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《真空科学与技术学报》1987,(1)
根据中国真空学会薄膜专业委员会一九七八年工作计划的安排,将于第三季度召开全国第二届化学气相沉积(CVD)学术交流会。薄膜专业委员会主持召开的第一届化学气相沉积学术交流会于一九八五年在上海举行,会议期间组建以上海复旦大学材料科学系教授王季陶同志成首的化学气相沉积(CVD)专业学组。该学组的建立和多方面多渠道 相似文献
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光化学气相沉积(光 CVD)是一种继低压化学气相沉积(LPCVD)和等离子体化学气相沉积(PECVD)之后的又一项新的低温成膜工艺。首先介绍了光化学气相沉积的物理基础,然后重点介绍了光化学气相沉积的实验方法,最后简要介绍了光化学气相沉积在薄膜制备中的一些应用。 相似文献
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本文综术了集成电路工艺的Cu布线中Cu薄膜化学气相沉积(CVD)的研究背景,详细介绍了CVD生长Cu金属薄膜的国内外研究进展及CVD对前趋物的要求,并对前趋物的一些物理、化学性质进行了总结,最后,对薄膜沉积的计算机摸拟作了简要介绍。 相似文献
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化学气相沉积铜薄膜研究进展 总被引:1,自引:0,他引:1
本综术了集成电路工艺的Cu布线中Cu薄膜化学气相沉积(CVD)的研究背景,详细介绍了CVD生长Cu金属薄膜的国内外研究进展及CVD对前趋物的要求,并对前趋物的一些物理、化学性质进行了总结,最后,对薄膜沉积的计算机摸拟作了简要介绍。 相似文献
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热致变色智能窗是通过在玻璃上沉积温度刺激响应型材料,实现根据环境温度调控窗户玻璃的太阳光透过率,减少建筑物能耗的节能窗户。二氧化钒(VO2)是一种典型的热致相变材料,在~68℃发生金属-绝缘体相变,相变前后伴随光学性能的显著变化,在智能窗等多个领域有潜在的技术应用。然而,当前VO2基热致变色智能窗的应用仍存在着相变温度(τc)偏高、可见光透过率(Tlum)低和太阳能调节效率(ΔTsol)不足等问题,无法满足实际建筑节能的需求。为了解决这些问题,研究人员开展了广泛而深入的工作。化学气相沉积法(Chemical vapor deposition, CVD)能够以合理的成本生产高质量、大面积的VO2薄膜,受到研究者青睐。本文总结了近年来利用CVD技术制备VO2薄膜的研究进展,系统介绍常压化学气相沉积、气溶胶辅助化学气相沉积、低压化学气相沉积、金属有机物化学气相沉积、原子层沉积和等离子体增强化学气相沉积等CVD工艺,分析了反应物种类及比例、反... 相似文献
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中国机械工程学会热处理学会第二学术委员会(化学热处理学术委员会),第一次会议于1985年9月16日在大连召开。会议研究同意在第二学术委员会下设立四个专业技术委员会:①渗碳、碳氮共渗技术专业委员会;②离子轰击化学热处理技术专业委员会;③气相沉积技术专业委员会;④渗金属、渗硼技术专业委员会。 相似文献
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目前,在材料的表面处理领域中,为了提高材料的耐蚀、耐摩擦、硬度高的特性,一种利用真空条件的物理气相沉积(PVD)方法引人注目。常用的在材料的表面形成薄膜的方法有电镀、涂敷、化学气相沉积(CVD)等。然而,经过电镀、化学气相沉积法处理以后,有废液、废气造成的公害问题。干式的物理 相似文献
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CVD金刚石薄膜抛光技术的研究进展 总被引:2,自引:0,他引:2
采用化学气相沉积 (CVD)方法在非金刚石衬底上沉积的金刚石薄膜 ,本质上为多晶 ,而且表面粗糙。然而 ,在金刚石薄膜的许多重要应用领域 ,如光学和电子学 ,都要求金刚石薄膜具有光滑表面 ,以便器件的制备或后续加工。本文论述了目前国际上出现的抛光CVD金刚石薄膜的主要方法 ,包括机械抛光法、热 化学抛光法、化学 机械抛光法、等离子体 /离子束抛光法以及激光抛光法等 ,深入分析了这些抛光方法的优点和不足 ,指出了今后需要重点解决的问题。最后 ,展望了CVD金刚石薄膜抛光技术的发展趋势 相似文献
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以SiC 超细粉为原料、采用热等离子体物理气相沉积( TPPVD) 技术快速制备出了高质量SiC/ C 薄膜, 最大沉积速度达到225 nm/ s, 高于常规物理气相沉积( PVD) 和化学气相沉积(CVD) 法两个数量级。用扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜和X 射线光电子谱对薄膜的形貌和微结构进行了观察和分析, 并用纳牛力学探针测定了薄膜的力学性能。研究结果表明, 向等离子体中导入CH4, SiC/ C 薄膜沉积速度增大, 薄膜中C 含量增加, 薄膜断面呈现柱状结构。薄膜硬度和弹性模量随薄膜中C 含量增加而降低, 在接触深度为40 nm 时由纳牛力学探针测得沉积薄膜的最大硬度达到38 GPa。 相似文献
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等离子增强化学气相沉积法(PCVD)是在物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)基础上发展起来的一种沉积方法。它兼有 PVD 和 CVD 方法的优点。介绍了 PCVD的原理和所研制的一台 PCVD 设备。分析了用 CVD 法和 PCVD 法制备的硬质膜的性能。所分析的性能有:显微硬度、抗弯强度、粘结牢度、机加工性能。 相似文献
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《真空科学与技术学报》1987,(6)
中国真空学会薄膜专委会化学气相淀积学组于1987年9月24~27日在无锡召开了第二届全国CVD学术讨论会。会议由学组正、副组长王季陶、蒋翔六主持。华东师范大学王济身教授专程参加会议并作了学术报告。全国各地代表68人参加了会议。学术论文共70篇。与1985年第一届全国会议相比,人 相似文献