～50磅/英寸~2时,其效率大于99.999997％。选择这个颗粒尺寸范围的原因是因为它代表了这些过滤器的最能穿透颗粒尺寸。PVDF膜过滤器(Watergard牌)的测试证明,超高效微粒空气过滤器的性能能够满足生产价值的设备的要求。     

表面光电压法研究氧化工艺铁离子沾污

表面光电压法(SPV)能精确测量硅片的Fe离子浓度,是一种快速、非破坏性的高灵敏度测试方法。采用表面光电压技术研究了氧化工艺中的Fe离子沾污。研究表明,氧气、氮气、三氯乙烯中含有的微量杂质是氧化工艺中Fe离子沾污的主要来源。通过对氧气、氮气进行进一步纯化处理、减少三氯乙烯杂质质量分数到1.0×10-8、更换传输气体的不锈钢管路等措施,将氧化工艺Fe离子沾污减少了一个数量级。     

化合物半导体芯片工艺线的特种气体供应系统探讨

随着半导体芯片产业对特种气体需求的不断增加,对特种气体安全性和气体纯度的更高要求,对特种气体的不同性质进行了分类和讨论,对化合物半导体芯片工艺线的特种气体系统进行了阐述;并对系统的重要组成单元：特种气体柜/气瓶架、特种气体分配箱/分配盘、特种气体输送管道、尾气处理器和特种气体监控系统的功能和用途进行了探讨。     

如何提高超纯气体输送系统的可靠性

国际半导体技术的迅猛发展，对超纯气体的要求越来越高，超纯气体输送系统是超纯气体的污染源，本文介绍如何减少超纯气体输送系统对超纯气体的污染。     

如何提高超纯气体输送系统的可靠性

国际半导体技术的迅猛发展，对超纯气体的要求越来越高，超纯气体输送系统是超纯气体的污染源。本文介绍如何减少超纯气体输送系统对超纯气体的污染。     

气体净化器防止工艺气体污染

即使供应商提供了最高等级的超高纯度工艺气体，fab内气体输送管道以及储存罐阀门所产生的杂质仍然会在气体进入反应腔前造成反应气体污染。而气体输送管线上的气体净化器可以解决这个问题。     

西格里集团将携全新纯化炉亮相SEMICON

在3月17—19日于上海新国际博览中心所举行的SEMICON China 2009展会上,全球最大的碳素石墨材料及相关产品供应商德国西格里集团（SGL Group The Carbon Company）不仅将向业界展示应用于半导体行业的碳素石墨产品,更会特别推出新投入使用的可达业界最高标准的石墨纯化设备。此次西格里集团在展会上特别推出的纯化炉是为了满足要求极高的半导体、光伏及光纤行业所需的一流专业的纯化部件而从国外进口的设备,并在去年10月正式投入生产。据了解,该纯化炉可纯化最大直径和高度超过一米的石墨部件,     

基于环腔光纤激光器的气体检测方法

基于内腔光纤激光器原理设计了气体检测系统,可以检测气室中待测气体的种类和浓度.在分析气体检测系统的基本构成原理基础上,以乙炔气体为例,进行了气体测试实验,并就检测灵敏度、浓度检测精度两方面分析和计算了该检测系统的性能.结果表明,基于内腔光纤激光器原理的气体检测系统重复性小于0.07,气体检测的灵敏度小于0.03%,气体检测的精度不小于0.17%.     

扩散炉管气体流动分析和流量计算数学模型

环境温度气体通过进气管进入高温扩散炉管后迅速膨胀,气体流量和流速均数倍增加;气体射流在炉尾形成的紊流区延伸到工艺恒温区范围,导致靠近炉尾恒温区的气体流动不稳定。通过放置挡板或挡片的方式可以减轻炉尾紊流区对恒温区Si片工艺的影响。根据扩散炉管内气体的流动状态和气体动力学有关参数和计算方法,推导出计算气体流量的数学模型公式,只需利用扩散炉管的基本参数就可以计算出需要通入炉管的环境温度气体流量,减少凭经验判定气体流量参数的盲目性,减少不必要的气体材料消耗。     

电站炉膛煤粉浓度调整下的声波测温技术研究

根据气体声波传输与测温原理,气体介质常数与气体介质浓度及成分有关,建立气体介质常数与气体介质浓度的相应关系对气体温度精确测量意义重大,利用自行研制的声波测温系统,测量在距离确定条件下一定空间里不同煤粉浓度下声波传输飞渡时间的相应数据,对数据进行拟合处理,得到了煤粉气体介质浓度和气体介质常数的数学模型。经验证,该模型可以将测量精度提高 6.8 ℃左右,为进一步的煤粉燃烧情况下的高温气体测量提供了理论支持。