氧化钒薄膜热敏特性的研究

为研究氧化钒薄膜在非致冷红外微测辐射热计中的应用,综述了制备工艺等诸多因素对氧化钒热敏特性的影响,对其机理进行了探究,结果表明掺杂和新的制备工艺是调整氧化钒热敏特性较为有效的方法.     

红外探测器光谱响应测试数据库

描述了红外探测器光谱响应测试数据库的编制过程，介绍了该数据库系统的结构，详细讨论了各部分的作用与功能，最其大特点是编制的数据库与进口的红外探测器光谱响应自动测试系统的控制软件进行了较好的衔接，解决了自动测试系统数据处理功能中存在的若干问题。     

红外探测器光谱响应自动测试系统的探讨

本文对红外探测器光谱应自动测试系统中存在的问题进行了探讨和分析，特别是对人们一般不太重视的个别问题作了较详细的实验分析，并根据调试中出现的异常情况做了多种不同的试验，分别找到了解决办法，使系统调试成功，实现了红外探测器光谱响应自动测试。     

氧化法热处理温度对氧化钒薄膜热敏特性的影响

采用直流磁控溅射法制备氧化钒薄膜,并采用不同的温度对其进行氧化法热处理,通过XRD、SEM、四探针薄膜电阻测试,分析了不同热处理温度对氧化钒薄膜的晶相特性与热敏特性的影响。实验分析证明热处理温度升高后(400℃)得到的薄膜热敏特性良好,其室温电阻为160KΩ·cm,室温电阻温度变化系数为-2.4%/℃,变温过程中(20~98℃)其平均值约-1.98%/℃,表明温度升高有利于改善薄膜热敏特性,在非制冷红外探测器应用方面具有发展潜力。     

氧化钒薄膜制备与特性研究

用磁控反应溅射法制备出具有红外敏感特性的氧化钒薄膜,进行了薄膜光电特性的测试.通过AFM和XRD对薄膜的结构和特性进行分析研究,并给出了沉积参数对薄膜性能的影响.     

红外探测器光谱响应测试数据库

描述了红外探测器光谱响应测试数据库的编制过程，介绍了该数据库系统的结构，详细讨论了各部分的作用与功能，其最大特点是编制的数据库与进口的红外探测器光谱响应自动测试系统的控制软件进行了较好的衔接，解决了自动测试系统数据处理功能中存在的若干问题。     

红外探测器光谱响应自动测试系统的探讨

本文对红外探测器光谱响应自动测试系统中存在的问题进行了探讨和分析，特别是对人们一般不太重视的个别问题作了较详细的实验分析，并根据调试中出现的异常情况做了多种不同的试验，分别找到了解决办法，使系统调试成功，实现了红外探测器光谱响应自动测试。     

全自动红外探测器相对光谱响应测量系统

用付立叶变换红外光谱仪建立了一套全自动红外探测器相对光谱响应测量系统。该系统具有光谱范围宽（１～２５μｍ）、测量速度快、准确度高、操作简便等特点，应用前景广泛。     

氧化钒-氧化石墨烯复合薄膜的制备及其光电特性

基于溶胶凝胶法,采用旋涂和喷涂相结合的工艺,制备了氧化钒（VO_x,1≤x≤2.5）-氧化石墨烯（GO）复合薄膜。利用SEM、XRD、椭偏仪、紫外可见分光光度计、FTIR及高阻仪对所制薄膜的形貌、晶相、光学及电学性能进行了系统的表征测试。结果表明,加入GO之后,VO_x-GO复合薄膜的电阻率由108.78 Ω·cm下降至68.64 Ω·cm,而薄膜的电阻温度系数（TCR）则由-1.98% K^-1提高至-2.60% K^-1。此外,VO_x-GO复合薄膜还具有更高的光吸收率和工作稳定性。说明GO的加入增强了VO_x薄膜作为非制冷红外探测器热敏材料的综合性能。本研究为探索基于VO_x的新型红外热敏材料提供了参考,同时也对非制冷红外探测器的发展有促进作用。     

电容式非制冷红外探测器的设计与热力学特性分析

本文设计了一种基于MEMS工艺的电容式非制冷红外探测,并利用ANSYS对器件的热力学特性进行了分析.使用ANSYS模拟研究了器件温度响应、位移响应与吸收的红外辐射能量的关系,研究了器件结构尺寸对器件性能参数的影响.红外探测器的温度响应和位移响应与吸收的红外辐射能量呈线性关系;随着红外探测器结构尺寸的增加,其温度响应度、位移响应度、热时间常数都随之增加,探测能力增强,但瞬态响应特性降低;当铝膜与氮化硅层的厚度比为0.5～0.6时,器件的位移响应度最大.     

氧化钒薄膜的制备技术及特性研究

采用直流反应磁控溅射法，通过精确控制反应溅射电压优化了氧化钒薄膜的制备工艺。对制备的氧化钒薄膜，利用四探针测试仪检测了薄膜的方阻和方阻温度系数，用X射线光电子能谱（XPS）仪和原子力显微镜（AFM）对薄膜的钒氧原子比和薄膜的微观形貌分别进行了分析和表征。实验结果表明，利用精确控制反应溅射电压法生长出的氧化钒薄膜的性能得到了进一步的提高。     

氧化钒薄膜的制备技术及特性研究

采用直流反应磁控溅射法,通过精确控制反应溅射电压优化了氧化钒薄膜的制备工艺.对制备的氧化钒薄膜,利用四探针测试仪检测了薄膜的方阻和方阻温度系数,用X射线光电子能谱(XPS)仪和原子力显微镜(AFM)对薄膜的钒氧原子比和薄膜的微观形貌分别进行了分析和表征.实验结果表明,利用精确控制反应溅射电压法生长出的氧化钒薄膜的性能得到了进一步的提高.     

氧化钒薄膜的微观结构研究

采用直流反应磁控溅射法在不同基片上制备了80nm和1000nm厚的氧化钒薄膜.采用X射线衍射仪、原子力显微镜及扫描电镜进行了薄膜微观结构分析.结果表明,薄膜的晶化受衬底影响较大,晶化随膜厚的增加而增强.不同衬底上生长的薄膜晶粒尺寸存在较大差异,Si3N4/Si衬底上生长的薄膜晶粒细小,薄膜较为平坦;玻璃衬底、Si衬底和α-Al2O3陶瓷衬底上生长的薄膜晶粒较为粗大.随着膜厚的增加,薄膜的晶粒尺寸明显增大,不同衬底上生长的二氧化钒薄膜晶粒都具有一种独特的"纺锤"形或"棒"形.     

红外微测辐射热计用纳米氧化钒薄膜的制备和性能研究

具有优异热敏性能的氧化钒薄膜材料是红外测辐射热计的首选热敏电阻材料，合适的薄膜电阻及高温度电阻系数的氧化钒薄膜的制备是实现高探测率红外测辐射热计的保证．利用新型对靶反应磁控溅射工艺制备了具有纳米颗粒的氧化钒薄膜材料，确定了最佳工艺参数．对其组成、结构和性能进行了分析，原子力显微镜AFM形貌分析表明薄膜具有均匀致密的表面，X射线光电子能谱分析XPS确定了其组成成分主要为V2O5,VO2和少量的V2O3.在常用作微测辐射热计结构层材料的氮化硅基底上，该薄膜材料在室温附近具有合适的薄膜电阻（大约为每方14kΩ）以及高的温度电阻系数（-3．17％／℃），有望适用于非致冷红外测辐射热计探测器．     

氧化钒薄膜的厚度对薄膜电学特性的影响

利用直流反应磁控溅射法在表面覆盖有Si3N4薄膜的Si(100)基片上制备了不同厚度的氧化钒薄膜.用光谱式椭偏仪对薄膜的厚度进行了测试.采用四探针测试系统对制备的薄膜进行了方阻和方阻温度系数的分析,发现薄膜的厚度对薄膜的电学特性有很大的影响.实验结果表明氧化钒薄膜的厚度调整可作为调控氧化钒薄膜性能的一种重要工艺手段.     

可调制激光器的红外探测器响应测试系统

为了解决红外探测器生产、科研和测试中对响应均匀性,一致性和成品率的要求,用可调制半导体激光器替代黑体辐射源,设计了一套红外探测器表面响应测试系统.该系统应用计算机技术控制二维扫描平台,完成探测器平面的响应数据采集,通过VB调用MATLAB三维图形输出技术,直观的反映出探测器表面的响应情况.该系统自动完成整个测试过程,测试精度达到了0.001 2V,为探测器的自动化检测和科研提供了先进的方法和测试平台.     

硅基低维红外探测薄膜材料的研究概况

Si基探测器与硅读出电路的单片集成不仅使光电芯片在性能上得到重要改善,还可极大地降低成本.在对量子阱、量子点原理描述的基础上,综述了它们应用于薄膜红外探测材料的研究进展,提出了近期工作的重点.     

激光辐照参数对光导型光电探测器响应的影响

文章针对激光照射下光导型碲镉汞光电探测器的响应特性展开了研究,主要讨论了强激光照射下辐照时间、波长及光功率密度对探测器响应特性的影响.从传统载流子的漂移扩散模型出发,在考虑温度的变化下推导出描述半导体载流子的动态方程,并通过数值模拟,给出了理论上的激光辐照主要参数对探测器电阻及输出电压的影响.结果表明:半导体探测器材料...     

红外吸收法在钒中碳分析中的应用研究

用LECO CS600碳硫分析仪研究了高频燃烧-红外吸收法测定钒中的碳的分析方法,结果表明,称样量0.25~0.35 g,分析时间30 s,WSn助熔剂质量1.3~1.6 g时,分析方法有良好的准确度和精密度,碳的分析下限达0.003%(质量分数)。