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铝及其合金化学镀镍 总被引:3,自引:0,他引:3
1 前言 与铜相比 ,铝具有重量轻、价格低廉、可塑性好、加工成形方便等优点。因此 ,电子工业中许多微波器件、天线元件、屏蔽盒体等已趋向用铝及其合金制作。但铝比较活泼 ,表面常被一层 0 .0 1~ 0 .1μm氧化膜所覆盖 ,使电阻增大 ,影响导电及焊接 ,因此不得不采用价格昂贵的镀银工艺 ,而化学镀镍与镀银相比 ,工艺简便 ,实施容易 ,而且可以用 4 0 6 0的Pb Sn焊料及普通焊剂焊接 ,同时有较好导电性、化学稳定性。近年来用化学镀镍代替铝件电镀银应用日趋增多。本文就铝及其合金化学镀镍工艺加以介绍2 工艺流程铝件有机溶剂去油化… 相似文献
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概述了镁合金化学镀镍前处理的工艺流程(包括酸洗、活化和一步酸洗活化)、制取中间层方法(包括浸锌/铝、预镀、化学转化膜和微弧氧化)的研究现状,以及化学镀镍工艺在主盐、镀液配方、工艺条件等方面的研究进展. 相似文献
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镁合金化学镀镍工艺 总被引:12,自引:0,他引:12
研究了采用碱式碳酸镍作为镍源在AZ91镁合金表面直接化学镀镍的工艺。该工艺采用酸洗活化一步法,即经过脱脂除油,再用H3PO4、NH4HF2以及缓蚀剂处理,无需活化。通过比较3种酸洗液的应用效果,确定60mL/LH3PO4,40g/LNH4HF2,30g/LH3BO3的混合液作为酸洗液。酸洗最佳pH约为2,时间为25s。实验发现,该法较HF活化得到的镀层表面颗粒更均匀。该Ni-P镀层结合力合格,硬度可达356.7HV。讨论了热处理温度对镀层硬度的影响,结果表明随热处理温度的提高,镀层硬度也随之提高,在热处理温度为250℃时,硬度达最大。通过Tafel曲线分析得出,AZ91镁合金采用该工艺进行化学镀镍后,耐蚀性有了很大改善。 相似文献
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铝合金化学镀镍的预处理研究 总被引:7,自引:0,他引:7
通过大量分析研究,提出一种新的铝合金化学镀镍表面预处理溶液。用这种溶液进行预处理,可明显提高铝合金基体与镀层的结合力,工艺维护方便,具有推广价值。 相似文献
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镁合金的腐蚀问题已经成为制约其诸多性能发展的关键因素,提高镁合金的耐蚀性势在必行。综述了化学镀镍的基本原理,简要介绍了镁合金化学镀镍工艺的研究现状,同时概述了镁合金化学镀镍的发展趋势。 相似文献
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铝材表面化学镀镍技术 总被引:2,自引:0,他引:2
在常规铝材化学镀镍工艺基础上,提出一种在酸性化学镀镍前增加一道碱性化学预镀镍工艺的铝材表面化学镀镍新技术。介绍了其预镀镍的工艺流程与操作要点。研制了一种中等浓度的含镍、铁的多元合金浸锌液,并通过正交实验得出了浸锌最佳方案,确定了碱性化学预镀镍的最佳配方:25g/L硫酸镍,25g/L次磷酸钠,30g/L柠檬酸三钠,10g/L焦磷酸钠,10-15mL/L三乙醇胺,30g/L氯化铵。弯曲试验表明,镀镍层与铝基体结合强度很高;镀镍层SEM照片显示,镀镍层晶粒尺寸大小均匀,各晶粒间结合紧密,孔隙率低,耐腐蚀能力强。 相似文献
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化学镀镍-铜-磷三元合金工艺的研究 总被引:1,自引:2,他引:1
为提高化学镀镍-磷合金镀层的性能及获得多种性能的合金镀层以拓宽其应用范围。在化学镀镍-磷合金液中加入硫酸铜制得镍-铜-磷三元合金。研究了镀液中硫酸镍、次磷酸钠、柠檬酸钠、硫酸铜、稳定剂、光亮剂的含量以及pH值和温度等因素对合金镀层的外观、沉积速度及铜含量的影响。通过5%氯化钠溶液和10%硫酸溶液浸泡试验比较了所得镍-铜-磷合金镀层与镍-磷合金镀层以及前人制得的镍-磷合金镀层的耐蚀性,同时比较了上述镀层的其它性能。结果表明,所得镍-铜-磷合金镀层的耐蚀性、外观、结合力、孔隙率、沉积速度、硬度和耐磨性等性能优于镍-磷合金及前人制得的镍-铜-磷合金镀层。 相似文献
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45号钢表面化学镀镍磷合金 总被引:2,自引:0,他引:2
在45号钢表面化学镀镍磷合金,获得含磷10%(质量分数)的镍磷合金镀层,比较了其与2Cr13不锈钢的耐磨性及在不同腐蚀介质中的耐蚀性,结果表明,含磷10%的镍磷合金层的耐磨,耐蚀性均优于2Cr13不锈钢。 相似文献
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The initial nickel deposition for the direct electroless nickel plating on non-catalytically active magnesium alloy is critical. The surface morphology and composition of the initial nickel plating coating are obtained by means of the scanning electron microscopy (SEM) and the energy dispersive X-ray (EDS). In addition, the mass gain/loss in the initial nickel deposition process was measured by using the electrobalance. The results showed that the MgO coating was gradually corroded by the plating solution, at the same time, MgF2 produced by F , H and MgO was deposited on the substrate during the initial electroless plating process. The nickel of the initial electroless plating was mostly growing on the boundary between the MgF2 coating and the MgO coating of the activation substrate, and then came to two sides. After that, the Ni-P coating growth rate to cover with the MgF2 coating was prior to the MgO coating. The electroless plating was in company with the substrate corrosion, but the electroless plating rate catalyzed by the exchanged nickel was more than the substrate corrosion rate. 相似文献