共查询到20条相似文献,搜索用时 31 毫秒
1.
真空蒸镀法是取代传统的电镀法和热镀法的新镀层方法。神户钢铁公司采用连续蒸镀试验设备分别生产了蒸镀Zn-Al,Zn-Cr,Zn-Mg,Zn-Ni和Zn-Ti五种锌合金度层钢板,并研究比较其耐腐蚀性。 相似文献
2.
真空镀(涂)层处理的干式处理新技术在工具和金属模喷涂耐磨陶瓷涂层、眼镜等的着色涂层方面已得到广泛应用。近年来,为了将该技术应用于冷轧钢板和不锈钢板的表面处理,各公司都在进行技术开发。 过去研究成功的蒸镀法,镀层的密合性和均匀性差,无法进行深冲和弯曲加工等成形加工,而且处理成本高;等离子喷镀法,通过利用等离子,可以获得具有良好密合性和匀均性镀层,并克服了蒸镀法 相似文献
3.
真空蒸镀法是取代传统电镀法和热镀法生产镀层钢板的新工艺。目前,镀锌钢板已能用真空蒸镀法进行工业生产,但是,关于镀锌系合金钢板采用真空蒸镀法的研究还很少。 最近,日本神户钢铁公司采用连续蒸镀试验设备,并选择Al,Cr,Mg,Ni,Ti5种合金元素,试制 相似文献
4.
5.
本文介绍了在Si(100)衬底上异质外延生长超导薄膜过渡层的方法,研究了过渡层的晶体性质和表面形貌。在Si(100)衬底上外延生长的过渡层依次为Y_2O_3(110)、ZrO_2(100)和Y_2O_3(100)/ZrO_2(100)。最上层生长的即是YBa_2Cu_3O_(7-x)超导膜层,其T_c值达88K。 过渡层用真空蒸镀的方法。首先蒸镀金属钇,并以氧等离子体将其氧化,制成Y_3O_3过渡层。采用ZrO_2晶拉电子束蒸发沉积制成了ZrO_2过渡层。生长器中基础压力为1.33×10~(-5)Pa,生长过程中压力 相似文献
6.
《有色金属(冶炼部分)》1975,(12)
中国科学院上海硅酸盐化学与工学研究所的氮化硅小组,试制成功一种新型耐腐蚀、耐磨工业陶瓷——反应烧结氮化硅。反应烧结氮化硅是以普通的硅粉作原料,用一般陶瓷成型的方法制成素坯,在通氮气的炉子中将素坯进行初步氮化。经初步氮化的坯体,可在各种机床上进行车、钻、刨、铣等 相似文献
7.
《稀有金属与硬质合金》2016,(2)
利用离子辅助增强磁控溅射与蒸发镀二元组合源设备在TiCN基陶瓷刀具表面制备TiAlN涂层;为提高膜基结合力,采用蒸发镀技术预先沉积一层CrN/Cr过渡层。利用X射线衍射仪、维氏显微硬度计、洛式硬度计、摩擦磨损试验仪等设备,系统分析了CrN/Cr过渡层对涂层微观结构、显微硬度、膜基结合力及耐磨损性能的影响。结果表明,CrN/Cr过渡层的存在,使膜基结合力和涂层耐磨损性能得到大幅度提高。 相似文献
8.
据俄罗斯出版的《有色金属》月刊报道,原全苏轻金属研究院研制成一种称之为ΓРЭ(凝壳-自耗电极)熔炼法。此法的周期工艺过程是:将既科袭入坩埚;描真空;用其空直流电弧自耗电极熔炼;累积的熔体倒入铸模并冷却。这种方法的特点在于从坩埚中可得到在熔炼 相似文献
9.
对金刚石表面采用真空蒸镀方法,镀复铬与钛,达到表面金属化后,并进行热护散处理生成碳化物型的中介层。利用X射线衍射和扫描电镜等进行结构分析,并检验其在金属烧结复合体中的机械性能与使用效果。 相似文献
10.
11.
12.
陈惠琴 《有色金属材料与工程》1986,(1)
日本大阪大学焊接研究所的荒(田吉)明所长、大森明付教授等用简单的装置,使铝和氮化硅陶瓷直接以固体状态接合,且接合强度很高。该法是以金属与金属靠近时的扩散接合法为基础的固体反应接合法。具体方法如下:首先将铝和氮化硅表面弄光滑,然后在电炉内约1千气压的压力下、500~600℃,加热10分钟,这样界面形成了氮化硅层,使两者牢固地接合起来。3cm见方的试验片接 相似文献
13.
作者观察了蒸镀A1、Cu和电弧镀A1,Cu、Ti带钢镀层的表面,剖面和部分微晶形貌,研究了镀层的界面结构与组织,测定了镀层附着强度、孔隙率及择优生长倾向。观察结果表明,带钢真空镀层膜——基界面有成分过渡区,膜层附着强度良好;蒸镀层和电弧镀层都能形成致密的微晶结构,后者比前者尺寸大;高熔点金属形成的微晶尺寸小,孔隙率低;沉积温度过高会引起晶粒粗大;基板负偏压对易溅射金属有降低沉积速率的作用,并使镀层倾向于选择非密排面择优生长;真空镀A1、Ti膜有良好的耐大气腐蚀性,镀Ti膜在3.5%NaC1溶液中钝化区达3 V。 相似文献
14.
15.
16.
17.
一、高温结构用陶瓷概要日本黑崎窑业(株)的氮化硅系、碳化硅系、铝系、锫系等的精密陶瓷总称为“库罗舍拉姆”而库罗舍拉姆——N,是该公司开发的高温结构用陶瓷的氮化硅—碳化硅复合烧结体。 相似文献
18.
分别在陶瓷类ZrO2、Y2O3、BN和Al2O3坩埚内于2053K(或2153K)保温30min(或10min)重熔铌基超高温合金(主要组分为Nb、Si、Ti、Hf等),以研究该合金的高温熔体与不同材料坩埚的反应情况。实验发现Y2O3、BN和Ai2O3坩埚对熔体都发生了不同程度的沾污反应;在ZrO2坩埚壁上出现了50~60μm厚且具有微小裂纹或熔蚀坑的反应层,其内含有HfO2和TiO2,但ZrO2坩埚对熔体内部基本没有污染。在石墨坩埚上进行制备YSZ涂层的实验发现,ZrO2同石墨基体发生反应生成了ZrC0因此,据有关实验结果,可以先在石墨坩埚基体上用CVD法制备一层SiC内层,再在SiC内层上用浸涂法制备ZrO2涂层,以用于铌基超高温合金熔炼。 相似文献
19.
20.
高速蒸发结合等离子体处理是一种发展前景广阔的薄板涂镀新方法,采用这种新方法所得到的薄板镀层具有更高的耐腐蚀性和适用性。为了评估PVD(物理气相沉积)涂镀法的应用前景,用薄板、热浸镀板和电镀板进行了试验。对这些样品进行了大功率等离子体的预处理,然后用沉积速率很高(1μms^-1级)的PVD工艺进行涂镀。研究了成分和微观组织与镀层性能之间的关系,并重点关注了镀层的耐腐蚀性、耐磨性、表面磷化和涂料附着性。结果发现,用气相沉积法给镀锌板涂镀几百纳米厚的金属膜或无机膜,能在相当程度上提高它的耐蚀性。用气相沉积法给耐强腐蚀薄板涂镀钛层或不锈钢层的过程中进行等离子活化处理,能大大提高它的耐腐蚀性。最后,文章还分析了其工业应用的可行性并且评估了投资成本和生产成本。 相似文献