激光诱导环氧树脂表面液相化学局域增强沉积镍的实验研究

利用1079.5nm Nd:YAP激光作诱导光源，环氧树脂作为基体，研究了激光功率、辐照时间对激光诱导化学局域镀覆全属镍的形成过程、微观形貌、厚度分布影响规律，确定了最佳的激光工艺参数。     

PECVD技术在微结构表面沉积薄膜的复形性北大核心CSCD

采用光刻技术、刻蚀技术和等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,在线阵掩模微结构表面沉积了SiO2和Si3N4薄膜,研究了线阵掩模的宽度和厚度,以及薄膜的厚度和沉积速率对SiO2和Si3N4薄膜复形性的影响,制备得到了具有良好微结构形貌的微结构滤光片阵列。结果表明,薄膜沉积速率越大,薄膜的复形性越好;掩模厚度和薄膜沉积厚度的增加会导致薄膜的复形性变差;SiO2薄膜的复形性优于Si3N4薄膜的。