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科学技术和现代工业的发展,对摩擦、磨损、腐蚀和光学性能优异的先进材料的需要日益增长,这导致了整个材料表面改性技术的发展与进步。其中等离子体表面改性技术发挥了重要作用。 1.等离子体的物理概念 等离子体是一种电离度超过0.10%的气体,是由离子、电子和中性粒子(原子和分子)所组成 相似文献
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等离子体技术在金属材料表面改性中的应用 总被引:6,自引:0,他引:6
介绍了等离子体的有关概念及其在材料表面改性的基本原理,阐述了低温等离子体技术在金属材料表面改性中的应用研究,探讨了该技术在金属材料表面改性中的应用前景及其存在的问题。 相似文献
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等离子体浸没离子注入技术的应用与发展趋势 总被引:1,自引:0,他引:1
随着工业现代化和武器装备的发展,对各种机械设备零件的表面性能提出了越来越高的要求。一些在高速、高温、高压、重载及腐蚀介质等条件下工作的零件,往往因其表面局部损坏而使整个零件报废,最终导致设备和装备的停用,为此表面工程技术受到了人们的极大重视。 相似文献
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本文综述了国内外离子束金属材料表面改性技术的研究概况,叙述了离子镀,离子注入,离子束混合,离子束增强沉积和等离子体浸没离子注入等表面技术的特点和应用。 相似文献
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离子束金属材料表面改性技术 总被引:3,自引:0,他引:3
本文综述了国内外离子束金属材料表面改性技术的研究概况,叙述了离子镀、离子注入、离子束混合、离子束增强沉积和等离子体浸没离子注入等表面技术的特点和应用. 相似文献
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38CrMoAl钢等离子体源离子注入表面改性研究 总被引:3,自引:2,他引:1
对38CrMoAl钢等离子体源氮离子注入层的氮浓度俄歇部面分布,显微硬度和摩擦性能进行了研究。结果表明,注入层的显微硬度和摩擦性能得到明显改善。 相似文献
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采用等离子体对PTFE织物进行表面改性,通过接触角测试、顶破强力、剥离强度和摩擦磨损寿命试验研究等离子体表面改性对PTFE织物亲水性、PTFE织物自润滑衬垫整体强度、剥离强度和摩擦磨损性能的影响。试验结果表明:等离子体表面改性后PTFE织物与水的接触角由135.9°降至91.8°,树脂对织物的浸润效果得到了改善;等离子体表面改性后PTFE织物衬垫的平均顶破强力为未处理衬垫的1.59倍;平均剥离强度为未处理衬垫的2.07倍;平均摩擦磨损寿命为未处理衬垫的1.66倍,衬垫的整体强度和耐磨性均得到了提高。 相似文献
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略论离子注入表面改性技术的进展 总被引:3,自引:0,他引:3
介绍了离子注入表面改性技术的基本原理、工艺特点、研究现状和工业应用情况。较全面地探讨了该技术的发展趋势和应用,提出了庆继续改进和发展设备以进一步改善其效能,降低注入成本,并采取取合适的产来政策。 相似文献
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荣烈润 《机械工人(热加工)》2012,(7):15-17
材料的表面处理在现代工业产品中已显得越来越重要,尤其是对金属材料的表面强化处理在机械制造产业中显得尤为迫切。为此,人们研发了多种表面处理技术与工艺来改善材料的表面性能,以满足日益增长的需求。由于激光具有良好的可控性及可重复性等特点,从20世纪70年代起, 相似文献
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超精密平面光栅编码器位移测量技术是32~7nm节点浸没式光刻机的核心技术。通过分析浸没式光刻机平面光栅位置系统的需求和布局,提出了光刻机专用超精密平面光栅编码器的基本需求。针对现有的光栅编码器,开展了基本测量光路方案、相位探测方案、分辨率增强光路方案、离轴/转角允差光路方案、死程误差抑制光路方案的综述分析,提出了现有设计方案面向光刻机应用所需要解决的关键问题。面向亚纳米级测量精度的需求,针对光栅编码器的仪器误差,对周期非线性误差、死程误差、热漂移误差和波前畸变误差进行了综述分析,提出了平面光栅编码器实现亚纳米精度所需要解决的关键问题。本综述为光刻机专用超精密平面光栅编码器的研制提供了参考。 相似文献
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光刻机浸没液体控制系统的研究现状及进展 总被引:1,自引:1,他引:0
浸没式光刻机是目前在45 nm以下IC生产线上唯一获得应用的新光刻装备.浸没控制系统是浸没式光刻机的核心子系统之一,用于在最后一片投影物镜和硅片之间,提供并维持具有高度洁净度与稳定性的缝隙流场,利用高折射率浸没液体,提高光刻分辨率.介绍浸没控制系统的技术背景、组成及其特点,论述国外在液体浸没方式、液体动态密封、流场检测与控制、曝光热效应和气泡控制等关键技术方面的研究成果以及国内自主研发的进展.针对浸没式光刻机向着更高光刻分辨率和更高生产率不断延伸的特点,对浸没液体控制系统的发展前景进行展望,指出其发展中面临的挑战与有待解决的关键技术,浸没液体控制系统将在浸没式光刻机的发展过程中继续扮演着重要角色. 相似文献