共查询到19条相似文献,搜索用时 46 毫秒
1.
2.
利用ICP-AES测定锰铁中微量硅和磷的方法,确定了硅和磷元素的检出限.结果表明,该方法准确快速简便,稳定性好. 相似文献
3.
通过优化配料,选择合理的送电参数及渣型,调整入炉P/Mn比,采用矿热炉生产低磷(P≤0.15%)低硅(Si≤1.5%)高碳锰铁,质量稳定,效果良好,满足了客户需求。 相似文献
4.
热力学分析表明,以氧化钡为主的脱磷剂,在满足扩散动力学的条件下,温度愈低,脱磷率愈高;硅含量愈低,愈有利于脱磷;碳含量降低,锰活度将增加,不利于氧化脱磷和保锰。碳含量高将抑制钙的还原脱磷作用。对高碳锰铁,宜采用氧化脱磷。对精炼锰铁,宜采用还原脱磷。 相似文献
5.
6.
7.
通过对新钢锰铁高炉实际生产数据的统计分析,得到了高炉利用系数、综合焦比与综合冶炼强度、休风率、焦炭负荷、入炉品位、锰回收率的两组多元线性回归方程式,并通过计算标准回归系数确定了各因素对高炉利用系数、综合焦比影响程度的顺序.为今后高炉锰铁生产预测、决策和调控提供了依据. 相似文献
8.
应用硅钼蓝光度法对锰铁中硅含量的测定进行了研究。试样经硝酸溶解后,在0.1~0.6 mol/L的酸度下,硫酸铝络合氟离子,硅酸与钼酸铵生成硅钼杂多酸,再用草酸—硫酸亚铁铵还原成硅钼蓝,在680 nm波长条件下进行比色分析。试验结果表明,方法测定结果与重量法测定结果相吻合,方法简便、快速,测定范围达到0~2.0%。 相似文献
9.
采用纯铁作为锰铁合金的稀释剂,经高频加热熔融,离心浇铸成块状样品,建立了离心浇铸制样-X-射线荧光光谱法分析锰铁中锰、硅、磷的方法。在陶瓷坩锅中插入石墨坩埚,避免了陶瓷坩锅材料污染测定组分,该制样方法能有效克服铁合金存在的矿物效应和颗粒效应。试验结果表明,块状样品表面不同部位及不同深度的化学成分分布均匀,相同熔融条件下的样品重复性良好,解决了用粉末压片制样对测定结果带来的误差。Mn,Si,P的线性范围分别为70.47%~84.28%,0.43%~1.51%,0.15%~0.34%。方法用于测定锰铁中Mn, 相似文献
10.
锰铁试样以水和硝酸于铂黄坩埚中溶解并蒸干,加入Co元素为Mn元素内标,以四硼酸锂为熔剂、溴化钾为脱模剂,熔融制作玻璃熔片,在X射线荧光光谱仪上测定锰、硅和磷的含量。本法采用少量水浸润试样并滴加硝酸溶解的试样前处理方法,可保证溶解反应温和且不致试样扑溅损失,有效避免了锰铁熔融过程中坩埚腐蚀问题。同时采用大稀释比、内标法减少了基体干扰。对不同生产单位的标准样品进行测定,测定值与认定值相吻合,各元素测定结果的相对标准偏差(n=11)为0.25%~1.9%。 相似文献
11.
12.
根据工业硅炉熔池的结构,确立了高硅合金生产中的内、外反应区,简化并确定了工业硅生产过程的化学反应及传质与内、外反应区的特征,分析了在原料理想条件下的理论配碳率与硅回收率的对应关系。 相似文献
13.
14.
15.
16.
新余锰铁高炉炉料结构改进探讨 总被引:1,自引:1,他引:0
简介了我国锰铁高炉炉料结构及生产概况,根据合理炉料结构条件对新余锰铁高炉炉料结构进行了分析,并就其炉料结构的改进措施进行了探讨。 相似文献
17.
低碳低硅铝镇静钢的夹杂物控制工艺计算与分析 总被引:2,自引:0,他引:2
围绕低碳低硅铝镇静钢的可浇性问题,以大量的生产数据及现场实际生产状况为计算依据,对出钢终点[O]、夹杂物数量、精炼终渣渣量等进行了工艺计算分析。分析认为:在保证转炉出钢[C]小于0.05%的同时终点[O]控制在600×10-6~900×10-6较好,与之对应的精炼终渣渣量控制15 kg/t钢~18 kg/t钢为宜,渣中铝脱氧产物约合3.25 kg/t钢~3.88 kg/t钢;此时可将低碳低硅铝镇静钢的精炼终渣渣系控制在较佳的范围,渣中w(Al2O3)在18%~25%,碱度R(CaO/SiO2)在4.5~5.5,对脱除钢中夹杂物、控制钢水回硅、保证钢水可浇性意义重大。 相似文献
18.
锰硅、锰铁合金中有部分样品夹杂有碳化硅,在化学分析锰硅合金中硅时,采用氟硅酸钾滴定法和钼蓝光度法时因碳化硅未被分解,从而导致结果偏低,锰铁合金一般采用高氯酸重量法,碳化硅被分解,分析结果较为准确。在荧光粉末压片法分析时,由于碳化硅的激发增强效应,致使硅检测结果偏高。本文通过实验确定了修正方法,消除了夹杂碳化硅对硅元素的影响,确保了检测分析结果准确。 相似文献
19.
采用计算机最优化技术结合实验方法研制了模铸硅钢保护渣,生产应用表明,新型硅钢保护渣对提高硅钢高牌号比起到了积极的促进作用。 相似文献