金属蒸气激光器的直流放电特性

金属蒸气激光器利用He、Ne、N2和Ar作缓冲气体,在高功率电平下的直流放电特性被首次测得。实验表明,He气是用于直流预热的最佳缓冲气体。在200mmHg的He气压和1A的放电电流下,有多于5kW的电功率被注入到等离子体管中去。等离子体管温度在短于1h的时间内达到1400℃的高温。     

无声放电辅助激励CO2激光器的研究

用具有扁平放电截面的等离子体管设计一种新颖的 CO2 激光器 ,并用纵向辉光放电和横向无声放电同时激励。阐述了这种激光器的设计原理 ,理论上讨论了激光管内电子浓度的横向分布 ,实验研究了它的工作特性 ,并与仅用辉光放电激励的情况进行比较。实验表明 ,由于横向无声放电的作用使这种激光器的激光功率、工作气压和工作气体中氮的比例有明显的提高 ,激光效率也有所提高 ,而且放电电流能兼顾最大激光输出功率和最佳效率。     

射频放电激励激光器阻抗特性实验研究

利用自行研制的传感器＾「１」,通过对射频放电电压电源以及其相位角的精确测定,结合放电管的等效电路,对内置电极射频气体放电激励激光阻抗特性进行研究,得出内置电极射频气体放电激励激光器等离子体的伏安特性曲线,以及等离子体电阻和气体压强、气体放电电流之间的关系。     

半导体激光器功率输出特性的理论分析及实验研究

本文从理论上及实验上分析研究了半导体激光器(LD)功率输出特性与其腔面反射率之间的关系.研究结果表明,通过改变LD腔面反射率,可以使其输出功率增大,也可以使其转变为新的光电器件,如超辐射发光二极管(SLD)或行波半导体激光放大器(TW-SLA)等等.在大量实验数据的基础之上建立了LD输出功率曲线阈值与腔面反射率关系的经验公式,确定了LD最佳输出功率腔面反射率以及SLD和TW-SLA的工作条件.     

空心阴极激光器放电特性的研究

本文对开槽式Ｃｕ空心阴极激光器的放电特性进行了研究，主要内容包括放电器的伏安特性和等离子体参量。本文采用双探针法测量电子温度与电子密度，在我们的实验条件下，测得空心阴极放电中电子温度为２￣３ｅＶ，电子密度为１０＾１２￣１０＾１３ｃｍ＾－３的数量级范围内，显然它们都高于正常辉光放电正柱区中这些参量的数值。     

辉光放电激励型封离CO_2激光器的新进展

本文叙述辉光放电激励型封离CO_2激光器的进展,着重介绍Au或Ag_2O_3催化剂和磁增强放电技术,使这类激光器的输出功率提高到相当于或超过慢流速CO_2激光器的水平。     

高气压电激励横流CO7连续激光器

工业用千瓦级CO2连续激光器多数采用横向电激励、快速流动气体技术。工作气压一般较低，如40-80乇。本文从理论和实验结果论述了高气压条件下激光器的工作特性。工作气压范围为80-160乇。     

射频激励平板CO2激光器放电机理的理论研究

本文以气体放电理论为基础,利用简化模型推导出射频激励平板CO2激光器气体放电击穿电压的数学关系式,指出影响激光气体放电击穿的几个物理参量。通过对激光气体放电进行数值模拟,得出放电等离子体电压－电流密度特性曲线,讨论了影响该曲线的物理因素,描述了放电等离子体的物理结构模型。把理论结论与相关实验测试结果比较,二者符合一致。     

激光表面熔铸层几何外形的研究

利用２ＫＷ横流ＣＯ２激光器，在Ａ３钢基材表面进行钴然自熔合金激光熔铸的工艺试验，着重研究激光输出功率，扫描速度，光束辐照状态，预热温度，粉末粒度以及涂层粘结剂等工艺参数对熔铸涂层几何外形主要参数界面角Φ及高宽比Ｗ的影响。     

808nm量子阱激光器电流调制特性的实验研究

本文首次对高功率GaAs/GaAIAs量子阱激光器（808nm)的低频（100Hz-20KHz)电流调制特性进行了实验研究。结果表明：激光发射的接通延迟时间、阈值电流、正脉冲的占空比、平均功率、峰值功率随调制频率和电流而变化。     

用RBS研究连续的Nd：YAG激光辐照后的铂硅界面

样品为P型的Si(111)片上真空充氩溅射了铂膜,厚度分别为540,700和1000A(用~(244)Pu同位素x光萤光法测量)。用连续的Nd:YAG激光扫描,速率恒定在14.3(mm·sec~(-1))时,功率分别为0.3,2.1,3.9,5.7和7.8W;当激光功率恒定在3W时,扫描速率分别为9.3,11.5,14.3,16.9和21.9(mm·sec~(-1))。激光辐照后,^样品的卢瑟福背散射谱(RBS)表明了界面上铂硅化物的生成,铂含量在0.19至1.05之间变化;而x-射线衍射分析(XRD)表明了界面上P_(+3)Si,P_(+12)Si_(5)和P_(+2)Si混合相的存在。     

HPL-2000CO2激光器工作气体的试验研究

针对横流HPL-2000 CO2激光器工作气体进行了试验研究,用LSQD35型冷水机组与HPL-2000激光器组成系统,能够在无氮工作气体的条件下稳定运行,使激光器运行成本大为降低。     

氩离子激光凝固家兔虹膜的实验研究

目的：研究Ar^ 激光对兔眼虹膜凝固的效果。方法：用波长532nm、功率300mW、光斑直径500μm、脉宽0．2S的Ar^ 激光分别对家兔的滴药眼和未滴药眼的虹膜近瞳孔缘处进行环状光凝固。结果：光凝固后,立即测出点药眼和未点药眼的PGE含量和瞳孔径数值差别不大,但两眼前房水混浊消退时间差别显著,结论：Ar^ 激光对虹膜凝固有临床效果。     

高速直调激光器组件异常光学特性的研究

报告了1.25Gb/s速率下采用光强度直接调制DFB激光器组件所观测到的异常动态光学特性.分析表明,直调激光器的光学特性与激光器结构、调制速率、驱动电流、管芯温度等因素紧密相关.讨论了激光器调制速率、光谱带宽等对光数字信号传输距离的限制.提出了高速光通信系统选用直调激光器光源的建议.     

常温常压下氮氢气体放电合成氨的研究

室温常压下,储存在高压钢瓶中的氮,氢气体,流经石英玻璃气套,石英玻璃气套安放在一对圆柱面电极中间,两圆柱面电极与交流电源相连接,电源的输出电压为８￣１５ｋＶ,频率为５０Ｈｚ￣２０ｋＨｚ。石英玻璃气套中的氮氢气体被高电场强度的交流电场所激活,具有了化学活泼性。常温常压下的气体分子间发生频繁的碰撞可引发化学反应。     

Detailed study about influence of oxygen on trap properties in SiOxNy by the thermally stimulated current and maximum entropy method

The trap amount depending on trap energy levels [N_t(E_t)] in various silicon oxynitride films were investigated. Using the thermally stimulated current and the maximum entropy method, we determined N_t(E_t) with very high energy resolution. In N_t(E_t), many E_t were observed between 1.2 and 1.6 eV. Interestingly, their amounts significantly depended on the film compositions. The influence of oxygen on N_t(E_t) is also discussed.     

The effects of substrate bias,substrate temperature,and pulse frequency on the microstructures of chromium nitride coatings deposited by pulsed direct current reactive magnetron sputtering

Recently, great attention has been devoted to the pulsed direct current (DC) reactive magnetron sputtering technique, due to its ability to reduce arcing and target poisoning, and its capability of producing insulating thin films. In this study, chromium nitride (CrN) coatings were deposited by the bipolar symmetric pulsed DC magnetron reactive sputtering process at different pulse frequency, substrate bias voltage, and the substrate temperature. It was observed that the texture of CrN changed from (111) to (200) as substrate temperature increased to 300°C as deposited at 2 kHz without substrate bias. With increasing pulsing bias and pulse frequency of target, predominated (200) orientation of CrN film was shown due to the ion bombardment/channeling effect to preferentially sputter those unaligned planes. For the CrN coatings deposited with pulsed biasing, the grain size decreased with increasing pulse frequency and substrate bias, whereas the surface roughness showed a reverse trend. The deposition rate of the CrN films decreased with increasing pulse frequency. It was concluded that the pulse frequency, substrate bias, and substrate temperature played important role in the texture, microstructure, and surface roughness of the CrN coatings deposited by the pulsed DC magnetron sputtering process.