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类金刚石膜的结构与性能研究 总被引:8,自引:2,他引:8
用激光Raman谱和XRD谱对用直流-射频等离子体化学气相沉积法制备的类金刚石膜的结构进行了分析,并研究了工艺参数对膜的沉积速率,内应力和直流电阻率的影响,结果表明,类金刚石膜是由sp^2和sp^3键组成的非晶态碳膜,当负偏压高于300V时,膜中sp^3/sp^2键的比值随负偏压的升高而降低,类金刚膜的沉积速率与负偏压Vb的成正比,膜内存在1~4.7GPa的压应力,随负偏压的升高而降低,膜的电阻率 相似文献
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液相沉积类金刚石膜的沉积机理研究 总被引:2,自引:0,他引:2
根据电化学的相关理论,提出了钛合金表面液相沉积DLC膜的反应机理,给出了可能电极过程,认为膜是通过甲基阳离子的亲电取代反应而不断生长。讨论了氢原子对金刚石结构的稳定作用,并解释了实验条件对膜结构和性能的影响。 相似文献
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类金刚石膜的实用化现状与今后展望 总被引:3,自引:0,他引:3
DLC膜是一种类似金刚石的非晶碳膜,具有优异的摩擦学性能,被应用于有高耐磨性和低摩擦要求的机械零件.已开发出多种DLC膜沉积工艺.近年来,DLC膜可在多种材料上沉积,应用范围正在扩大.在承受高负荷的摩擦学领域,DLC膜现可应用于切削刀具.DLC膜可应用于易被热能损伤的橡胶或高分子基体.从保护地球环境的观点出发,应开发可用于汽车部件的DLC膜以改善燃油经济性.此外,除了摩擦学用途外,还开发出诸如高分子材料阻气层的新应用.本章对DLC膜的新用途和新研究作了评述. 相似文献
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探讨了液相沉积法制备类金刚石的新工艺,并采用XPS,Raman光谱和SEM等对所得膜的结构进行表征,证实所得的是类金刚石膜。液相沉积得到的类金刚石膜与钛合金基材之间具有较强的结合强度,并具有较低的摩擦系数和一定的耐磨损能力。 相似文献
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荷能粒子在类金刚石膜形成中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
类金刚石膜由于其优异性能和广泛应用已引起越来越多的研究兴趣。尽管各种化学和等离子体辅助CVD和PVD技术已用来沉积类金刚石膜(DLC膜),但其形成机理仍不清楚。本文通过分析荷能离子的作用,应用热峰效应和离子刻蚀效应来解释DLC膜的形成。 相似文献
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采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD),在Low-E玻璃表面沉积类金刚石(DLC)薄膜作为保护层,通过耐洗刷试验和耐酸腐蚀试验研究了DLC薄膜对Low-E膜系的保护作用;同时对镀DLC薄膜的Low-E玻璃进行热处理,研究热处理后Low-E玻璃膜层结构、低辐射性能和光学性能的变化;然后通过摩擦磨损实验对镀DLC膜提高Low-E玻璃耐洗刷的原因进行分析。结果表明:DLC膜能够有效提高Low-E玻璃耐洗刷性和耐酸腐蚀性;并且DLC膜可以通过热处理去除,且热处理后的Low-E低辐射性能和光学性能未受到影响;一定厚度DLC膜能够有效降低Low-E玻璃摩擦系数,是提高Low-E玻璃耐磨性的主要原因。 相似文献
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本文主要介绍了用微波等离子体化学气相沉积法(以下简称MP CVD法)以甲醇-氢气混合气和丙酮-氢气混合气为源气体,分别以单晶硅的(111)面和人造金刚石的(100)面为衬底材料,制备出了面积为20mm×20mm厚为10μm的多晶金刚石膜和面积为1.0mm×1.0mm厚为5μm的单晶金刚石膜。通过试验发现,源气体配比和衬底温度对薄膜质量起决定性作用。另外,衬底在反应腔中的位置对薄膜的生成也有很大影响。单晶金刚石膜制备过程中衬底金刚石的晶体取向与金刚石薄膜的生长及质量有密切的关系。在金刚石的(100),(110)和(111)面上分别获得了单晶金刚石膜和金刚石多晶粒子。选用扫描电镜、显微激光拉曼、反射电子衍射对多晶金刚石膜及单晶金刚石膜的性能进行了测试。 相似文献
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