首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 31 毫秒
1.
本文述叙真空灭弧室加强型纵向磁场的触头结构。纵向分量磁场的单位感应密度达到10MrЛ/kA。从而缩短了收缩型强电弧(1〉10kA)变为准扩散型电弧的时间,在电弧由收缩型变为准扩散型之前,电弧在整个触头表面的运动是收缩在磁场横向分量上。控制这两种强电流电弧变态可以降低触头分断速度并且在保持短路电流分断能力的情况下能成倍地提高真空灭弧室的开断次数。  相似文献   

2.
小电流真空电弧中大量存在着比正常弧压着10倍的短时(小于500ne)峰值弧压(“不稳定性”AgWC(低浪涌)和CuCr(普通)触头材料的真空工关管中出现许多不稳定的参数在变流电路中进行了统计分析,发现中等上升速率(CuCr为2.8kV/μs,AgWC为0.63kV/μs)和高幅值(CuCr为134V,AgWC为54V)上有明显的差异。这些参数很可能反映了象恢复和截流水平这样重要的开断特性。它表明截  相似文献   

3.
进行这项工作是为了说明有L-C谐振回路的综合试验电路对初步研究真空断路器的作用。这项研究试验是在36kV的真空断路器上进行的,试验电流的有效值为5-10kA, 是分清瞬态恢复电压的不同参数。如平均上升速率,峰值对开断能力的影响。  相似文献   

4.
对于横向磁场触头的真空开关管,它的弧后电流波形是在短路电流开断后,施加15kV/μs(RRRV)左右的瞬态恢复电压(TRV)来进行测量的。在电流过零后时,使电流斜率di/dt保持恒定,工频(PF)电流IPF幅值需在额定短路电流的0.5到2倍之间变化。工频电流IPF对间隙记忆的的重要影响明显反映在弧后电流在2到8μs的持续期间。根据现有的物理模型,作者给出了实验结果。实验表明记忆效应影响间隙恢复时间  相似文献   

5.
本文描述真空开关管中具有放大了的纵向磁场触头的设计。规定的级向磁场的磁感应达10mT/kA,这是大电流电弧由聚集型向准扩散型转化时间减少的缘故。触头表面的电弧运动由聚集型向准扩散型墨迹的横向磁场来控制。两种大电流电弧模型都可以降低触头分离速度。在单相实验中,直径约70mm的触头可分断25-27kA的电流,其分离速度为1.1m/s和0.8m/s,50Hz,恢复电压为35kV。  相似文献   

6.
周文明  郭秋衔 《电子技术》1996,23(10):23-24
文章叙述了一台输出电压0一100V连续可调,输出电流100mA的小型高频锯齿波发生器偏压电源,输出20—100V,电压稳定性优于±3×10-5,峰-峰值相对纹波电压优于3.5×10-5  相似文献   

7.
在过去几年里,真空开关原理在中压系统中得到了广泛的认可。当控制大电路电流的真空断路器几乎都采用CuCr25(重量%)至CuCr50作为触头材料时,用于开合较低负载电流(如接触器)的真空灭弧室所选用的触头材料还未确定,这种材料也必须满足多次开合操作下的低烧蚀、低截流值、产生高频瞬态电压的可能性以及灭弧能力好等要求。人们不仅经常采用以难溶成份为基本组分的材料,如WCu、MoCu、WCAg等,而且似乎也在使用CuCr材料。本文的目的是研究这些材料在负载及超负载条件下的开断性能。实验是在合成试验电路中利用一个真空试验室进行的。试验室的触头处于有效值达7kA的燃弧电流,峰值为23kV的瞬态恢复电压的作用下。利用扫描电子显微镜,我们比较了各种触头材料的开断能力和燃弧后的触头表面状况。  相似文献   

8.
这篇文章展示了小真空间隙(0.3MM)时,频率从5.9KHZ到60KHZ开断电流的实验研究结果。使用CuCr25制作的直径为80MM的横向杯状触头,触头两端加上阻尼正弦波电流。电流幅值为1.0-14.5KA。得出一系列相关结论:在小真空间隙中,重燃电压累积分布函数的种类与累积概率:电流频率与电流幅值,初次放电的电弧电流以及零间隙时的电流变化率对重燃电压和高频开断电流容量的影响。  相似文献   

9.
用快速成像的CCD摄像机可以研究集聚型大电流真空电弧下的阳极和阴极弧根。该研究在杯状触头上进行,采用振幅为20-100KA,半波宽度为11.5ms的正弦电流。触 头分离时,电弧被拉开,并受电弧电流与横齿形触 头产生的横向磁场之间的朗兹力作用而加速。  相似文献   

10.
用可调的分流基准,如TI的TL431,能够为如图所示的硅压传感器桥路提供恒定的电流偏置。这个电路比使用运放结合分立基准源的方法和使用恒流二极管(需温度补偿)的方法都要简单。TL431可产生一个从1mA到100mA电流范围的2.5V基准。Vref/R2的值是传感器桥路必要的恒定偏置电流,该值应按传感器制造商指定的值来设置。流经TL431的电流由R1和电源电压Vs设定,通常让它等于桥路的电流。例如,电源电压为12V时,TL431和桥路电流为1mA,并且桥路的阻抗为5K,那么R1应为2250欧姆,R2…  相似文献   

11.
本文研究了真空电弧与使其保持扩散型的纵向磁场间的关系,并得出了电弧电流与纵向磁场间的关系式。  相似文献   

12.
用分帧摄像机可以研究两个螺旋形触头间的情况。这种研究是给弧柱施加一横向磁场,并将一圆筒形的电弧屏蔽罩焊接在固定电极上。当这一固定电极和屏蔽罩为阴极时,可以观察到,屏蔽罩上的阴极斑点是通过两种途径产生的。其中一种就是只有当弧柱很强烈时才会产生阴极斑点,这种强烈的柱形电弧对阴极和阳极焊根(IARC〉25kA峰值)都有的侵蚀能力。这种情况下,当电弧弧柱沿着触头边缘被驱动时,弧驻和屏蔽罩之间会有短暂的相互  相似文献   

13.
本文描述了电流下降到零时,固定间隙为10mm的平板触头间的大电流真空电弧的三种类型:(1)集聚型--没有形成足够数量的单个阴极斑点;(2)集聚型--除集聚的阴极根外,还有大量的阴极斑点;(3)扩散型。本文指出了大电流真空电弧在转变为扩散状态之前,最具代表性的型式是在其中同时存在触头边缘附近的集聚放电和一组自激有斑点。同时,也测量了从集聚型真空电弧向扩散型真空电弧转变的临界电流。  相似文献   

14.
本文研究了通过脉冲等离子源触发的真空触发时(简称TVS)的起动特性,等离子源通过辅助RL线路与TVS的主阴极连接,相对于流过放电电流的主阴极,R线路调节了等离子源了电位。等离子(通过触发装置产生的)与阴极间出现的击穿现象的条件已确定。根据获得的数据,完成了TVS起动特性作为RL线路参数的函数,当起动的范围从1变到12KV,放电电流上升率为5.10^10A/S,电流达4KA,触发电流为90A时,测得  相似文献   

15.
本文介绍了一种对真空微电子器件进行电特性数值模拟的有限差分法。计算了场致发射电流与锥体的曲率半径r_(tip)、锥体半角度θ_(1/2)、栅孔半径r_g和锥体高度h的依赖关系。栅压V_g=100V,锥体发射阴极对曲率半径r_(tip)、栅孔半径r_g的电流灵敏度分别是3.7×10 ̄7A/nm和1.1×10 ̄3A/μm。  相似文献   

16.
MAX743是MAXIM公司近年推出的DC-DC转换器集成电路,它包含了所有构成小型、双路输出电路所需的电路。MAX743可将4.5V~5.5V的电压转换成±12V或±15V电压,并可相应提供±125mA或±100mA的电流。由于AMX743具有内部...  相似文献   

17.
WJW-5kVA全自动交流稳压电源的原理与维修邵寨祖,周爱民WJW-5kVA全自动交流稳压电源有以下几个特点:1.它克服了一般(ZJW系列)自动交流稳压器在电网电压波动时,切换期内瞬时失电的缺点。2、有过压和欠压保护、报警,当输入低于145V、输出低...  相似文献   

18.
本文对电极分离时小电流直流真空电弧的产生过程及其寿命进行了试验、研究。试验中采用铜电极,电弧电流定为小于50A。试验中测量出了在电弧产生过程及燃弧期间电极的电压和电流的波形。测量结果表明:电弧寿命与电弧电流和直流源输出电压有关。可以看出,为了产生电弧,在电极分离时,电极间必须有一个大于某临界值的电压。电弧产生后,电弧电压电一个大约20V的直流电压和一个高频交流电压迭加组成。而电弧电流的同一个直流电流与一个高频交电流合成。在此次试验条件下,电流寿命很短,不到Is,但它会随着电弧电流和电流源输出电压的增大而增大。  相似文献   

19.
利用金属蒸汽真空弧(MEVVA)离子源引出强流Ti离子注入单晶硅,当MEVVA源引出电压为40kV,束流密度达到100μA/cm2,Ti离子剂量为5×1017/cm2,Ti离子注入单晶硅可得到C54-TiSi2的注入层,且薄层电阻低于3.0Ω/□.本文用束流热效应讨论了形成硅化物的机理.  相似文献   

20.
秦明  黄庆安  魏同立 《电子学报》1996,24(8):115-117
本文首次利用硅片直接键合(SDB)技术实现了具有一定真空度的自封闭硅微二极管.实验测得该40×40阵列场发射二极管的开启电压只有5V左右,发射电流在25V时可达10-4A量级.文中还对键合形成的微真空腔的机理进行了详细的分析.  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号