电镀用脉冲电源的应用推广

在金属表面处理中，脉冲电镀作为特种电镀的一种，日显其广泛的应用性，但脉冲电源用作电镀电源，较之于传统的电镀电源相比，由于受各种因素影响，发展起步较晚，直到20世纪90年代才被人们所广泛认识。介绍了脉冲电源的电气原理及其功有，结合生产实际,阐述了脉冲电源在电镀中推广和应用的重要性，提出了脉冲电镀在电镀行业中有着广阔的市场前景。     

高速换向脉冲电镀电源研制

综述了近年来脉冲电镀电源发展的概况，介绍了高速换向脉冲电镀电源电路及其研制情况。     

智能化脉冲电源系统的研制

脉冲电源是实现脉冲电镀的关键设备，它直接影响着镀层质量。介绍了由微机控制的智能化脉冲电源系统的组成和特点以及基本原理。运行结果表明，该系统性能良好，完全可以满足电镀生产的要求。     

直流电镀电源改装脉冲电镀电源的研制

脉冲电镀在许多方面都优于直流电镀。在国内,因脉冲电镀设备价格较高而使其推广应用受到限制。本文报告了将直流电镀电源改装成脉冲电镀电源的研制工作及其在电镀铁合金试验中的应用效果。     

脉冲镀镍

本文阐述一种由叠加电场原理设计的DJK-M脉冲电源用于镀镍的实验室试验结果.结果表明,脉冲电镀的沉积效率较直流电镀的高,采用DJK-M电源的叠加脉冲电镀更显著;添加剂含量相同的光亮镀镍液中,脉冲电镀所得镀层的光亮性好.结果还表明,脉冲电镀时的脉冲参数选择适当,可减少添加剂或光亮剂的用量而不影响镀层的光亮性.     

双脉冲电镀电源及其应用

一、前言根据《电镀与涂饰》1985年第1期,发表的"一种电镀用的新电源—Polar电源"一文提供的信息,经过两年来的研制,已生产出完全国产化的系列Polar电源.为形象化和有别于单向脉冲电镀电源起见,我们称这种新型电源为"双脉冲电镀电源".该电源经过十余家单位一年来的试验和实际应用,产生了良好的经济效益和社会效益.为引起广大电镀工作     

脉冲镀光亮镍铁合金

一、前言近年来,脉冲电镀作为一项新发展起来的技术,已充分展示出许多直流电镀所不可比拟的优越性。所谓脉冲电镀:就是在电镀过程中,采用的是脉冲电源,而不是传统的直流电源。用直流电电镀只能改变一个电参数(电流密度或电极电位)。改善镀层性能,大多是通过络合剂、添加剂来实现的。脉冲电镀在电源方面有     

SMD—A型双脉冲电镀电源的研制

前言 SMD—A型双脉冲电镀电源(周期换向脉冲电镀电源),是根据1984年国际电镀会议信息,由中科院电子所和邯郸晶光电镀设备厂联合研制的新型电源。该电源采用进口集成电路元件和高可靠大功率晶体管制成。它具有美国LWD公司周期换向脉冲电镀电源的性能。该电源可用于镀金、银、铜、镍铁、锡等及铝、钛金属的阳极化。电镀层结晶取向、阳极化的孔度可由电流参数进行控制。所以该电源在提高镀层质量(致密性、光泽、耐温、抗蚀)提高电镀速度、降低镀层内应力、提高阳极化膜耐压性、减少添加剂、节省贵金属等方面均比普通脉冲电源更优异。在实验和生产中已取得显著效益。     

脉冲电镀电源的选择和使用

即使不改变原工艺的镀液,也可以用脉冲电镀来提高电镀质量.阐述了脉冲电源的选择和使用.     

开关型脉冲电源

开关型脉冲电源集成了开关电源和脉冲电源的优点,实现了小体积、小功耗、大功率、高效率,能够更好地完成贵金属的电镀、精度零件的电解抛光,是金属表现处理电源的“新贵”。从电路原理、输出波形、工作原理等方面介绍了开关型脉冲电源的特点,就输出波形与直流电源、可控硅脉冲电源进行比较,对产生不同波形的原因及原理作了精辟论述,并立足IGBT管提出了一种大众化的开关型脉冲电源的设计方案。     

脉冲电镀发展概况

总结脉冲电镀应用于镀铬、镀铜、镀镍及镍合金 ,镀金及金合金 ,镀银及银合金 ,镀钯及钯合金的现状 ,简述了脉冲换向电流电镀 ,脉冲电镀在复合镀层和制备非晶态合金等方面的研究。     

脉冲电镀的研究现状

介绍了脉冲电镀的工作原理、特点、波形种类等．回顾了近几年来脉冲电镀在镀锌、镀铬、镀镍、镀铜、镀金、镀银及其合金等领域的应用研究现状,以及脉冲电镀在印刷电路板微孔镀铜、制造纳米晶、纳米多层膜等新兴领域的应用研究,并对脉冲电镀今后的发展前景作了展望。     

脉冲无氰镀银及镀层抗变色性能的研究

采用赫尔槽试验筛选出一种阴离子表面活性剂及含氮杂环化合物作为脉;中无氰镀银的添加剂,并初步确定了无氰镀银的工艺条件及脉冲条件一通过正交试验进一步化化脉冲条件及镀银添加剂含量分别为：脉宽1ms、占空比10％、平均电流密度0．6A／dm^2、阴离子表面活性剂及含氮杂环化合物含量分别为12mg/L、110mg/L测定了该镀银层的耐蚀性、抗变色性能及与基体的结合力,并用扫描电镜对其微观形貌进行了观察。结果表明,脉冲无氰镀银层的抗变色性能优于直流无氰镀银层;光亮镍打底后再脉冲无氰镀银,可获得更加光亮、结晶细致的镀银层,且抗变色性能及耐蚀性均增强.     

硫代硫酸盐无氰脉冲镀银工艺研究

对无氰镀银工艺进行了优选,找到一种无氰光亮镀银添加剂的配方,并对其工艺参数进行优选,得出最佳脉冲参数为：脉宽1ms,占空比为10％,电流密度为0．6A／dm^2。在最佳工艺参数下得到的银镀层镜面光亮,与直流镀银相比,抗变色性和耐蚀性均显著提高,并通过扫描电镜观察了镀层的表面形貌。     

脉冲电镀Ni－Co合金的研究

研究了脉冲参数对电沉积Ｎｉ－Ｃｏ合金镀层的钴含量与硬度的影响。确定了最佳的脉冲参数。应用Ｘ射线和扫描电镜分析了Ｎｉ－ＣＯ合金镀层的结构和形貌。比较了脉冲电流（ＰＣ）和直流电流（ＤＣ）电镀Ｎｉ－Ｃｏ合金镀层的各种性能。     

脉冲刷镀工艺的研究

介绍了脉冲刷镀设备、工艺特点及脉冲刷镀参数,通过试验对脉冲刷镀的镀层性能与直流刷镀的镀层性能作了全面的比较,脉冲刷镀镀了却镀镀层具有表面光洁度高,晶粒细致、机械性能好等优点。     

脉冲电镀铬的研究现状与展望

回顾了近年来脉冲电镀铬的技术研究现状,综述了脉冲电镀铬的特性,脉冲电镀得到的铬镀层结构不同于直流镀层,其孔隙率低,裂纹数目少,双向脉冲电镀铬可在电镀过程中不断修饰镀层表面,在特定条件下还可获得多层纳米晶结构,可大幅度改善镀铬层的抗腐蚀性能。     

镀金工艺中脉冲电镀与添加剂的相容性的探讨

在光亮镀金工艺中引入脉冲电流，选择合适的脉冲电流参数，获得满意的镀层，节约了金的用量。     

换向脉冲电镀工艺对镀镍层应力的影响

本文采用正交实验及其分析方法研究了可调周期换向脉冲电镀工艺对瓦特镍镀层应力的影响,确定了脉冲镀镍的新工艺。与相同电流密度条件下直流镀瓦特镍层的性能相比,该工艺镀出的镀层具有应力低、孔隙少、结晶细、平整度好、纯度高的特点,是解决半导体外壳外引线断裂问题的很有前途的电镀新方法。     

脉冲电沉积Co-W磁性薄膜

采用脉冲电沉积法制备Co-W 磁性薄膜.研究脉冲周期和占空比对沉积速率,Co-W薄膜的形貌、结构以及磁性能的影响.结果表明:脉冲周期与占空比对薄膜的沉积速率、形貌、结构和磁性能都有较大的影响.随着脉冲周期和占空比的不断增加,沉积速率呈现先增大后减小的趋势;而Co-W薄膜的矫顽力呈现减小的趋势.这主要是由于晶粒尺寸增大的缘故.AFM研究表明:随着占空比增大,薄膜颗粒增大,表面平整度下降,空隙率增加;脉冲周期影响薄膜表面聚集颗粒团;增大脉冲周期,该聚集团会增大.