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《电子科技文摘》2000,(10)
Y2000-62067-446 0015944纳米晶体 TiO_2光敏电极界面上的 W~(+6)/W~(+5)氧化还原反应=W~(+6)/W~(+5) redox reactions at the interface ofthe nanocrystauine TiO_2 photoactive electrode[会,英]/Li,Y-X.& Hagen,J.//1998 IEEE InternationalConfefence on Phtoelectronic and Microelectronic Materi-als and Devices.—446~449(EC)Y2000-62067-493 0015945在 PECVD SiN_x 自支撑结构建造中作为保护层的 ZnS应用=The use of ZnS as a sacrificial layer in the con-struction of PECVD SiN_x self-supporting Structures[会,英]/Winchester,K.& Spaargaren,S.M.R.//1998IEEE Intemational Conference on Phtoelectronic and Mi-croelectronic Matefials and Devices.—493~496(EC)0015946AI-10Sn-4Si 合金高温塑性变形的流变应力特征[刊]/袁鸽成//广东工业大学学报.—2000,17(2).—1~5,23(K)0015947用 CH_3CSNH_2钝化 GaP 表面特性的研究[刊]/林秀华//发光学报.—2000,21(2).—115~119(E) 相似文献
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《电子科技文摘》2006,(9)
0622632超高碳球墨铸钢组织特征研究[刊,中]/栾道成//西华大学学报(自然科学版).—2006,26(1).—1-5(G)采用作者研究发明的新型球化剂,对超高碳钢钢水孕育处理,使铸态获得球状石墨的球墨铸钢;并分析了球墨铸钢铸态、退火、正火、锻造后的组织特征,同时观察到球墨铸钢正火、锻造处理可获得大量的球状碳化物现象,与传统的高碳钢碳化物球状工艺有显著的差异。参8 0622633光催化纳米二氧化钛在净化领域中的应用进展[刊,中]/曹平//洁净与空调技术.—2006,(5).—21-24(G)介绍了纳米TiO_2光催化剂的光催化原理,对光催化纳米TiO_2在净化领域中的最新研究进展进行了综述,其中包括:空气净化,抗菌,污水处理,防污自洁等方面。参24 相似文献
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《电子科技文摘》2006,(12)
0632046 Thermal fatigue behavior of niobium microalloyed H13 steel=铌微合金化H13钢的热疲劳行为[刊,英]/胡心彬//上海大学学报(英文版).-2006,10(4).-375- 376(E) 0632047铁改性TiO2光催化性能研究进展[刊,中]/黄雪锋//合肥工业大学学报(自然科学版).-2006.29(9).- 1124-1128(C) 0632048缺口疲劳极限预测的半椭圆面积法[刊,中]/管德清//长沙理工大学学报(自然科学版).-2006,3(3).-74- 77,97(E) 0632049分子相互作用体积模型与正规溶液模型在二元固态合金中的比较研究[刊,中]/高逸锋//昆明理工大学学报(理工版).-2006,31(4).-13-17(C) 相似文献
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《电子科技文摘》2003,(3)
Y2002-63302-126 0304920磁场内电荷有序化合物 La_(0.5)Ca_(0.5)MnO_3的超声研究=Ultrasonic investigation of charge-ordering compoundLa_(0.5)Ca_(0.5)MnO_3 under magnetic field[会,英]/Zhu,C.F.& Zheng,R.K.//2001 IEEE Hong Kong ElectronDevices Meeting.—126~129(E)Y2002-63302-140 0304921氢化物汽相外延(HVPE)氮化镓模板上的氮化镓薄膜特性=Characterization of GaN thin films on HVPE GaNtemplares[会,英]/Zhu,C.F.& Fong,W.K.//2001IEEE Hong Kong Electron Devices Meeting.—140~143(E) 相似文献
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《电子科技文摘》2000,(5)
Y2000-62004-213 0007255溅射参数对氧化锌薄膜的生长与压电特性的影响=Effect of the sputtering parameters on the growth andpiezoelectric properties of zinc oxide thin film[会,英]/Kutepova,V.P.& Hall,D.A.//Proceedings of 1998IEEE Ultrasonics Symposium,Vol.1.—213-216(Z)本文叙述了 ZnO 薄膜在声表面波(SAW)传感器中的应用潜力。用 RF 磁控管溅射法将 ZnO 薄膜淀积到 Al/SiO_2/Si 衬底上。通过改变溅射压力与衬底温度及精心选择其它溅射参数,使薄膜晶格应力充分减弱。本文叙述了基于 ZnO 薄膜的谐振器的设计与性能。 相似文献
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《电子科技文摘》2000,(8)
Y2000-62067-209 0012437采用微波增强等离子体 MOCVD 生长 CaN=Growthof CaN by microwave plasma enhanced MOCVD[会,英]/Sani,R.A.& Barmawi,M.//1998 IEEE Inter-national Conference on Optoelectronic and MicroelectronicMaterials and Devices.—209~214(EC)Y2000-62067-322 0012438采用金属有机化学汽相淀积技术制备高生长率透明导电氧化锌薄膜=High growth rate transparent conduct-ing Zinc-Oxide thin film prepared by metalorganic chemi-cal vapor deposition technique for device application[会,英]/Wenas,W.W.& Setiawan,A.//1998 IEEE In-ternational Conference on Optoelectronic and Microelec-tronic Materials and Devices.—322~324(EC)0012439Ba_(1-x)Ca_xSn_yTi_(1-y)O_3固溶体的合成与介电性能[刊]/丁士文//河北大学学报.—2000,20(2).—177~178(E) 相似文献