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用提拉技术并用经济的Pt-Rh坩埚代替高价的Ir坩埚能成功地生长了直径2.5—3.0吋长约4—5吋的大的“SAW级”LiTaO_3单晶.由于坩埚中的Rh杂质使生长的晶体呈深褐色到浅黄色.测定了光吸收、Rh杂质浓度和生长状态之间的共系并进行了讨论,并与Ir坩埚生长的晶体作了比较.从组分变化、SAW特性的再显性、器件制作的适用性等方面断定生长大晶体比较经济,这种晶体的质量可满足SAW器件的应用 相似文献
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用LiTaO_3单晶片制成了诸如SAW电视中频滤波器、电视广播发射机残余边带滤波器及用于视频磁带录像调谐器的SAW谐振器等多种SAW器件.这些器件现已投入批量生产和实际应用.它们的突出特点是温度稳定性好、传输损耗小、杂波响应小、重复性可靠性高并且适于批量生产.这一些远优于用其它材料作基片的器件,能很好地满足信息处理和通讯系统电子线路设计的要求.在这些成就中,在X切LiTaO_3晶体基片上发现的一种传输方向以及SAW级的LiTaO_3单晶生长技术的改进都起了极重要的作用.当SAW在X切的基片上沿旋转Y112°传播时,体波响应可抑制到-40分贝以下并且有很低的温度系数(~18ppm/℃)和适当的耦合系数(K~2约为0.75%).用铂铑坩埚和提拉技术沿X轴生成的SAW级的LiTaO_3单晶长达130毫米,直径达62—75毫米. 相似文献
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用Sawyer电滞电桥测得了室温下LiTaO_3单晶的电滞回线,由此算得自发极化强度P_s=50±25μC/cm~2,矫顽场强E_o=1.8×10~4 V/cm。测量了用提拉法生长的LiTaO_3单晶的介电常数、介电损耗和热释电系数。测量结果表明,LiTaO_3单晶的介电损耗tanδ可以低达3×10~(-4),适用于制作热释电红外探测器。极化条件对热释电系数的影响很大,极化良好的晶体在室温下的热释电系数为2.2×10~(-8)C/cm~2·K。 相似文献
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拉制大直径LiTaO_3晶体,必须要低温梯状态的热场。本文叙述了高频感应加热对坩埚形状、后加热器、热反射罩、保温材料等的选择与设计。用园柱形坩埚、Pt-Rh反射罩及辅助加热环,能获得比较理想的低温梯状态的热场,成功地生长出φ42×55毫米、重约700克的大的LiTaO_3单晶。 相似文献
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根据热电器件的理论分析,减薄晶片厚度将提高器件性能。我们提出了用薄钽箔在熔融的LiNO_3中,加阳极电压进行电化反应获得LiTaO_3薄膜的设想,并用4~5微米钽箔电化反应形成了11.5~14.5微米厚的以[110]为择优取向的多晶LiTaO_3薄膜。x光衍射物相分析表明薄膜的粉末与单晶LiTaO_3粉末类同。随钽箔的减薄,LiTaO_3膜有进一步减到几微米的可能,而无需衬底,也有获得大面积厚度均匀的薄膜的可能,且具有工艺简单、经济等优点。在110℃用斩波极化方法使膜初步获得极化,做成器件后,测得D~*(500K,60,1)为5.5×10~6厘米.赫~(1/2)/瓦。讨论了反应机理及影响薄膜择优取向的因素,提出了改进工艺进一步提高器件性能的途径。 相似文献
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通过热释电 LiTaO_3单晶与硅 CCD 结合研制成功64×32室温工作的CCD 红外图象传感器。LiTaO_3晶片用液态甘油粘附在硅 CCD 上,控制 MOS 栅的电荷注入。液态甘油介电常数大、热导率小、绝缘强度高。该 CCD 具备红外响应的基本特性,以其作了简单的摄象试验。 相似文献
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使用廉价的Pt/Rh坩埚代替贵重的铱坩埚,用提拉法能成功地生长出大的“表面波级”单晶,直径可达2.5~3.0英寸,长4~5英寸。由于坩埚中铑杂质的原因,长出晶体的颜色是从深褐色到浅黄色。对于光吸收、Rh杂质浓度和生长情况之间的关系进行了研究和讨论,并与从铱坩埚生长晶体的情况进行了比较。为了用廉价生长的大单晶做器件,所以对晶体组分的变化,表面声波(SAW)性质的重复性和可靠性进行了检验,发现这种晶体非常适合于SAW器件的应用。 相似文献
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通过使样品在某一温度梯度的条件下结晶的办法可制造出具有定向排列微晶结构的Li_2O—SiO_2—B_2O_3系统的玻璃陶瓷。本文报道了这种玻璃陶瓷的压电和机电性质。该系统的某些组成显示了出具有比LiTaO_3单晶更优良的谐振频率温度系数。文中还阐述了制造玻璃陶瓷压电振子的优点及把它们用于声表面波器件的可能性。 相似文献