电沉积金基镀层的性能

在镀金溶液中添国啊锑，钴，铟３种离子，研究了电流密度，离子配比量对沉积层的硬度及耐磨性的影响，讨论了了各种离子对沉积层性能的作用机理。     

电沉积非晶Fe-P合金镀层强化机理的研究

制备出了超硬Ｆｅ－Ｐ合金镀层,通过Ｘ－射线衍射和穆斯堡尔谱对镀层的显微结构进行了分析,着重探讨了镀层的强化机理。     

Ni-P非晶镀层的性能及其应用

概述了Ni-P非晶镀层的物理及化学性能.分析了这种镀层的硬度、耐磨性、微动磨损性能其及影响因素,讨论了Ni-P非晶镀层的应用.     

电沉积Ni-P非晶纳米SiC复合镀层的工艺研究

为了提高非晶镀层的硬度,在Ni-P镀液中加入高硬度、高耐磨性的纳米微粒SiC,采用电沉积方法制备了Ni-P非晶纳米SiC复合镀层.研究了工艺温度、电流密度和镀液中SiC浓度对非晶纳米复合镀层中P含量和SiC纳米颗粒分布的影响,并用扫描电镜对镀层表面进行了观察,通过纳米显微力学探针测量了镀层硬度.结果表明:随电流密度增大和镀液中SiC含量的增加,镀层中纳米SiC的复合量增加;镀液温度在60℃时,镀层中SiC含量最大,复合镀层的硬度显著提高,可达到7.4 GPa,比普通的Ni-P非晶镀层大为提高.     

电沉积非晶态Cr-C合金镀层结构变化对硬度的影响

采用电沉积非晶态Cr-C合金技术，获得了镀态硬度为1100HV的高硬度镀层。X－射线衍射分析和扫描电镜结果表明，镀层在镀态具有较高的硬度是由于镀层的非晶态Cr-C合金结构。热处理温度在500℃以下时，镀层硬度随温度升高而升高，是由于Cr的微晶化和Cr7C3、Cr23C6等金属间化合物析出的结果。500℃以上，镀层表面因高温氧化部分塌陷并呈疏松状态，镀层硬度迅速下降。     

电沉积铁镀层沉积织构的研究

主要了在不同的电镀工艺条件下,电沉积层的微观组织特点及织构演化规律。对镀层中的应力状进行了分析,将应力对织构形成的影响因素加以充分考虑,并在此基础上当地了纯铁镀层中的丝织构的形成机理。同时研究了表面能对沉积织构的影响。     

Cu-Ni-P合金的电沉积及镀层性能

目前,少有Cu-Ni-P合金电沉积的研究报道,为此,采用电沉积法制备了Cu-Ni-P镀层,通过循环伏安法考察了铜在Cu-Ni-P镀液中的电化学行为,在此基础上,采用恒电位电沉积法在柠檬酸体系中制备了Cu-Ni-P三元合金镀层,并对镀层的形貌和硬度进行了表征。结果表明:不能单独与铜共沉积的非金属元素P,在一定的工艺条件下,通过在有铜离子的溶液中与镍的诱导共沉积,可以与铜形成Cu-Ni-P合金镀层;Cu-Ni-P合金镀层形貌良好,硬度比Cu镀层有显著提高。     

热处理对电沉积Ni-W合金镀层组织结构、硬度及耐蚀性的影响

为了提高直流电沉积Ni-W合金镀层的显微硬度,改善其耐腐蚀性能,对镀层进行了热处理,研究了热处理温度和时间对镀层组织结构、硬度及耐蚀性的影响.结果表明:在一定的温度和时间范围内对镀层热处理可较大提高其硬度和耐蚀性;500℃保温1 h热处理后镀层的综合性能最好,显微硬度最高,可达1 010.44HV,且在3.5%NaCl...     

电沉积Co-Ni合金镀层结构及硬度的研究

采用氨基磺酸体系电解液电沉积Co-Ni合金，研究了电解液中钴、镍金属离子浓度与合金镍层中钴含量的关系。利用扫描电子显微镜和X射线衍射分析测定了不同钴含量沉积层的微观形貌和晶体结构，同时研究了合金沉积层显微硬度和合金成份的关系及热处理的影响。实验结果表明：电解液中Co^2 /(Co^2 Ni^2 ）在0.1-0.5的范围内时，钴离子的优先共沉积的趋势最强。SEM观察结果和XRD分析测试表明，随着钴镍合金沉积层中钴含量的不断增加，低钴含量合金层粗大的颗粒状结晶逐渐转变为细致、均匀的三角形状结晶，最终又形成中等大小的颗粒状结晶。同时合金层中钴含量的逐渐增加，结构由fcc镍固溶体过渡为fcc的钴固溶体，最后转变为hcp的钴固溶体。并且在形成两个钴固溶体的钴含量范围内（20％－50％和60％－80％），所对应的钴镍合金层的硬度值远大于低钴含量区所具有fcc镍固溶体结构的合金层硬度。     

电沉积锌基复合镀层的研究现状

综述了近几年国内外用电沉积方法制备锌基复合材料镀层的工艺及应用情况 ,对一元锌基复合镀层和二元锌基合金复合镀层的电镀工艺和特点作了较为详细的论述 ,并指出了尚存在的问题及今后的研究方向。     

脉冲电沉积Ni／纳米SiC复合镀层硬度的研究

采用直流和脉冲电镀法制备Ni／纳米SiC复合镀层，用显微硬度计测试了镀层的硬度。实验结果表明，在同一电镀液中，脉冲电镀得到的Ni／纳米SiC复合镀层比直流电镀获得的Ni／纳米SiC复合镀层结晶更细致、硬度更高。     

低能离子束轰击对非晶Ni-P薄膜组织与性能的影响

用X－射线衍射仪（XRD），俄歇电子能谱分析仪（AES），电子探针（EPMA），差示扫描量热仪（DSC）和超微显微硬度计研究了低能氮离子束对非晶Ni-P合金镀层进行轰击的晶化规律，分析了在低能氮离子束作用下的非晶薄膜的组织结构和显微硬度，结果表明，用能量为3．0－4．0keV，束流为80－200mA的低能氮离子束对非晶Ni-P镀层进行轰击，镀层中可以晶化析出Ni和Ni3P相，并在Ni(111）晶面上出现择优取向。随低能氮离子束的轰击能量和束流的增大，Ni-P非晶镀层中Ni和Ni3P的晶化温度下降，束流对晶化温度的影响比加速电压的影响大。载能粒子对非晶薄膜的作用，产生氮离子注入效应，使表层的含氮量增加。随束流的增加，显微硬度增加减缓，而随氮离子束加速电压增加，显微硬度增加明显，在4000V加速电压的氮离子束轰击下，显微硬度达到HV2131，比一般退火晶化方法所得到的显微硬度显著提高。     

电沉积非晶态镍—磷合金镀层的性能及其应用

用电沉积方法研制了一种新型的Ni—P(含P9～11％Wt)合金镀层，通过X谢线检定其结构为非晶态，大量的性能试验表明，此镀层具有较优异的物理化学性能，可广泛应用于各种腐蚀性介质中，延长了使用寿命，经济效益显著。     

非晶Ni-Mo-P化学镀层的应力和抗腐蚀性能

研究了非晶Ni-Mo-P沉积层的应力、成分及气孔率，它们对镀层在5％NaCl中的抗腐蚀性能的影响。同时研究了气孔、应力产生的原因。研究结果表明：在合适的Na2MoO4浓度及pH值下获得的非晶Ni-Mo-P沉积层具有最佳抗腐蚀性。随着镀液中Na2MoO4含量的增加，镀层应力很快从压应力向拉应力转变，镀层的气孔率增加。当Na2MoO4浓度大约为0．05g／L时，容易获得低孔隙率、低应力的非晶镀层。镀层气孔率，应力增加，镀层的耐蚀性显著降低。试样的长期腐蚀抵抗主要取决于镀层的应力．短期腐蚀抵抗则取决于镀层的气孔率。镀层具有低应力无气孔时，非晶镀层中Mo的含量越高，镀层在5％NaCl中的抗腐蚀性越好．而P含量的变化对镀层抗腐蚀性能无明显影响。镀层的应力采用X射线应力仪测定，并通过观察试样在5％HCl中浸泡25d后的外观进一步验证。采用浸泡腐蚀测试、硝酸变黑腐蚀测试、气孔率贴滤纸测试及电化学腐蚀测试技术对比研究了沉积层的腐蚀行为．     

铝合金基电沉积Ni-SiC复合镀层的结构及耐磨性研究

利用X射线衍射技术，分析了Ni-SiC复合镀层的微观结构，同时对镀层的耐磨性能进行了研究，结果表明，（1）Ni-SiC复合镀层的结构为晶态，SiC微粒的嵌入不改变其组织结构，经过500摄氏度，2h热处理后，产生新相Ni3Si，使镀层性能下降；（2）在300摄氏度，2h热处理条件下，Ni-SiC复合镀层体积比磨损量分别是硬Cr镀层和纯Ni镀层的31％和11．6％。     

喷射电沉积Ni-Al2O3纳米复合镀层的组织及性能

利用喷射电沉积工艺制备了Ni-Al2O3纳米复合镀层,分析了纳米Al2O3颗粒添加量、阴极电流密度以及电解液喷射速度对复合镀层中纳米颗粒含量的影响,采用扫描电镜(SEM)以及X-射线衍射仪对复合镀层的微观形貌进行了分析,研究了复合镀层中纳米颗粒含量对其显微硬度、结合强度、耐腐蚀性的影响。结果表明,镍沉积层具有纳米晶微观结构,平均晶粒尺寸约为50nm;纳米Al2O3颗粒在沉积层中的含量可达12.2at%;随Al2O3含量的提高,镀层显微硬度逐渐提高,结合强度和耐腐蚀性先提高后有所降低。     

热处理对电沉积Fe-Ni-S非晶合金结构与性能的影响

以硫脲为硫源、硼酸为缓冲剂、柠檬酸三钠为络合剂及糖精和1,4丁炔二醇为添加剂的酸性镀液中电沉积了Fe-Ni-S非晶合金薄膜。采用差示扫描量热(DSC)、X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)研究了该合金的晶化行为和表面微观形貌。结果表明,镀态Fe-Ni-S合金呈非晶态结构,250℃热处理出现了Fe_7Ni_3(I_(mam))微晶,320.4℃开始晶化出现NiS(R_(3m))相和FeNi_3(P_(m3m))相,417.9℃下大量晶化生成NiS(R_(3m))相和FeNi_3(P_(m3m))相,500℃时合金完全晶化生成许多粒径约为100-200 nm均匀颗粒。研究了热处理对合金薄膜的磁性能、显微硬度和耐腐蚀性能的影响。250℃以下,随着退火温度升高,薄膜的磁性能、显微硬度和耐腐蚀性能不断提高,然后下降。250℃热处理时,合金薄膜饱和磁化强度、硬度和电化学阻抗达到最大(Ms≈1201.1 kA/m,Hv≈425.4 kg/mm~2,Z′≈400Ω),而矫顽力最小(H_C≈2.1 kA/m)。因此250℃热处理的合金镀层软磁性能最佳,耐腐蚀最好。     

脉冲电沉积纳米晶Ni-W-Cr-Nd合金镀层的性能

铬镀层具有许多优点,但对环境有严重污染。采用脉冲电沉积方法制备了含22％w,26％w,31％w和36％W的纳米晶Ni—W—Cr—Nd合金层,用作代铬镀层。通过扫描电镜、电子能谱、X射线衍射等对代铬镀层的表面形貌、成分和相结构进行了表征;利用动电位扫描、电化学阻抗技术考察了其耐蚀性能。结果表明：4种W含量的Ni—w—Cr...     

电沉积Ni-Mo-P-SiC复合镀层

采用适宜的镀液组成和工艺条件,能够得到黑色、反光率低的Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ－ＳｉＣ复合镀层。用ＥＤＡＸ测试镀层的化学成分,检测了镀层与基体的结合力、镀层的耐蚀性。结果表明：复合镀层具有较好的耐蚀性和较高的结合力。